「linear plasma」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

The plasma processing section is provided with a linear opening 16b for blowing out fluorine based plasma gas, and a diffuser 35 for widening the irradiation width of the linear opening.例文帳に追加

プラズマ処理部は、プラズマ化したフッ素系ガスを吹き出すライン状の吹き出し口１６ｂを備えており、吹き出し口の照射幅を広げる拡散板３５を備える。 - 特許庁

A linear deflecting plate 11 is installed on the light emission surface side of a plasma display panel 20.例文帳に追加

プラズマディスプレイパネル２０の発光出射面側に直線偏向板１１を設置する。 - 特許庁

The film deposition system comprises: a plasma chemical vapor growth means having a plasma linear source 7; an ion etching treatment means having an ion etching roller 5 arranged at prescribed intervals with the plasma linear source 7; and a film conveying means making a film 3 pass between the plasma linear source 7 and the ion etching roller 5.例文帳に追加

本発明の成膜装置は、プラズマリニアソース７を有するプラズマ化学気相成長手段と、プラズマリニアソース７と所定間隔をおいて配置されているイオンエッチングローラー５を有するイオンエッチング処理手段と、プラズマリニアソース７とイオンエッチングローラー５との間においてフィルム３を通過させるフィルム搬送手段と、を具備する。 - 特許庁

The prescribed linear function is selected from a plurality of linear functions in accordance with the opening ratio of the pattern in a thin film to be plasma-etched.例文帳に追加

所定の線形関数は、プラズマエッチングされる薄膜のパターン開口率に応じて、複数の線形関数の中から選択される。 - 特許庁

To provide a linear plasma mass filter which is equipped with a substantially linear constitution to an electric field and in which charged particles of different masses can be more precisely classified.例文帳に追加

電界に対して実質的に直線構成をそなえ、異なる質量の荷電粒子を更に精密に区別する線形プラズマ質量フィルタを提供する。 - 特許庁

Minute linear plasma is generated in an atmospheric pressure reaction container 41 filled with a process gas by using an electrode having linear conductors 51a, 52a.例文帳に追加

線状導電体５１a,５２aを有する電極を用い、プロセスガスで充満させた大気圧の反応容器４１内で、微細なライン状プラズマを発生させる。 - 特許庁

Linear solid injection material or liquid injection material is accelerated by gas pressure and injected into a plasma 2.例文帳に追加

線状の固体注入物質または液体注入物質をガス圧で加速しプラズマ２に注入する。 - 特許庁

The planar plasma can be apparently formed by diffusing the linear plasma by adjusting the process gas or a voltage application means 44.例文帳に追加

また、プロセスガスまたは電圧印加手段４４を調整することによって、上記ライン状プラズマを拡散させて、見掛け上、面状プラズマを形成する。 - 特許庁

To prevent damages by making a potential difference between linear conductive interconnections and other elements small when irradiating plasmas in plasma treatment of a substrate with the linear conductive interconnections.例文帳に追加

直線状導電性配線を有する基板のプラズマ処理において、プラズマ照射時の導電性配線と他要素との電位差を小さくし、ダメージを防止する。 - 特許庁

To provide an atmospheric-pressure plasma generation head capable of stably providing a highly-uniform processing region, in an atmospheric-pressure plasma head for generating a linear processing region.例文帳に追加

ライン状の処理領域を生成する大気圧プラズマヘッドにおいて、均一性の良い処理領域を安定して得られる大気圧プラズマ生成ヘッドを提供する。 - 特許庁

To provide a plasma source equipped with a ferrite structure in which the ferrite structure is installed in arch shape on a linear antenna of a built-in type inductively coupled plasma generating device and a field formed radially from the linear antenna can be concentrated on a treating substrate, and to provide a plasma generating device employing the same.例文帳に追加

内蔵型誘導結合プラズマ発生装置の線形アンテナ上にフェライト構造体をアーチ型に装着し、線形アンテナから放射状に形成されるフィールドを処理基板に集中させることができるフェライト構造体を備えるプラズマソース及びこれを採用するプラズマ発生装置を提供する。 - 特許庁

MICROWAVE ION SOURCE, LINEAR ACCELERATOR SYSTEM, ACCELERATOR SYSTEM, ACCELERATOR SYSTEM FOR MEDICAL USE, HIGH ENERGY BEAM APPLICATION SYSTEM, NEUTRON GENERATING DEVICE, ION BEAM PROCESSING DEVICE, MICROWAVE PLASMA SOURCE, AND PLASMA PROCESSING DEVICE例文帳に追加

マイクロ波イオン源、線形加速器システム、加速器システム、医療用加速器システム、高エネルギービーム応用装置、中性子発生装置、イオンビームプロセス装置、マイクロ波プラズマ源及びプラズマプロセス装置 - 特許庁

A plasma generating target 12 generating plasmas by irradiating a laser L for plasma generation, a vacuum container 16 pulling out ions from the plasmas generated from the plasma generating target 12, directly attached to an ton entrance 38 of an ion linear accelerator 30 and the ion linear accelerator 30 are connected in series, ions are made to come directly into the ion linear accelerator 30 using a dispersion speed of the plasmas.例文帳に追加

プラズマ発生用レーザーＬを照射してプラズマを発生させるプラズマ発生ターゲット１２と、プラズマ発生ターゲット１２から発生したプラズマよりイオンを引き出すとともに、イオン線形加速器３０のイオン入射口３８に、直接、取り付けられる真空容器１６と、イオン線形加速器３０とが直列に接続され、プラズマの拡散速度を利用して、イオン線形加速器３０に、直接、イオンを入射するように構成した。 - 特許庁

Thereby, linear arc plasma extending in a longitudinal direction along the shape of the emitting port 20a can be emitted from the chamber 3.例文帳に追加

これにより、射出口２０ａの形状に倣って長手方向に伸びる線状アークプラズマをチャンバ３から射出することができる。 - 特許庁

To provide a magnetic neutralline discharge plasma treatment device in which uniform treatment to the whole area of the large-area rectangular substrate is made possible by applying simultaneously a plurality of linear magnetic neutralline discharge plasma.例文帳に追加

複数の直線状磁気中性線放電プラズマを同時に適用して大面積矩形基板全域への均質処理を可能とした磁気中性線放電プラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To widen a range of application of plasma processing by enabling to efficiently carry out the plasma processing by applying a pulse corona discharge, for example, by using a coaxial cylinder-shaped reactor having a linear electrode and a cylinder-shaped electrode.例文帳に追加

線状電極と筒状電極を有する例えば同軸円筒型のリアクタを用いたパルスコロナ放電によるプラズマ処理を効率よく行えるようにして、プラズマ処理の適用範囲を広げる。 - 特許庁

Microwaves are fed into the waveguide 21 of the plasma generating furnace 10, and the treating gas G introduced to the linear section 23b of the plasma generating tube 23 extending in the waveguide 21 is converted into a plasma by the standing waves of the microwaves formed in the waveguide 21.例文帳に追加

その後、プラズマ発生炉１０の導波管２１にマイクロ波を送り込み、導波管２１の内部に形成されるマイクロ波の定在波により、導波管２１内に延在するプラズマ発生管２３の直線部２３ｂに導入された処理ガスＧをプラズマ化させる。 - 特許庁

The plasma chemical vapor growth means performs film deposition to the film 3 by inductively coupled plasma generated by the plasma linear source 7, and, simultaneously with this film deposition, the ion etching treatment means performs ion etching treatment to the film 3 by ions from the ion etching roller 5.例文帳に追加

前記プラズマ化学気相成長手段は、プラズマリニアソース７により発生する誘導結合プラズマによってフィルム３に成膜を行い、この成膜と同時に前記イオンエッチング処理手段はイオンエッチングローラー５からのイオンによってフィルム３にイオンエッチング処理を行う。 - 特許庁

This exhaust gas treatment apparatus is provided with a non-thermal plasma reactor having the inlet/outlet port of exhaust gas, a linear electric conductive substance disposed in the reactor, and a non-thermal plasma generating means in the reactor.例文帳に追加

排ガスの出入り口を設けた非熱プラズマ反応器と、その反応器の内部に配置された線状導電性物質と、その反応器内に非熱プラズマを発生させる手段とを備えた排ガス処理装置である。 - 特許庁

To generate stable linear plasma with a simple structure and long in an axial direction of a discharge tube without using high vacuum and high voltage when generating the plasma using electromagnetic energy of a microwave.例文帳に追加

マイクロ波の電磁エネルギーを利用してプラズマを発生させる場合、高真空や高電圧を使用することなく、簡単な構成で放電管の軸方向に長い安定したライン状のプラズマを発生させること - 特許庁

The first adjustment mechanism 21 includes apertures of different width in a plurality of positions in the lengthwise direction of the line state plasma, while the second adjustment mechanism includes apertures with a uniform width over the lengthwise direction of the linear state plasma.例文帳に追加

第１の調整機構２１はライン状プラズマの長さ方向の複数位置において幅が異なる開口を持ち、第２の調整機構はライン状プラズマの長さ方向に渡り均一な幅の開口を有している。 - 特許庁

In this case, the length of the linear injection material is determined so that the time obtained by dividing the length by an injection speed into the plasma becomes 50 microsecond or more.例文帳に追加

ここで、線状の注入物質またはの長さは、プラズマへの注入速度で除して得られる時間が50マイクロ秒以上となるよう定める。 - 特許庁

While the linear sequential scanning of the plasma cell 2 is performed by sequentially applying a selection pulse between a pair of discharge electrodes A, K assigned to each of the discharge channels 5 to excite plasma discharge, an image signal is applied to each of the signal electrodes Y of the display cell 1 synchronously with the linear sequential scanning so as to carry out image display.例文帳に追加

各放電チャネル５に割り当てられた一対の放電電極Ａ，Ｋ間に順次選択パルスを印加してプラズマ放電を励起することでプラズマセル２の線順次走査を行なう一方、線順次走査に同期して表示セル１の各信号電極Ｙに画像信号を印加して画像表示を行なう。 - 特許庁

By applying predetermined voltage between the linear electrode 21 and the cylindrical electrode 22, discharge is produced, gas is changed to plasma, and ozone and various kinds of radicals are produced.例文帳に追加

線状電極２１と円筒状電極２２との間に所定の電圧を印加することで放電が生じ、ガスがプラズマ化されてオゾンや各種のラジカルが生成される。 - 特許庁

The wire bonding device has a plasma capillary 40 configured, including a cylindrical plasma capillary body 42, consisting of an insulator, a cylindrical external electrode 56 fitted outside the plasma capillary body 42, a linear internal electrode 54 disposed at the center of the external electrode 56, and a sealing-gas nozzle 74 fitted on the outer periphery of the internal electrode 54.例文帳に追加

ワイヤボンディング装置は、絶縁体からなる筒状のプラズマキャピラリ本体４２と、その外側に取り付けられた円筒状の外部電極５６と、その中心に配設された線状の内部電極５４と、その外周に取り付けられたシールガスノズル７４とを含んで構成されるプラズマキャピラリ４０を備えている。 - 特許庁

A discharge tube 3 for generating plasma is attached to a wave guide tube 1 guiding the microwave so that the whole or a part of it is inserted into the wave guide tube to provide the device for generating linear plasma which is long in a longitudinal axial direction y' of the discharge tube.例文帳に追加

マイクロ波を誘導する導波管１に対して、プラズマ発生用の放電管３をその全部または一部が導波管内へ入り込む状態に装着し、放電管の長手軸方向y’に沿って長いライン状のプラズマを発生させる装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a linear carbon material and a functional device, by which low temperature PECVD (plasma-enhanced chemical vapor deposition) can be carried out and inexpensive manufacture using a glass substrate or the like can be carried out.例文帳に追加

低温でのＰＥＣＶＤを可能にして、ガラス基板等を使用して低価格で実施可能な線状炭素材料、及び機能デバイスの製造方法を提供すること。 - 特許庁

The electromagnetic waves with good directivity and a defined frequency band can be irradiated by generating one or a plurality of linear laser plasma on the inspection object surface.例文帳に追加

生成するプラズマは被検査物表面に１本あるいは複数の線状のレーザープラズマを生成させて指向性の良い、決められた周波数帯を持った電磁波を放射させることが出来る。 - 特許庁

Plasma of an encapsulated gas is generated with the incident high-energy particle beam 3 by encapsulating the gas in a waveguide 1 of a linear decelerator, the generated plasma is resonated and vibrated in the waveguide, and the plasma vibration energy is supplied to a load device 9 by taking it out to the outside by electrodes 5a-7a as electrical energy.例文帳に追加

線形減速器の導波管１にガスを封入しておくことによって入射した高エネルギー粒子ビーム３により封入ガスのプラズマを発生させ、発生したプラズマを導波管内で共鳴振動させ、プラズマ振動エネルギーを電極５ａ〜７ａによって電気エネルギーとして外部に取り出して負荷装置９に供給するように構成する。 - 特許庁

The plasma etching system is provided with: a sensor 22 provided between a discharge electrode and a high frequency power source and measuring the higher harmonic component of the reactance in plasma; and a means 24 of calculating the end point time of etching corresponding to the average value of the high frequency component utilizing a prescribed linear function.例文帳に追加

プラズマエッチング装置は、放電電極及び高周波電源の間に設けられ、プラズマのリアクタンスの高調波成分を測定するセンサ２２と、所定の線形関数を利用して、前記高周波成分の平均値に対応するエッチングの終点時間を算出する手段２４とを備える。 - 特許庁

To provide a method for printing a thick film pattern free from a visible undulation in the image line part of printed matter in the film thickness direction and the linear widthwise direction, and to provide a method for printing an electrode pattern of a plasma display panel.例文帳に追加

印刷物の画線部に見られる膜厚方向及び線幅方向のうねりを無くした厚膜パターンの印刷方法及びプラズマディスプレイパネルの電極パターンの印刷方法を提供する。 - 特許庁

An electron emission part 13 is manufactured by forming unevenness by threading work on a linear conductive wire 20, and by film-forming a carbon nano tube 29 to become an electron emission part by a DC plasma CVD device.例文帳に追加

線状の導線２０に、ネジ切り加工して凹凸を形成し、ＤＣプラズマＣＶＤ装置によって、電子放出部となるカーボンナノチューブ２９を成膜して電子放出部１３を製造する。 - 特許庁

The carbonaceous linear structural material is grown to cross link between the counter electrodes with the catalyst layer 7 as the starting point by a plasma enhanced CVD method while applying voltage between the counter electrodes.例文帳に追加

対向電極間に電圧を印加しながら、プラズマ強化ＣＶＤ法によって、触媒層７を起点として対向電極間を架橋するように、炭素系線状構造材料を成長させる。 - 特許庁

To provide a microwave ion source or a plasma source stabilizing beam current without precise magnetic field adjustment by reducing change of plasma density caused by change of strength of magnet field in axial direction or ion beam current, and to provide an application device utilizing the above devices such as a linear accelerator system, an accelerator system for medical use, or the like.例文帳に追加

軸方向磁場の強度変化によるプラズマ密度或いはイオンビーム電流の変化を低減し、精密な磁場調整なしでビーム電流を安定化するマイクロ波イオン源或いはプラズマ源と、それを利用した線形加速器システム、医療用加速器システム等の機器等の応用装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a glass substrate with metal electrodes, in which the reliability of a plasma display panel is not deteriorated even though linear silver electrodes are covered with a dielectric layer comprising B_2O_3-containing glass with low-melting.例文帳に追加

Ｂ_2Ｏ_3含有低融点ガラスを含有する誘電体層によって線状銀電極を被覆してもプラズマディスプレイパネルの信頼性が低下しない金属電極付きガラス基板の製造方法の提供。 - 特許庁

The surface treating apparatus is equipped with a straight linear filament 40 for emitting thermions and an anode 42 for generating plasma by accelerating the thermions to collide with gaseous particles.例文帳に追加

この発明に係る表面処理装置は、熱電子を放出する直線状のフィラメント４０と、当該熱電子を加速させて気体粒子に衝突させることによってプラズマを発生させるアノード４２と、を備えている。 - 特許庁

In the discharge plasma treatment device, the magnetic field generating means is constructed of at least two linear current bars arranged on the outside of the vacuum chamber in parallel to the treatment surface of the treated object arranged in the vacuum chamber and at least one linear magnetic neutral conductor is formed in the vacuum chamber between the adjoining linear current bars .例文帳に追加

本発明による放電プラズマ処理装置においては、磁場発生手段を、真空チャンバ外で真空チャンバ内に配置される被処理物の処理表面に平行に配列された少なくとも二つの直線状電流棒で構成し、隣接した直線状電流棒の間の真空チャンバ内に少なくとも一つの直線状磁気中性線を形成するように構成したことを特徴としている。 - 特許庁

To obtain a manufacturing method for forming a linear through-hole for exhaust in parallel with the vertical barrier rib by a simple process in a plasma display panel in which a discharge space is partitioned by the vertical barrier rib and the lateral barrier rib.例文帳に追加

縦隔壁と横隔壁によって放電空間が区画されたプラズマディスプレイパネルにおいて、縦隔壁に平行で直線的な排気用の貫通孔を簡略な工程で横隔壁上に設けるための製造方法を得る。 - 特許庁

In the plasma generator, a linear electrode 21 is arranged in a region 14 inside a cylindrical porous ceramic member 6, and a cylindrical electrode 22 is arranged on an outer side surface 6a of the porous ceramic member 6, the outer side surface facing a liquid.例文帳に追加

円筒状の多孔質セラミックス部材６の内側の領域１４に線状電極２１が配設され、多孔質セラミックス部材６の液体に臨む外側表面６ａ上に円筒状電極２２が配設されている。 - 特許庁

To provide a method for producing a glass substrate with metal electrodes, in which the fear that the reliability of a plasma display panel is deteriorated is lowered even though linear silver electrodes are covered with a dielectric layer comprising B_2O_3-containing glass with a low melting point.例文帳に追加

Ｂ_2Ｏ_3を含有する低融点ガラスを含有する誘電体層によって線状銀電極を被覆してもプラズマディスプレイパネルの信頼性低下のおそれが小さい金属電極付きガラス基板の製造方法の提供。 - 特許庁

In this plasma display panel constituted by arranging a front surface substrate wherein a plurality of pairs of scan electrodes and sustaining electrodes are arranged and a rear surface substrate wherein a plurality of data electrodes arranged perpendicular to the scan electrodes and the sustaining electrodes facing each other, a linear expansion coefficient of the front surface substrate is smaller than a linear expansion coefficient of the rear surface substrate.例文帳に追加

複数の対となる走査電極および維持電極が配列された前面基板と、前記走査電極および前記維持電極と直交するように複数のデータ電極が配列された背面基板とを対向配置して構成したプラズマディスプレイパネルにおいて、前記前面基板の線膨張率が前記背面基板の線膨張率よりも小さい。 - 特許庁

In this manufacturing method of an electrode substrate for a plasma display panel, a transparent conductive film formed on a surface of a transparent substrate 10 is irradiated with a laser beam L for eliminating the transparent conductive film to form many parallel and linear gaps 21, and the transparent conductive films remained between the parallel and linear gaps 21 are used as filament electrodes.例文帳に追加

透明基板１０の表面に形成された透明導電膜にレーザ光Ｌを照射し、透明導電膜を消失させて多数の平行な直線状空隙２１を形成し、この直線状空隙２１の間に残った透明導電膜を線状電極とする、プラズマディスプレイパネルの電極基板を製造する方法である。 - 特許庁

A method for manufacturing a flexible metal-clad laminate includes: (a) forming on a metal layer a first polyimide layer having a coefficient of linear thermal expansion of 25 ppm/K or less; (b) plasma-treating a surface of the first polyimide layer; and (c) forming on the first polyimide layer a second polyimide layer having a coefficient of linear thermal expansion of 25 ppm/K or less.例文帳に追加

フレキシブル金属積層板の製造方法は、（ａ）金属層の上部に線熱膨張係数が２５ｐｐｍ／Ｋ以下の第１ポリイミド層を形成する段階と、（ｂ）第１ポリイミド層の表面をプラズマ処理する段階と、（ｃ）第１ポリイミド層の上部に線熱膨張係数が２５ｐｐｍ／Ｋ以下の第２ポリイミド層を形成する段階と、を含む。 - 特許庁

To make brightness characteristics with respect to an original video signal to be linear in either of non-inversion driving time or inversion driving time when a plasma address type liquid crystal display element is driven by a common anode inversion driving method.例文帳に追加

コモンアノード反転駆動方式によってプラズマアドレス型液晶表示素子を駆動する場合に、非反転駆動時および反転駆動時のいずれにおいても、元の映像信号に対する輝度の特性を直線的にすることができるようにする。 - 特許庁

To provide a doping system generating plasma (ion), accelerating it by high voltage to form an ion current, irradiating a substrate with it and furthermore, irradiating the substrate with a linear laser beam, and especially suitable for treatment of a wide area substrate.例文帳に追加

プラズマ（イオン）を発生させて、これを高電圧で加速してイオン流を形成し、これを基板に照射し、更に基板に線状レーザー光を照射するドーピング装置において、特に大面積基板を処理するのに適した装置を提案する。 - 特許庁