microscratchesとは 意味・読み方・使い方

To provide cleaning equipment and a cleaning method where polishing slurry and microscratches are not left, in a cleaning process after chemical- mechanism polishing.例文帳に追加

化学機械研磨後の洗浄工程において、研磨スラリーやマイクロスクラッチが残留しない洗浄装置と洗浄方法を提供する。 - 特許庁

As a result, feeding of the slurry containing defective grains is avoided before polishing, and stable polishing of a workpiece is achieved, to thereby prevent formation of microscratches on the workpiece.例文帳に追加

その結果、研磨時における欠陥のあるスラリー供給を防ぎ、安定した研磨を行うことにより、マイクロスクラッチの形成を防止する。 - 特許庁

To obtain a method for fabricating a semiconductor device having a dense wiring part and a wiring isolation part in which erosion is prevented from been caused while preventing microscratches on the surface of an oxide film.例文帳に追加

配線密集部と配線孤立部を含む半導体装置の製造方法において、エロージョンの発生を防止するとともに、酸化膜表面のマイクロスクラッチの発生を防止すること。 - 特許庁

After that, hydrofluoric acid based etching chemical solution is supplied to the semiconductor substrate while a disk brush is pressed against the surface of the semiconductor substrate and rotated in another chamber, and an oxide film formed on the surface is etched, thereby eliminating microscratches.例文帳に追加

その後、別のチャンバーでディスクブラシを半導体基板表面に押圧し回転させながら、フッ酸系のエッチング性薬液を半導体基板に供給し、基板表面に形成された酸化膜をエッチングしてマイクロスクラッチを除去する。 - 特許庁

To provide a polishing material slurry which achieves surface polishing with high surface evenness, small surface roughness and excellent precision hardly causing surface microscratches, surface micropits, or the like, and besides, achieves a high polishing speed.例文帳に追加

表面平坦性が高く、表面粗さが小さく、表面の微小スクラッチや微小ピットなどをほとんど生じさせないような精度に優れた表面研磨を達成しつつ、かつ、速い研磨速度を達成することができる研磨材スラリーを提供する。 - 特許庁

To provide an abrasive slurry and abrasive fine powder therein capable of attaining high abrasive speed while attaining such a high-accuracy surface polish as to be high in surface flatness, low in surface roughness and substantially produce neither surface microscratches nor micropits in making a precision polishing of electronics-related substrates or the like.例文帳に追加

エレクトロニクス関連の基板等の精密研磨において、表面平坦性が高く、表面粗さが小さく、表面の微小スクラッチや微小ピット等をほとんど生じさせないような精度の高い表面研磨を達成しつつ、かつ、速い研磨速度を達成することができる研磨材スラリー及び研磨微粉を提供すること。 - 特許庁