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n-Channel Metal-Oxide Semiconductorとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 N型金属酸化膜半導体
「n-Channel Metal-Oxide Semiconductor」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 18件
Also, an NMOS (n-channel metal oxide semiconductor) 14 is made an on-state by the level of the storage node N1.例文帳に追加
また、NMOS14は、記憶ノードN1のレベルによってオン状態となっている。 - 特許庁
Thus, the pMOS (P-channel metal oxide semiconductor) active region 6 of SOI and the nMOS (N-channel MOS) active region 8 of SOI can be electrically separated completely.例文帳に追加
これにより、SOIのpMOS活性領域6と、SOIのnMOS活性領域8とを電気的に完全に分離することができる。 - 特許庁
A first transistor M1 is an N-channel MOSFET (metal oxide semiconductor field effect transistor) in which a first terminal 12 of a conduction channel, a gate 14 and a back gate 16 are connected to a terminal P1 to be protected.例文帳に追加
第1トランジスタM1は、伝導チャンネルの第1端子12、ゲート14およびバックゲート16が、保護対象となる端子P1に接続されたNチャンネルMOSFET(Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor)である。 - 特許庁
Thus, the size of a N-channel MOS (metal oxide semiconductor) transistor 8 of the memory cell MC is reduced, and the layout area is reduced.例文帳に追加
よって、メモリセルMCのNチャネルMOSトランジスタ8のサイズを小さくすることができ、レイアウト面積が小さくて済む。 - 特許庁
The memory transistor MTr has a NMOS(n-type metal oxide semiconductor) structure and memorizes data from a state where many carriers are accumulated in a channel body 39.例文帳に追加
記憶トランジスタMTrは、NMOS構造を有しており、チャネルボディ39の多数キャリア蓄積状態によりデータを記憶する。 - 特許庁
An Nch-DMOS(N-channel double diffusion metal oxide semiconductor) ND1 of common gate configuration is used for a high breakdown voltage resistor to transfer the current signal to a low side.例文帳に追加
その電流信号を、ゲート接地構成のNch−DMOSトランジスタND1を高耐圧抵抗として用いてローサイドに伝達する。 - 特許庁
A charging transistor M2 is an N-channel MOSFET (Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor) disposed between the high voltage terminal VH and the power terminal VCC and biased to be normally on.例文帳に追加
充電用トランジスタM2は、ハイ電圧端子VHと電源端子VCCの間に設けられ、ノーマリオンとなるようバイアスされたNチャンネルMOSFET(Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor)である。 - 特許庁
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「n-Channel Metal-Oxide Semiconductor」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 18件
A P channel MOS transistor 103 and an N channel MOS transistor 104 are respectively connected between the power terminal VDD of a CMOS (complimentary metal oxide semiconductor) inverter consisting of a P channel MOS transistor 101 and an N channel MOS transistor 102 and a ground terminal.例文帳に追加
PチャネルMOSトランジスタ101とNチャネルMOSトランジスタ102とから構成されるCMOSインバータの電源端子VDDと接地端子との間に、それぞれPチャネルMOSトランジスタ103及びNチャネルMOSトランジスタ104を接続する。 - 特許庁
The shorting transistor which can be either a P-channel Metal Oxide Semiconductor (PMOS) device or an N-channel Metal Oxide Semiconductor (NMOS) device and can be controlled utilizing the same clock that enables the drive of the signals between which charge-sharing occurs.例文帳に追加
短絡トランジスタはPチャネル金属酸化膜半導体(PMOS)デバイスまたはNチャネル金属酸化膜半導体(NMOS)デバイスのいずれかであり、電荷共有が起きる間での信号の起動を可能にする同じクロックを利用して制御されることができる。 - 特許庁
This input stage is provided with a couple of N-channel depletion metal oxide semiconductor field effect (NMOS) TRs that are connected to bulk terminals of the differential pair of the PMOS TRs to receive an input signal.例文帳に追加
本入力段は、PMOSトランジスタの差動対のバルク端子に接続されて入力信号を受け取る、一対のNチャネルデプレッション型金属酸化物半導体電界効果(NMOS)トランジスタをさらに備える。 - 特許庁
For example, a pull-down process may be performed using one or more N-channel metal oxide film semiconductor field-effect (NMOS) transistors 220, 222, 224 while a pull-up process may be performed using one or more resistors 210.例文帳に追加
例えば、プルダウン処理は、一以上のNチャンネル金属酸化膜半導体電界効果(NMOS)トランジスタ220,222,224を用いて実行してもよく、一方、プルアップ処理は、一以上の抵抗210を用いて実行してもよい。 - 特許庁
An nMOS (n-channel metal oxide semiconductor) transistor 103 is provided inside the trench isolation region, and a control circuit is provided within the RESURF isolation region but outside of the trench isolation region.例文帳に追加
nMOSトランジスタ103はトレンチ分離領域内に、制御回路はRESURF分離領域内であってトレンチ分離領域外にそれぞれ設けられている。 - 特許庁
The oscillation circuit comprises: a differential LC resonance circuit comprising a capacitive element C1 and an L load differential circuit including inductor variable sections Lvar1, Lvar2; and a positive feedback circuit comprising N-channel MOS (metal oxide semiconductor) transistors M1, M2.例文帳に追加
発振回路は、インダクタ可変部Lvar1,Lvar2を含むL負荷差動回路と容量素子C1とからなる差動型LC共振回路と、NチャネルMOSトランジスタM1,M2とからなる正帰還回路とから構成される。 - 特許庁
A p-type diffusion area 17 is formed in a part of a p well area 9 in which an NMOS (N-channel Metal-Oxide Semiconductor) transistor is formed and a GND power supply wire 16 is formed on the p-type diffusion area 17 so as to be electrically connected.例文帳に追加
NMOSトランジスタが形成されるPウェル領域9内の一部にはP型拡散領域17が形成され、P型拡散領域17上に電気的に接続してGND用電源配線16が形成される。 - 特許庁
A transistor M5 of a level shift circuit 10 is connected between V_BOOT and V_LX, and generates an output signal for driving the gate of a high-side NMOS (N-channel Metal-Oxide Semiconductor) transistor MA.例文帳に追加
レベルシフト回路10が有するトランジスタM5は、V_BOOTとV_LXの間に結合され、ハイサイドNMOSトランジスタMAのゲートを駆動するための出力信号を生成する。 - 特許庁
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