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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > JST科学技術用語日英対訳辞書 > n‐channel MOS structureの意味・解説 

n‐channel MOS structureの英語

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JST科学技術用語日英対訳辞書での「n‐channel MOS structure」の英訳

n‐channel MOS structure


「n‐channel MOS structure」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 14



例文

This circuit comprises a first N-channel MOS transistor M2, first inverters M5 and M8 of CMOS structure, second inverters M7 and M9 of CMOS structure, a first P-channel MOS transistor M10, a depression type second N-channel MOS transistor M4, and a depression type third N-channel MOS transistor M7.例文帳に追加

第1のNチャネルMOSトランジスタ(M2)と、CMOS構成の第1のインバータ(M5,M8)と、CMOS構成の第2のインバータ(M7,M9)と、第1のPチャネルMOSトランジスタ(M10)と、デプレッション型の第2のNチャネルMOSトランジスタ(M4)と、デプレッション型の第3のNチャネルMOSトランジスタ(M7)とを有する。 - 特許庁

The transmission and reception n-channel MOS field-effect transistors are formed in a silicon-on-insulator (SOI) structure.例文帳に追加

送信と受信とのnチャネル型MOS電界効果トランジスタは、シリコンオンインシュレータ(SOI)構造で形成される。 - 特許庁

The output circuit has an output section of a structure where a high voltage N-channel MOS transister(TR) N1 and a high voltage N-channel MOS TR N2 are connected and this output section outputs an output voltage OUT1 via an output terminal 6.例文帳に追加

出力回路は高圧NチャネルMOSトランジスタN1と高圧NチャネルMOSトランジスタN2とが接続された構造の出力部を有しており、この出力部から出力端子6を介して出力電圧OUT1が出力される。 - 特許庁

Afterwards, the heavily-doped source/drain regions of the N-channel MOS and the P-channel MOS are formed and an MOS transistor in a high withstand voltage/LDD structure is formed.例文帳に追加

その後、NチャネルMOSとPチャネルMOSとの高不純物濃度ソース・ドレイン領域を形成して、高耐圧・LDD構造のMOSトランジスタを形成する。 - 特許庁

Size and shape of the structure are set so as to balance carrier mobilities between the p-channel MOS transistor and the n-channel MOS transistor.例文帳に追加

その際、pチャネルMOSトランジスタとnチャネルMOSトランジスタのキャリア移動度が平衡するように、前記構造の寸法・形状を設定する。 - 特許庁

In a manufacturing method of a CMOS semiconductor device having a silicide process structure, a titanium film 38 is formed on silicide forming regions of a P-channel type MOS transistor and an N-channel type MOS transistor, and a silicon film 39A is formed only on the titanium film 38 on the silicide forming region of the N-channel type MOS transistor.例文帳に追加

シリサイドプロセス構造のCMOS半導体装置の製造方法において、Pチャネル型MOSトランジスタ及びNチャネル型MOSトランジスタのシリサイド形成領域上にチタン膜38を形成し、前記Nチャネル型MOSトランジスタ上のシリサイド形成領域上のチタン膜38上にのみシリコン膜39Aを形成する。 - 特許庁

例文

The semiconductor device includes an n-channel MOS transistor 1 having an insulating layer 4 separated in SOI structure and a capacitor formed with an insulating film, and the structure is such that a capacity of a substrate is reduced by thinning the silicon substrate B.例文帳に追加

SOI構造で絶縁分離された絶縁分離層4を備えるNchMOSトランジスタ1と、絶縁膜を用いて形成されるコンデンサとを有し、シリコン基板Bを薄くして基板容量を減らす構成とする。 - 特許庁

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「n‐channel MOS structure」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 14



例文

With this structure, a channel region is efficiently arranged to suppress occurrence of parasitic currents in the P-type diffusion layer, thereby preventing fluctuation in on-resistance value of an N-channel MOS transistor 1.例文帳に追加

この構造により、効率的にチャネル領域が配置され、P型の拡散層での寄生電流の発生が抑制され、Nチャネル型MOSトランジスタ1のオン抵抗値の変動が防止される。 - 特許庁

In a MOS transistor cell having a salicide structure, its p-channel gate terminal and n-channel gate terminal are constituted of a linear gate wiring (10) having a constant width, and it has the plurality of gate wirings (10).例文帳に追加

サリサイド構造のMOSトランジスタセルは、Pチャネルゲート端子とNチャネルゲート端子とが一定幅かつ直線状の一のゲート配線で構成され、当該ゲート配線(10)を複数備えている。 - 特許庁

To provide a semiconductor device having a MOS transistor structure in which an n-channel gate electrode and a p-channel gate electrode are mixed in a piece of gate electrode, wherein its np boundary can suppress influences given to a MOS transistor.例文帳に追加

一本のゲート電極中にNchゲート電極とPchゲート電極とが混在しているMOSトランジスタ構造を有する半導体装置において、そのNP境界がMOSトランジスタに与える影響を抑えることができる半導体装置を得ること。 - 特許庁

The buffer films 14 and 24 of an N-channel MOS transistor and a P-channel MOS transistor which are adjacent to each other are formed integrally, an intermediate metal film 16 is formed on the buffer film of integral structure, and ferroelectric films 12 and 22 and gate electrodes 13 and 23 are provided to the transistors respectively.例文帳に追加

隣接するnチャネルMOSトランジスタとpチャネルMOSトランジスタとのバッファ膜14、24を一体とし、そのバッファ膜上に中間金属膜16を設け、それぞれのトランジスタの強誘電体膜12、22、ゲート電極13、23を設ける。 - 特許庁

An N-channel MOS-FET of superjunction structure having low on-resistance characteristics is used for a switching element, a control means turns on all the MOS-FETs in short-circuiting an AC power supply and a reactor, and turns off the MOS-FET connected to a positive side of the AC power supply when it is not required to short-circuit the AC power supply and the reactor.例文帳に追加

本発明の目的は、該スイッチング素子に低オン抵抗特性を有するスーパージャンクション構造のNチャネルMOS−FETを用い、該制御手段は交流電源とリアクトルの短絡するときには全てのMOS−FETをオンし、交流電源とリアクトルの短絡が不要なときは交流電源の正側に接続されたMOS−FETをオフするように制御することにより達成される。 - 特許庁

This driving circuit is provided with a semiconductor switching element having C-MOS (complementary metal-oxide semiconductor) structure which receives the feeding of power from a picture signal wiring and which samples the potential of a picture signal and capacitances provided among respective gate electrodes of the P-channel transistor and the N-channel transistor of the semiconductor switching element having the C-MOS structure and the picture signal wiring.例文帳に追加

画像信号配線からの給電を受け、画像信号の電位をサンプリングするC—MOS構成の半導体スイッチング素子と、前記C−MOS構成の半導体スイッチング素子のPチャネルトランジスタおよびNチャネルトランジスタのそれぞれのゲート電極と前記画像信号配線との間に設けられた容量とを備えたことを特徴とする駆動回路。 - 特許庁

例文

The latch structure of the CMOS latch cell 22 is canceled by an NMOS (N-channel MOS) switch Qn 24 within the CMOS latch cell 22 when sampling data is written by an NMOS switch NMOS Qn 21 for sampling, by which the change in the state of the CMOS latch cell 22 is speeded up and the operation speed (operation margin) of the sampling latch circuit is increased.例文帳に追加

サンプリング用NMOSスイッチNMOSQn21によるサンプリングデータの書き込み時に、CMOSラッチセル22内のNMOSスイッチQn24によってCMOSラッチセル22のラッチ構造を解除することで、CMOSラッチセル22の状態の変化を速くし、サンプリングラッチ回路の動作スピード(動作マージン)を上げる。 - 特許庁

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「n‐channel MOS structure」の意味に関連した用語
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NMOS構造 JST科学技術用語日英対訳辞書

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