pollutant formationとは 意味・読み方・使い方

To provide a porous silica thin film having a low dielectric constant and a mechanical strength sufficient for enduring a CMP step in a copper wiring step of a semiconductor element and generating little pollutant gas at via-hole formation.例文帳に追加

多孔性シリカ薄膜の比誘電率が低く、半導体素子の銅配線工程におけるＣＭＰ工程に十分耐える機械的強度を有し、かつビア形成時の汚染ガス発生量の少ない、多孔性シリカ薄膜を提供する。 - 特許庁

As a result, the adhesive composition is free from the toluene which is a pollutant in a room, and has stability, drying properties, tack strength, properties of preventing dew formation, adhesive properties, and the like.例文帳に追加

クロロプレンゴム、粘着付与剤、並びに溶剤として少なくともメチルシクロヘキサンを使用するクロロプレンゴム系の接着剤組成物により、前記の室内汚染物質であるトルエンを含まず、安定性、乾燥性、タック強さ、結露防止、接着性能などを実現した。 - 特許庁

To obtain a surface-treated steel plate capable of forming stable rust in early stages not only in rural area, but also in coastal area, free from occurrence of flow rust and elution of environmental pollutant on the way to the above formation, having good adhesiveness of coating film after processing and excellent in processability and weather resistance.例文帳に追加

田園地帯では勿論のこと海岸地帯でも安定錆を早期に形成し、該形成の途上で流れ錆の発生や環境汚染物質の溶出がなく、加工後の塗膜密着性も良好な、加工性および耐候性に優れる表面処理鋼板を提供する。 - 特許庁

In washing the fine structure such as a semiconductor, a micromachine or the like, peroxide is added to carbon dioxide set to a supercritical state and the peroxide itself is dissociated in carbon dioxide set at the supercritical state to remove a pollutant such as resist or etching residue at the time of formation of a pattern without destructing the fine structure.例文帳に追加

半導体やマイクロマシン等の微細構造の洗浄において、超臨界状態の二酸化炭素に過酸化物を添加し、更に過酸化物自体を超臨界状態の二酸化炭素中で解離させることにより、微細な構造を破壊することなく、パターン形成時のレジストやエッチング残渣物等の汚染物質を除去する。 - 特許庁