pollutant elementとは 意味・読み方・使い方

To provide a removing method of a pollutant adhering to an optical system, wherein the pollutant of an organic material, etc. adhering on the outer layer of an optical element, etc. can be removed and an excellent optical property of permeability, etc. in the optical system can be maintained, and to provide an optical apparatus.例文帳に追加

光学要素等の表層上に付着する有機物等による汚染物質を除去し、光学系における透過率等の良好な光学特性を維持することが可能となる光学系に付着する汚染物質の除去方法及び光学装置を提供する。 - 特許庁

To provide a laser light source device using a secondary high frequency generating element to effectively prevent reduction of output due to the pollutant generated in the device.例文帳に追加

二次高周波発生素子を用いたレーザ光源装置において、装置内で発生する汚染物質による出力低下を効果的に防止することができるレーザ光源装置を提供する。 - 特許庁

To provide an analytical device for an electronic substrate and an analytical method for the electronic substrate capable of executing, simply and accurately, quantitative analysis of a target element in pollutant adhering to the surface of the electronic substrate.例文帳に追加

簡便にかつ精度良く、電子基板の表面に付着した汚染物質中における目的元素の定量分析を行うことが可能な電子基板用分析装置及び電子基板用分析方法を提供する。 - 特許庁

To prepare a separation film capable of efficiently and practically executing solid-liquid separation of a pollutant contained in an exhaust liquid, and decomposition of an oxidizing agent, and a method for manufacturing the same, as well as an element using the separation film.例文帳に追加

排液に含まれる汚濁物質の固液分離と酸化剤の分解とを効率的に、かつ、実用的に行うことが出来る分離膜およびその製造方法、さらにはそれを用いたエレメント等を提供する。 - 特許庁

To provide a porous silica thin film having a low dielectric constant and a mechanical strength sufficient for enduring a CMP step in a copper wiring step of a semiconductor element and generating little pollutant gas at via-hole formation.例文帳に追加

多孔性シリカ薄膜の比誘電率が低く、半導体素子の銅配線工程におけるＣＭＰ工程に十分耐える機械的強度を有し、かつビア形成時の汚染ガス発生量の少ない、多孔性シリカ薄膜を提供する。 - 特許庁

When the organic halogen compound is FreonTM, polychlorinated biphenyl(PCB), dioxin or other an environmentally pollutant organic halogen compound or when a halogen element in the organic halogen compound is radioactive, the substances and their toxicity are decomposed or are recovered/ removed by treating them so as for the halogen element of organic halogen compounds to be converted from an organic form to an inorganic one (the elemental X0 or ionic X-).例文帳に追加

ここで、有機ハロゲン化合物が、フレオン、ポリ塩素化ビフェニール（ＰＣＢ）、ダイオキシン、その他環境汚染性の有機ハロゲン化合物、あるいは該有機ハロゲン化合物中のハロゲン元素が放射性である場合、それらの物質及び毒性を分解、あるいは回収除去する方法として、有機ハロゲン化合物中のハロゲン元素を元素状Ｘ^0またはイオン状Ｘ^-に無機化処理する。 - 特許庁

In the method for manufacturing the semiconductor device having an element isolation structure of a shallow trench isolation system, after a trench 14 is formed on a surface of a silicon substrate 11; an inner surface 14a of the trench 14 is cleaned to remove a pollutant, and next a defective layer 15 of the inner surface 14a of the trench 14 is removed.例文帳に追加

シャロートレンチアイソレーション方式の素子分離構造を有する半導体装置の製造方法であって、シリコン基板１１の表面に溝１４を形成した後に、溝１４の内表面１４ａを洗浄して汚染物を除去し、次いで、溝１４の内表面１４ａの欠陥層１５を除去する。 - 特許庁