polymeric semiconductorとは 意味・読み方・使い方

To provide a polymeric compound which increases the field effect mobility of an organic transistor when used in an active layer (organic semiconductor layer) of the organic transistor.例文帳に追加

有機トランジスタの活性層（有機半導体層）に用いた場合に、有機トランジスタの電界効果移動度が高くなる高分子化合物を提供する。 - 特許庁

To provide aqueous compositions used to remove post etch organic and inorganic residues as well polymeric residues and contaminants from semiconductor substrates.例文帳に追加

半導体の基板から有機及び無機のポストエッチ残渣ならびにポリマー残渣及び汚染物質を除去するために使用される水性組成物を提供すること。 - 特許庁

The cross-linked polymer can be provided as a polymeric microsphere and further as a composite encapsulating nanoparticles of a metal or a semiconductor in the core part of the microsphere.例文帳に追加

該架橋ポリマーは高分子ミクロスフェアとして提供でき、さらに該ミクロスフェアのコア部に金属または半導体のナノ粒子を内包した複合体としても提供できる。 - 特許庁

The semiconductor layer 2 composed of semiconductor fine particles is formed by applying and baking a paste of a mixture of semiconductor fine particles of titanium oxide fine particles or the like and a binder composed of polymeric compound on a transparent conductive substrate 1, and then, residual organic substance remaining in the semiconductor layer 2 is removed by irradiating ultraviolet rays on the semiconductor layer 2 and utilizing the photocatalytic activity of the semiconductor fine particles.例文帳に追加

酸化チタン微粒子などの半導体微粒子と高分子化合物からなるバインダーとを混合したペーストを透明導電性基板１上に塗布し、焼成を行うことにより半導体微粒子からなる半導体層２を形成した後、半導体層２に紫外光を照射し、半導体微粒子の光触媒作用を利用することによって半導体層２中に残存する有機物を除去する。 - 特許庁

Next, by heating the substrate 10 up to a specified temperature, the adhesive layer 51a is foamed to have no adhesion, and thus, the polymeric film 51 is easily detached from the semiconductor layer 11.例文帳に追加

次に、基板１０を所定の温度に加熱することにより、接着剤層５１ａは発泡して接着力がなくなるため、高分子フィルム５１は半導体層１１から容易に剥離する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device with the high reliability and a method for producing such the semiconductor device with the high yield for the purpose of enhancing the adhesion between thin films and enhancing the adhesion of a polymeric film to be formed on an insulating surface, in particular.例文帳に追加

本発明は、薄膜間の密着性の向上、特に絶縁表面上に形成する高分子膜の密着性の向上を課題とし、信頼性の高い半導体装置、またそのような半導体装置を歩留まり良く作製する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a process for preparing a base polymeric compound for a resist material having high transparency and good resist performance for fine processing required for semiconductor production.例文帳に追加

本発明の目的は半導体製造で要求されている微細加工に対して、高い透明性と良好なレジスト性能を持つレジスト材料のベース高分子化合物の製造方法を提供することにある。 - 特許庁

This micro-part having a desired shape is produced by forming a film (UV-curing epoxy resin forming layer) comprising a polymeric material on a semiconductor substrate (silicon substrate), and dry-etching the film.例文帳に追加

半導体基板（シリコン基板１）上に高分子材料からなる膜（ＵＶ硬化型エポキシ系樹脂形成層３）を形成し、この膜をドライエッチングすることによって所望形状の微小部品を製造する。 - 特許庁