process basis of layoutとは 意味・読み方・使い方

In a pattern matching process 106, on a per layout pattern group basis, each of the layout patterns in the layout pattern group is compared with the reference pattern.例文帳に追加

パターンマッチング工程１０６では、各レイアウトパターン群別に、そのレイアウトパターン群内の各レイアウトパターンと前記基準パターンとを比較する。 - 特許庁

In a layout determining process, the layout of the bearing walls is determined story by story on the basis of the highest-rated layout pattern in each direction in the rating process.例文帳に追加

配置決定工程では、点数付け工程に於いて最高点を付与された各方向毎の配置パターンに基づいて各階層毎に耐力壁の配置を決定する。 - 特許庁

This method includes a process of automatically making a shot layout and a process of computing the throughput, being the number of processed sheets of wafers per unit time, on the basis of the made shot layout, and an optimum shot layout matched with the request of the user is obtained from the making of the shot layout, based on each process and the computation result of the throughput.例文帳に追加

ショットレイアウトを自動で作成する工程と、作成されたショットレイアウトを基に単位時間当たりのウエハの処理枚数等であるスループットを算出する工程とを有し、これら各々の工程に基づくショットレイアウトの作成及びスループットの算出結果から、ユーザの要求にマッチした最適ショットレイアウトを求める。 - 特許庁

In a rating process, all the layout patterns prepared in the layout pattern preparing process are rated direction by direction on the basis of the preset degree of column adjacency, degree of plane dispersion and degree of vertical dispersion to rate each layout pattern.例文帳に追加

点数付け工程では、配置パターン作成工程で作成された全ての配置パターンに対し、各方向毎に、予め設定された柱隣接度，平面的分散度，立面的分散度に基づいて点数付けを行うことで、各配置パターン毎に点数を付ける。 - 特許庁

In a layout pattern preparing process, a plurality of layout patterns of bearing walls for the exterior walls and/or partition walls are prepared on the basis of the set plane shape and the number of required bearing walls in each direction.例文帳に追加

配置パターン作成工程では、設定された平面形状及び各方向の必要耐力壁数に基づいて外壁及び、又は間仕切り壁に対する耐力壁の複数の配置パターンを作成する。 - 特許庁

To provide a wiring method of a semiconductor integrated circuit device for reliably creating a wiring layout corresponding to a new process on the basis of existing wiring.例文帳に追加

既存の配線を元にして、新しいプロセスに対応した配線レイアウトをより確実に作成する半導体集積回路装置の配線方法を提供する。 - 特許庁

In this method for delay adjustment, a delay value and skew prior to delay adjustment are calculated under each of the plurality of process conditions of a semiconductor integrated circuit on the basis of layout information ( a step ST1).例文帳に追加

本発明の遅延調整方法は、まず、レイアウト情報にもとづいて、半導体集積回路の複数のプロセス条件ごとに、遅延調整前の遅延値およびスキューを求める（ステップＳＴ１）。 - 特許庁