process support environmentとは 意味・読み方・使い方

In the process check support system, a terminal device may operate in place of the server device 1 in a stand-alone environment.例文帳に追加

ただし、本発明の工程監査支援システムは、サーバ装置１の代わりに端末装置おいてスタンドアロン環境で動作させることも可能である。 - 特許庁

To rapidly and flexibly respond to a change in business environment by enabling support of abnormal process design.例文帳に追加

異常系プロセスの設計を支援可能とし、ビジネス環境の変化に迅速、かつ柔軟に対応可能とする。 - 特許庁

To provide a regeneration work support system capable of providing the working environment suitable for workers in every set of recovered articles in the regeneration process and supporting the work in the regeneration process directly.例文帳に追加

再生工程において、作業者に対して回収品１台ごとに適応した作業環境を提供し、再生工程内の作業を直接的に支援することができる再生作業支援システムなどを提供する。 - 特許庁

The manufacturing method of the electrode catalyst layer for the fuel cell includes (a) a process for forming the electrode catalyst layer which does not contain a solvent, on a support, and (b) a process for placing the electrode catalyst layer formed on the support in a first environment at 0°C or less and then placing in a second environment of 20°C or higher in order.例文帳に追加

燃料電池のための電極触媒層の製造方法は、（ａ）支持体上に設けられ、溶媒を含まない電極触媒層を準備する工程と、（ｂ）発電に使用される前に、支持体上に設けられた電極触媒層を、０℃以下の第１の環境と、２０℃以上の第２の環境と、に順次置く工程と、を備える。 - 特許庁

To provide graphical display support within a process plant configuration, monitoring and simulation system to enable graphical displays to be created in a manner in which they are associated with one another in the runtime environment.例文帳に追加

実行時環境で、グラフィカル表示が互いに他と関連付けられる方法で生成されることを可能にするためのグラフィカル表示サポートを、プロセスプラント構成、モニタリングおよびシミュレーションシステム内に提供する。 - 特許庁

To provide an inkjet recording material which can secure stable ink absorbing properties in a short period of time, regardless of a state of preservation environment after coating and drying an ink receiving layer on a support in a manufacturing process.例文帳に追加

製造工程においてインク受容層を支持体に塗布乾燥した後、保存環境の如何に関わらず、極短期間で安定したインク吸収性を確保できるインクジェット記録材料を提供する。 - 特許庁

Accordingly, strength against a mechanical load on the braces 32 is considerably improved, and deformation of the braces 32 can be prevented even when the suscepter support shaft is used over a long time for executing an epitaxial growth process to a large quantity of wafers W in a high-temperature environment for carrying out epitaxial growth.例文帳に追加

従って、支柱３２の機械的負荷に対する強度は相当に改善され強化されており、エピタキシャル成長を行う高温環境下で、大量のウエーハＷに対してエピタキシャル成長処理を行うために長期間にわたって使用したとしても、支柱３２の変形を防止することができる。 - 特許庁