radical 104とは 意味・読み方・使い方

The radical generating device is provided with a vacuum exhaust port 107 of exhausting air in a chamber 101 and a gas introduction tube 102 of feeding a discharge gas, and a backing plate 105 and a target 106 are fitted to a cathode 104.例文帳に追加

チャンバー１０１内の空気を排出する真空排気口１０７と放電ガスを供給するガス導入管１０２とを備え、カソード１０４にはバッキングプレート１０５とターゲット１０６が取り付けられている。 - 特許庁

In the photoelectric conversion element 100 having a semiconductor electrode 108 including a semiconductor layer 103 and pigment, an electrode couple 109, and an electrolyte layer 104 arranged between the semiconductor electrode 108 and the electrode couple 109, a cyclic nitroxyl radical compound and oxammonium salt are included in the electrolyte layer 104.例文帳に追加

半導体層１０３および色素を含む半導体電極１０８、対電極１０９ならびに半導体電極１０８と対電極１０９との間に設けられた電解質層１０４を有する光電変換素子１００であって、電解質層１０４中に環状ニトロキシルラジカル化合物とオキソアンモニウム塩を有する。 - 特許庁

A flexible sleeve (106) is disposed in a generally cylindrical form between the first and second rings (102, 104), the second ring may be rolled over itself (turned over) and around the annular axis to provide a sleeve with a radical retraction force sufficient to stretch the incision to the desired diameter.例文帳に追加

可撓性スリーブ（１０６）が、第１及び第２のリング（１０２，１０４）相互間に全体的に円筒形の形態で設けられ、第２のリングは、切開部を所望の直径まで引き伸ばすのに十分な半径方向後退力をスリーブに与えるよう環状軸線回りにそれ自体転がされる（ひっくり返される）。 - 特許庁

This device is provided with a chamber 100 for introducing a wafer, radical source 102 capable of supplying radicals into the chamber 100, beam source 104 capable of supplying ion beams or plasmas into the chamber 100, wafer stage 106 capable of supporting and fixing the wafer led into the chamber 100 and neutralizer 108 capable of neutralizing electric charges inside the chamber 100 ionized by the ion beams, plasmas or radicals.例文帳に追加

ウエハが導入されるチャンバ１００と、チャンバ１００内にラジカルを供給できるラジカルソース１０２と、チャンバ１００内にイオンビームまたはプラズマを供給できるビームソース１０４と、チャンバ１００内に導入されるウエハを支持して固定できるウエハステージ１０６及び前記イオンビーム、プラズマまたはラジカルによりイオン化されたチャンバ１００内の電荷を中和できる中和器１０８を含む。 - 特許庁