Radical 105とは 意味・読み方・使い方

A first gas introduction means 106a is provided on the side closer to the radical generation region 111 than the gas introduction means 105.例文帳に追加

第１のガス排気手段１０６ａは、ガス導入手段１０５よりもラジカル生成領域１１１の側に設けられる。 - 特許庁

A treatment chamber 101 is a chamber performing radical treatment on the surface of a processed substrate 102 of semiconductor, or the like, and a gas introduction means 105 is provided between a region 111 where radicals are generated by a radical generating means 108 and a means 103 for supporting the processed substrate.例文帳に追加

処理室１０１は、半導体等の被処理基体１０２の表面のラジカル処理を行う室であり、ガス導入手段１０５は、ラジカル生成手段１０８により生成されるラジカル生成領域１１１と、被処理基体支持手段１０３との間に設けられる。 - 特許庁

The radical generating device is provided with a vacuum exhaust port 107 of exhausting air in a chamber 101 and a gas introduction tube 102 of feeding a discharge gas, and a backing plate 105 and a target 106 are fitted to a cathode 104.例文帳に追加

チャンバー１０１内の空気を排出する真空排気口１０７と放電ガスを供給するガス導入管１０２とを備え、カソード１０４にはバッキングプレート１０５とターゲット１０６が取り付けられている。 - 特許庁

The rotation allows the abutting part between an upper half barrier blade 103a and a lower half barrier blade 103b abutting on the first driving balls 105 on a side opposite to the rotation member 107 to generate further friction force (a second friction force), and allows the upper half barrier blade 103a and the lower half barrier blade 103b to be moved in the radical direction, respectively, for closing the barrier blades.例文帳に追加

この回転が、回動部材１０７とは反対側で第１の駆動用ボール１０５と当接する上半バリア羽根１０３ａおよび下半バリア羽根１０３ｂとの当接部にさらなる摩擦力（第２の摩擦力）を生じさせ、上半バリア羽根１０３ａおよび下半バリア羽根１０３ｂをそれぞれラジカル方向へ移動させ、バリア羽根を閉じる。 - 特許庁