simultaneous depositionとは 意味・読み方・使い方

The silicon oxide film is deposited with the plasma using a process that has simultaneous deposition and sputtering components.例文帳に追加

酸化シリコン膜は、同時堆積成分とスパッタリング成分を有するプロセスを用いてプラズマにより酸化シリコン膜が堆積される。 - 特許庁

In the method and apparatus for making the optical fiber preform, simultaneous plasma deposition on the inside and outside surface of a starting tube is used.例文帳に追加

開始用の菅の外面及び内面への同時プラズマ堆積を使用して光ファイバ母材を製造する方法及び装置。 - 特許庁

To provide a practicable vertical type catalyst chemical vapor deposition system constituted in such a manner that at least a pair of substrates arranged to face each other across catalyst lines can be subjected to simultaneous deposition at a uniform film thickness and film quality by suppressing uneven deposition, and to provide a deposition method using this system.例文帳に追加

触媒線を挟んで対向配置した、少なくとも一対の基板に対して成膜ムラを抑制して均等な膜厚及び膜質で同時成膜を行うことを可能とした実用的な縦型触媒化学気相成長装置及びこの装置を用いた成膜方法を提供する。 - 特許庁

The production of the catalyst is carried out by a method comprising a simultaneous deposition step of simultaneously depositing the noble metal particles and the porous body in reversed micelles and a single deposition step of depositing the transition metal in the reversed micelles.例文帳に追加

上記触媒の製造は、貴金属と多孔質体とを逆ミセル内で同時に析出させる同時析出工程と、逆ミセル内で遷移金属を析出させる単独析出工程を有する方法で行う。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING CRYSTAL THIN FILM OF N AND P TYPE SEMICONDUCTOR OF SILICON CARBIDE BY DUAL TARGET SIMULTANEOUS PULSE LASER VAPOR DEPOSITION TECHNIQUE AND THIN FILM MANUFACTURED BY SAME TECHNIQUE例文帳に追加

デュエルターゲット同時パルスレーザ蒸着手法による炭化ケイ素のｎ及びｐ型半導体の結晶薄膜の作製方法及び同法で作製した薄膜 - 特許庁

To provide a mixture film forming device equipped with a measurement device for simultaneously detecting the film thickness and the composition of a mixture film formed by simultaneous vapor deposition of a plurality of materials.例文帳に追加

複数材料の同時蒸着により形成される混合薄膜の膜厚及び組成を同時に検出するための計測装置を備えた混合薄膜形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide an apparatus of oblique vapor deposition, which forms such a vapor deposited film even on a particularly large and thin substrate as to have uniform distribution of film thickness and depositing angles, allows a simultaneous vapor deposition on several substrates, is superior in productivity and maintenance, and further allows miniaturization of the apparatus, and to provide a method of oblique vapor deposition.例文帳に追加

特に大型で薄型の基板であっても、膜厚分布および蒸着角度分布が均一となるように蒸着膜を形成することができ、しかも同時に複数枚の基板に対して蒸着処理が可能であり、生産性に優れ、さらに装置の小型化を図ることができ、メンテナンス性にも優れた斜め蒸着装置および斜め蒸着方法を提供すること。 - 特許庁

This modifying method is characterized by forming a mixed film of copper and boron nitride on the surface of the inner wall of the vacuum vessel through simultaneous sputter deposition of copper and boron nitride with the use of a target made from a mixture of copper and boron nitride.例文帳に追加

銅と窒化ホウ素の混合体をターゲットとし、真空容器の内壁表面に銅と窒化ホウ素を同時にスパッタ蒸着して銅と窒化ホウ素の混合膜を真空容器内壁表面に形成させる。 - 特許庁