spatial patterningとは 意味・読み方・使い方

METHOD AND DEVICE FOR PATTERNING ON LIGHT-SENSITIVE SURFACE BY USING MASKLESS LITHOGRAPHIC SYSTEM HAVING SPATIAL LIGHT MODULATOR例文帳に追加

空間光変調器を有するマスクレスリソグラフィシステムを用いて光感応性表面にパターンをプリントする方法および装置 - 特許庁

LITHOGRAPHY APPARATUS, DEVICE MANUFACTURING APPARATUS, DEVICE MANUFACTURED BY THE APPARATUS, AND CONTROLLABLE PATTERNING APPARATUS USING SPATIAL LIGHT MODULATOR BY DISTRIBUTED DIGITAL-TO-ANALOG CONVERSION例文帳に追加

リソグラフィ装置、デバイス製造装置、これによって製造されるデバイスおよび分散型デジタル・アナログ変換による空間光変調器を用いる制御可能なパターニング装置 - 特許庁

Processor processes signals from the sensor(s) to resolve spatial information in the projected alignment mark to establish a reference for measuring positional relationships between a substrate support and the patterning location.例文帳に追加

プロセッサが、センサからの信号を、投影されたアライメントマーク内の空間情報を分解するように処理して、基板支持体とパターニング位置の位置関係を測定するための基準を確立する。 - 特許庁

To provide a spatial light modulator including an array of elements which are independently controlled, which is used as a patterning means for a lithographic projection device and has a high data transmission speed necessary for address designation of pixels and a compact configuration.例文帳に追加

リソグラフィ投影装置にパターニング手段として使える、個々に制御可能な素子のアレイを含む光空間変調器を画素のアドレス指定に要するデータ転送速度が速く、コンパクトな構成で提供すること。 - 特許庁

An exposure light pattern having spatially changeable intensity is formed by illuminating light on an array of a spatial light modulator and patterning the light with SLM, the patterned light is written on the object and the gray-scaled pattern is formed on the object based on the above-mentioned spatially changeable intensity.例文帳に追加

光を空間光変調器のアレイ上に照明し、光をＳＬＭによってパターニングして、空間的可変強度を有する露光光パターンを形成し、パターニングされた光を対象上に書き込み、前記空間的可変光度に基づいて対象上にグレースケール化されたパターンを形成する。 - 特許庁

The method comprises: establishing a power spectral density (PSD) indicative of the spatial frequency of the stray radiation produced by the projection system; and determining, from the PSD, a modulation transfer function (MTF) relating the PSD to the pattern applied by the patterning device in such a way that the effect of flare on the pattern image is taken into account.例文帳に追加

投影システムが生成する迷光放射線の空間周波数を示す電力スペクトル密度（ＰＳＤ）を確立し、フレアがパターン像に及ぼす効果を考慮に入れる方法で、パターニングデバイスが適用するパターンにＰＳＤを関連づける変調伝達関数（ＭＴＦ）を、ＰＳＤから決定する。 - 特許庁