sputter deposition methodとは 意味・読み方・使い方

METHOD OF DC PULSE SPUTTER DEPOSITION AND FILM FORMING DEVICE THEREFOR例文帳に追加

パルス状直流スパッタ成膜方法及び該方法のための成膜装置 - 特許庁

METHOD FOR MEASURING TRANSPORT FACTOR OF SPUTTER PARTICLE, FILM DEPOSITION METHOD, TARGET, SPUTTERING SYSTEM, AND FILM THICKNESS SIMULATION METHOD例文帳に追加

スパッタ粒子の到達率計測方法、成膜方法、ターゲット、スパッタ装置及び膜厚シミュレーション方法 - 特許庁

To provide a film deposition apparatus, and a film deposition method having the high rate of film deposition on a surface of an object for film deposition by the reaction of sputter particles or evaporation particles.例文帳に追加

スパッタ粒子または蒸発粒子を反応させることによる成膜対象物表面の成膜の成膜速度が速い成膜装置および成膜方法の提供。 - 特許庁

SYSTEM AND METHOD FOR FORMING BASE COATING AND THIN FILM LAYER BY CONSECUTIVE SPUTTER DEPOSITION例文帳に追加

連続的なスパッタ堆積によってベースコートおよび薄膜層を形成するシステムおよび方法 - 特許庁

The structure part and/or the electrode layers and the buffer part are consecutively formed by a sputter method, a vapor deposition method, an aerosol deposition method, an ion plating method, an ion cluster method, a laser beam abrasion method, etc.例文帳に追加

緻密構造部及び／又は電極層と上記バッファ部とを、スパッタ法、蒸着法、エアロゾルデポジション法、イオンプレーティング法、イオンクラスタ法及びレーザービームアブレーション法などによって連続して形成する。 - 特許庁

A desiccant membrane 54 is formed on a flat plate 52 by a deposition method or a sputter method to manufacture the EL element sealing plate 100.例文帳に追加

蒸着法、又はスパッタ法で、平板５２に乾燥剤膜５４を成膜してＥＬ素子封止板１００を製造する。 - 特許庁

BACKING PLATE, SPUTTERING TARGET-BACKING PLATE ASSEMBLY, METHOD FOR JOINING SPUTTERING TARGET AND BACKING PLATE, AND METHOD OF SPUTTER FILM DEPOSITION例文帳に追加

バッキングプレート、スパッタリングターゲット−バッキングプレート組立体、スパッタリングターゲットとバッキングプレートの接合方法及びスパッタリング成膜方法 - 特許庁

DEVICE AND METHOD FOR MEASURING DISTRIBUTION OF SPUTTER DEPOSITION RATE FOR SIMULATION CALCULATION, METHOD FOR PROCESSING MEASURED DATA, AND METHOD FOR ESTIMATING GENERAL DISTRIBUTION CHARACTERISTICS例文帳に追加

シミュレーション計算のためのスパッタ堆積速度分布測定装置及び方法、測定データの処理方法、総合分布特性の予測方法 - 特許庁