system on siliconとは 意味・読み方・使い方

In the piezoelectric device 1 which is an MEMS (MicroElectro Mechanical System) device, a whole of silicon layer 14 of SOI (Silicon On Insulator) substrate 11 is made as a p type region.例文帳に追加

ＭＥＭＳデバイスである圧電デバイス１において、ＳＯＩ基板１１のシリコン層１４全体をｐ型領域とする。 - 特許庁

POLYCRYSTALLINE SILICON THIN FILM, ITS MANUFACTURING METHOD, THIN FILM TRANSISTOR, LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND SYSTEM ON PANEL例文帳に追加

多結晶シリコン薄膜、その製造方法、薄膜トランジスタ、液晶表示装置およびシステムオンパネル - 特許庁

To provide a radio communication system to mount a Gaussian monocycle pulse generating circuit on a silicon semiconductor integrated circuit in a monolithic manner.例文帳に追加

シリコン半導体集積回路にモノリシックにガウシアン・モノサイクル・パルス発生回路を搭載する。 - 特許庁

A silicon substrate of a silicon substrate optical system used on the interference type optical fiber gyroscope (IFOG) is etched so as to accept optical components.例文帳に追加

干渉型光ファイバジャイロスコープ（ＩＦＯＧ）で使用するシリコン基板光学システムのシリコン基板は、光学部品を受け入れるようにエッチングされる。 - 特許庁

The thin film production system is constituted in such a manner that a silicon-containing film is deposited on a substrate using silicon-containing process gas from a first gas feed part in a reaction chamber.例文帳に追加

反応室において、第１ガス供給部からのシリコン含有プロセスガスを用いて基板上にシリコン含有膜が形成される。 - 特許庁

A trialkoxysilane is produced by removing oxide formed on the surface of silicon, bringing the silicon in contact with a copper compound, heat-treating the system and performing a vapor-phase reaction of the silicon with an alcohol.例文帳に追加

シリコンの表面に形成された酸化物の除去を行い、シリコンと銅化合物とを接触させて熱処理を施し、シリコンとアルコールとを気相反応させてトリアルコキシシランを製造する。 - 特許庁

METHOD OF FORMING RECESS ON SILICON SUBSTRATE BY ANISOTROPIC ETCHING AND METHOD OF USING PLASMA ETCHING SYSTEM例文帳に追加

シリコン基板に凹部を異方性エッチングにより形成する方法およびプラズマエッチングシステムの使用方法 - 特許庁

The silicon ring is arranged on the periphery of a wafer on the side of an electrode for mounting the wafer in a plasma treating system, provided with a power supply section and has self-heating function, and the plasma treating system is provided with the silicon ring.例文帳に追加

プラズマ処理装置内のウェーハを載置する電極側で、ウエーハの周辺に配置されるシリコンリングであって、給電部が設けられ、自己発熱する機能を有するシリコンリングおよび該リングを備えたプラズマ処理装置。 - 特許庁