thermal annealingとは 意味・読み方・使い方

The rapid thermal annealing may be performed in a nitrogen atmosphere.例文帳に追加

この急速加熱処理を窒素雰囲気中で行ってもよい。 - 特許庁

Consequently, a rapid thermal annealing jig for semiconductor with little dopant smearing can be obtained, and Fe smearing from the rapid thermal annealing jig to the wafer surface can be suppressed at thermal annealing.例文帳に追加

これにより、不純物汚染の少ない半導体用熱処理治具を得ることができ、熱処理時に半導体用熱処理治具からウェーハ表面へのＦｅ汚染を抑制することができる。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method for performing laser thermal annealing of a substrate, using an annealing radiation beam that is not substantially absorbed in the substrate at room temperature.例文帳に追加

室温で基板に実質的に吸収されないアニール放射線ビームを用いて、基板のレーザ熱アニールを行なうための装置および方法。 - 特許庁

At first, a first semiconductor layer is formed on a substrate and thereafter thermal annealing treatment is carried out.例文帳に追加

まず、第１半導体層を基板上に成長させ、その後、熱アニール処理を行う。 - 特許庁

THERMAL ANNEALING METHOD FOR QUARTZ GLASS AND QUARTZ GLASS MEMBER OBTAINED BY USING THE METHOD例文帳に追加

石英ガラスの熱アニール方法及びこの方法を用いて得られた石英ガラス部材 - 特許庁

To provide a method of producing a silicon wafer including Ar/NH_3 rapid thermal annealing step.例文帳に追加

Ａｒ／ＮＨ_３急速熱的アニーリング工程を含むシリコンウェーハの製造方法を提供する。 - 特許庁

Then, rapid thermal annealing (RTA) for one minute is performed in the Ar atmosphere of, for example 650°C.例文帳に追加

その後、例えば６５０℃のＡｒ雰囲気中で１分間の急速加熱処理（ＲＴＡ）を行う。 - 特許庁

To prevent the deterioration of the working quality of annealing treatment due to the thermal expansion of a substrate.例文帳に追加

基板の熱膨張に起因してアニール処理の加工品質が低下してしまうことを防止する。 - 特許庁