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vapor deposition processとは 意味・読み方・使い方
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「vapor deposition process」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 399件
VAPOR DEPOSITION MATERIAL, MgO VAPOR DEPOSITION MATERIAL AND ITS MANUFACTURING PROCESS, DEPOSITION PROCESS例文帳に追加
蒸着材、MgO蒸着材およびその製造方法、成膜方法 - 特許庁
NOZZLE EVAPORATION SOURCE FOR VAPOR DEPOSITION PROCESS, AND VAPOR DEPOSITION METHOD例文帳に追加
蒸着工程用ノズル蒸発源及び蒸着方法 - 特許庁
MgO VAPOR DEPOSITION MATERIAL AND ITS MANUFACTURING PROCESS, MANUFACTURING PROCESS OF MgO DEPOSITION FILM例文帳に追加
MgO蒸着材およびその製造方法、MgO膜の製造方法 - 特許庁
SUSCEPTOR FOR VAPOR DEPOSITION EQUIPMENT, VAPOR DEPOSITION EQUIPMENT, AND PRODUCTION PROCESS OF EPITAXIAL WAFER例文帳に追加
気相成長装置用のサセプタ、気相成長装置及びエピタキシャルウェーハの製造方法 - 特許庁
VAPORIZER AND VAPOR DEPOSITION SYSTEM OF REACTANT LIQUID FOR CHEMICAL VAPOR FILM DEPOSITION PROCESS例文帳に追加
化学的蒸着膜工程のための反応液体の気化器および蒸着システム - 特許庁
VAPOR DEPOSITION METHOD FOR PERPENDICULARLY ORIENTING CARBON NANOTUBE UTILIZING LOW-PRESSURE-DC-THERMAL CHEMICAL VAPOR DEPOSITION PROCESS例文帳に追加
低圧−DC−熱化学蒸着法を利用したカーボンナノチューブ垂直配向蒸着方法 - 特許庁
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「vapor deposition process」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 399件
The thin film type inorganic EL element is provided which has a light emitter layer formed by at least two vapor deposition processes of the vapor deposition process in which an inorganic composition is utilized as a vapor deposition source and the vapor deposition process in which a composition containing Ir element is utilized as the vapor deposition source.例文帳に追加
本発明によれば、無機組成物を蒸着源とする蒸着工程と、Ir元素を含む組成物を蒸着源とする蒸着工程との少なくとも二つの蒸着工程により形成される発光体層を有することを特徴とする薄膜型無機EL素子が提供される。 - 特許庁
To carry out cleaning in-line with a cleaning vapor deposition device of a vapor deposition mask and increase the number of usages of the vapor deposition mask in a vapor deposition process of an organic EL display device.例文帳に追加
有機EL表示装置の蒸着工程における蒸着マスクの洗浄蒸着装置とインラインで行い、蒸着マスクの使用回数を増大させる。 - 特許庁
When the same mask 40 for vapor deposition as that used in the preceding vapor deposition processes is used in this vapor deposition process, the vapor deposition conditions of this vapor deposition process are determined based on the measured result of the thickness of a deposited layer stuck to the mask 40 for vapor deposition in the preceding vapor deposition processes or the calculated result of the thickness of the deposited layer.例文帳に追加
前回までの蒸着工程と今回の蒸着工程とで同一の蒸着用マスク40を用いるにあたって、前回までの蒸着工程により蒸着用マスク40に付着した堆積層の厚さの測定結果、あるいは当該堆積層の厚さの算出結果に基づいて、今回行う蒸着条件を決定する。 - 特許庁
SYNTHESIS OF CARBON SINGLE-WALLED NANOTUBES BY CHEMICAL VAPOR DEPOSITION PROCESS例文帳に追加
化学気相成長法によるカーボン単層ナノチューブの合成の方法 - 特許庁
METHOD FOR PREVENTING DENATURATION OF CATALYST BODY IN CATALYTIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION PROCESS例文帳に追加
触媒化学気相堆積法における触媒体の変性防止法 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING SILICON CARBIDE THROUGH CHEMICAL VAPOR DEPOSITION PROCESS, AND AN APPARATUS例文帳に追加
化学的気相析出法による炭化ケイ素の製造方法及び装置 - 特許庁
METHOD FOR SUPPLYING GASEOUS HYDROGEN INTO PROCESS CHAMBER OF VAPOR DEPOSITION SYSTEM例文帳に追加
蒸着装置の処理室内への水素ガス供給方法 - 特許庁
METHOD FOR PRODUCING CARBON FIBER BY ORGANIC METAL CHEMICAL VAPOR DEPOSITION PROCESS例文帳に追加
有機金属化学気相蒸着法によるカーボンファイバの製造方法 - 特許庁
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