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vapor platingとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 気相めっき
「vapor plating」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 116件
ION PLATING VAPOR DEPOSITION DEVICE例文帳に追加
イオンプレーティング蒸着装置 - 特許庁
PLATED FILM FORMING METHOD, PLATING INHIBITER APPLYING APPARATUS AND METAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS例文帳に追加
めっき膜形成方法、めっき抑制剤塗布装置、金属蒸着装置 - 特許庁
Vapor deposition, sputtering, or plating or the like is used as a method for forming the electrodes 3, 4.例文帳に追加
電極3,4の形成方法としては、蒸着、スパッタ、めっき等である。 - 特許庁
The reflection substance layer 5 is formed of a metal thin film by using a vapor deposition method or a plating method.例文帳に追加
反射物質層5は金属薄膜よりなり、蒸着またはメッキ法で形成する。 - 特許庁
At this time, vapor-phase growth such as vacuum deposition, sputtering, laser ablation, and ion plating is used.例文帳に追加
このとき、真空蒸着,スパッタリング,レーザーアブレーション,イオンプレーティング等の気相成長法を用いる。 - 特許庁
Also, preferably, a nitride layer is formed by interstitial element nitriding treatment or surface treatment of any on selected from chrome plating, composite chrome plating, composite plating, thermal spraying and physical vapor-deposition is performed.例文帳に追加
また、ピストンリングには、窒化層を侵入元素型の窒化処理によって形成したり、クロムメッキ、複合クロムメッキ、複合メッキ、溶射、物理蒸着の何れかの表面処理を施すことが好ましい。 - 特許庁
The vapor deposition metal film 3 is formed by vacuum vapor deposition, ion plating, EB vapor deposition or sputtering and the thickness thereof is preferably 10-200 mμm.例文帳に追加
前記蒸着金属膜が3真空蒸着、イオンプレーティング、EB蒸着あるいはスパッタリングで形成されていること、厚さが10mμm以上、200mμm以下であることが好ましい。 - 特許庁
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「vapor plating」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 116件
The charge collectors 15, 16 are each composed of an electrically conductive metal member layer formed by vapor deposition or plating.例文帳に追加
集電体15,16は蒸着またはメッキにより形成された導電性金属部材層からなる。 - 特許庁
The metallic thin film is preferably formed by either of processes such as vapor deposition, ion plating and sputtering.例文帳に追加
金属被膜は、蒸着、イオンプレーティングおよびスパッタリングのいずれかの方法で成膜するのが好ましい。 - 特許庁
The plating apparatus 1 comprises: a plating chamber 11 for forming the plated film on the surface of a substrate by contacting the surface of the substrate with a plating liquid; and a steam treatment chamber 8 for treating the surface of the substrate with water vapor, prior to plating treatment in the plating chamber 11.例文帳に追加
めっき装置1は、基板の表面をめっき液に接触させて該基板の表面にめっき膜を形成するめっき室11と、めっき室11におけるめっき処理の前の基板の表面に蒸気を用いた蒸気処理を行う蒸気処理室8とを備えている。 - 特許庁
The copper film is formed on a silicon substrate with a barrier layer formed by a plating method or a vapor deposition method.例文帳に追加
バリア層が形成されたシリコン基板上にめっき法あるいは気相堆積法により銅膜を成膜する。 - 特許庁
The covering layer 22 may be easily formed on the main body layer 20 by means such as vapor deposition and plating.例文帳に追加
この被覆層22は、蒸着やメッキ等の手段で前記本体層20上に容易に形成することができる。 - 特許庁
The stabilizing layer may be laminated using either of a sputtering process, a vapor deposition process or a plating process.例文帳に追加
また、上記安定化層は、スパッタリング法、蒸着法またはめっき法のいずれかにより積層することができる。 - 特許庁
The metal thin layers 14, 17 are formed by either one of electroless plating and metal vapor deposition.例文帳に追加
金属薄膜層14,17は、無電解めっき法または金属蒸着法の何れかで形成されたものである。 - 特許庁
To simply form a decorative panel having plating-like metal appearance at a low cost by applying a paint without using a conventional processing method (plating, vacuum vapor deposition or sputtering).例文帳に追加
めっき調の金属外観装飾板を従来の加工方法(めっき・真空蒸着・スパッタ等)を用いずに塗料を塗装することで簡単かつ低コストで形成する。 - 特許庁
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