wafer transfer mechanismとは 意味・読み方・使い方

To provide a wafer transfer robot equipped with a wafer alignment/orientation flat alignment mechanism, having a simple structure using a mechanism and a control system inherent to a general wafer transfer robot without the need to provide a sensor unit mounting part, and to provide a substrate processing apparatus equipped with the wafer transfer robot.例文帳に追加

ウェハーアライメント・オリフラ合わせ機構を備えるウェハー搬送ロボットであり、ウェハー搬送ロボットの本来有する機構および制御系を利用して当該機構を簡素に構成でき、センサユニット取付け部を配置する必要のないウェハー搬送ロボット、及び、ウェハー搬送ロボットを備えた基板処理装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a wafer transfer device which can securely transfer a wafer between storage cases without a trouble without installing the expensive and complicated control mechanism of a special stage and without the need of a complicated adjusting operation requiring acquaintance.例文帳に追加

高価で複雑な特段の調節機構を設けたり、複雑で熟練を要する調整操作を必要としたりすることなく、ウエハの収納ケース間の移載を支障なく確実に達成できるウエハ移載装置を提供する。 - 特許庁

The wafer 5 is taken out of the cassette 2 by a robot hand 3a at the end of the transfer mechanism 3 to be transferred to an aligner.例文帳に追加

ウェハー５は搬送機構３の先端のロボットハンド３ａよってカセット２から取り出され、アライナー４に搬送される。 - 特許庁

The processed wafer W is held by a Bernoulli chuck in the first holding part 270, the second holding part 271, and the transfer mechanism.例文帳に追加

第１の保持部２７０、第２の保持部２７１及び搬送機構における被処理ウェハＷの保持は、ベルヌーイチャックにより行われる。 - 特許庁

The temperature measuring instrument support mechanism 10 is lifted by a wafer transfer device elevator 125b, and a temperature measuring instrument 18 is inserted into the insertion port 20.例文帳に追加

温度計測器支持機構１０をウエハ移載装置エレベータ１２５ｂで上昇させて温度計測器１８を挿入口２０に挿入する。 - 特許庁

The transfer mechanism can be provided with a plurality of fingers 29 or a plurality of wafer lift pins 27, for example, for supporting the substrate.例文帳に追加

転送メカニズムは、例えば、基板を支持する複数のフィンガー２９、または複数のウェーハリフトピン２７を含むことができる。 - 特許庁

When a wafer W is delivered from a main wafer transfer mechanism 22 into a heat treatment chamber 51, the air pressure in the chamber 51 is made higher than the air pressure on the transfer mechanism 22 side by blowing nitrogen gas into the chamber 51.例文帳に追加

主ウエハ搬送機構２２から加熱処理室５１内にウエハＷを受け渡す際には、加熱処理室５１内に窒素ガスが噴出され、加熱処理室５１内が主ウエハ搬送機構２２側の気圧よりも高い気圧に設定されている。 - 特許庁

Since the displacement of a wafer W can be corrected, the wafer transferring mechanism 23 can transfer the wafer W into the etching treating chamber 14 without displacement and can place the wafer W on a holding table 19 in place.例文帳に追加

ウェハＷの位置ずれを補正することができるので、ウェハ搬送機構２３は位置ずれを起こさずにウェハＷをエッチング処理室１４へ搬入することができ、保持台１９の適正な位置にウェハＷを載置させることができる。 - 特許庁