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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > 英和専門語辞典 > wet cleaning equipmentの意味・解説 

wet cleaning equipmentとは 意味・読み方・使い方

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意味・対訳 湿式洗浄装置


クロスランゲージ 37分野専門語辞書での「wet cleaning equipment」の意味

wet cleaning equipment


「wet cleaning equipment」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 20



例文

METHOD OF CLEANING CATALYST WET PROCESS OXIDATION EQUIPMENT例文帳に追加

触媒湿式酸化装置の洗浄方法 - 特許庁

EQUIPMENT AND METHOD FOR WET-CLEANING OR WET-ETCHING FLAT SUBSTRATE例文帳に追加

平坦な基材を湿式でクリーニングまたはエッチングするための装置および方法 - 特許庁

To provide equipment and a method for wet-cleaning or wet-etching a flat substrate.例文帳に追加

平坦な基材を湿式でクリーニングまたはエッチングする装置及び方法を提供する。 - 特許庁

The substrate cleaning system 10 is designed for cleaning the surface of the substrate to be treated and has wet cleaning equipment 11 and ultraviolet ray (UV) cleaning equipment 12 arranged behind the wet cleaning equipment 11.例文帳に追加

基板洗浄システム10は、処理対象となる基板の表面を洗浄するためのものであり、湿式洗浄装置11と、湿式洗浄装置11の後段に配置された紫外線(UV)洗浄装置12とを有している。 - 特許庁

ADJUSTING METHOD OF COPPER CONCENTRATION IN LEACHING LIQUID IN CLEANING PROCESS OF WET ZINC METALLURGY AND ADJUSTING EQUIPMENT THEREFOR例文帳に追加

湿式亜鉛製錬の清浄工程における浸出液中銅濃度の調整方法および調整設備 - 特許庁

Equipment 1 for wet-cleaning or wet-etching a substrate 9 includes a tank 3 having an inlet 5 and an outlet 7 for the substrate 9.例文帳に追加

基材9の導入口5及び導出口7を有するタンク3を含み、前記基材9を湿式クリーニングまたはエッチングするための装置1。 - 特許庁

例文

In this method of forming a thin film, the semiconductor substrate is first subjected to wet-cleaning in cleaning equipment 1 (process A1) and dried (process A2).例文帳に追加

洗浄装置1内で半導体基板のウェット洗浄を行い(プロセスA1)、次に乾燥させる(プロセスA2)。 - 特許庁

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Weblio専門用語対訳辞書での「wet cleaning equipment」の意味

Wet-Cleaning Equipment

Weblio専門用語対訳辞書はプログラムで機械的に意味や英語表現を生成しているため、不適切な項目が含まれていることもあります。ご了承くださいませ。

「wet cleaning equipment」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 20



例文

To provide cleaning equipment capable of removing microparticles efficiently and surely in wet cleaning.例文帳に追加

ウエット洗浄において、効率よく、かつ確実に微小パーティクルを除去し得る洗浄装置を提供する。 - 特許庁

Of these, the wet cleaning equipment 11 is used to clean the surface of the substrate to be treated with a cleaning liquid.例文帳に追加

このうち、湿式洗浄装置11は、処理対象となる基板の表面を洗浄液で洗浄するためのものである。 - 特許庁

To obtain a novel cleaning liquid composition having cleaning functions sufficiently, and even if an equipment for a polyurethane resin or epoxy resin is reopend under the condition that the equipment is wet with the cleaning liquid, the cleaning fluid does not impart any adverse effect at all to the physical properties of the above obtained resins.例文帳に追加

洗浄機能は充分有しているが、装置に洗浄液が付着した状態でウレタン樹脂やエポキシ樹脂の装置を再開しても、得られた樹脂の物性に全く悪影響を与えない新規な洗浄剤の提供。 - 特許庁

Also, the UV cleaning equipment 12 is designed for cleaning the surface of the substrate by irradiating the surface of the substrate cleaned by the wet cleaning equipment 11 with UV rays.例文帳に追加

また、紫外線洗浄装置12は、湿式洗浄装置11により洗浄された基板の表面に紫外線を照射して当該基板の表面を洗浄するものである。 - 特許庁

To provide a wet tissue that can be used in place of cotton dusters when cleaning toys for babies, dining tables, tableware, and cooking equipment.例文帳に追加

乳幼児の玩具、食卓、食器、調理具等の清拭に綿布巾に代えて使用できるウェットティシューを提供する。 - 特許庁

Cleaning is carried out by using a cleaning liquid of a pH11 containing ammonia and/or ammonium salt in the method of cleaning the catalyst wet process oxidation equipment packed with the catalysts for subjecting the ammonia in the waste water containing the ammonia and the metals to catalyst wet process oxidation decomposition by passing the waste water through the equipment and bringing the ammonia in the waste water into contact with the catalysts in the presence of an oxidizing agent.例文帳に追加

アンモニア及び金属を含有する排水を通水して該排水中のアンモニアを酸化剤の存在下に触媒と接触させて触媒湿式酸化分解するための触媒が充填された触媒湿式酸化装置を洗浄する方法において、アンモニア及び/又はアンモニウム塩を含む、pH11以上の洗浄液を用いて洗浄する。 - 特許庁

To regenerate catalysts by efficiently cleaning away the scale sticking to catalyst surfaces with catalyst wet process oxidation equipment for treating waste water in which metals coexist together with ammonia.例文帳に追加

アンモニアと共に金属が共存する排水を処理する触媒湿式酸化装置において、触媒表面に付着したスケールを効率的に洗浄除去して触媒を再生する。 - 特許庁

例文

The substrate-treatment equipment comprises a wet treatment section 2 for performing chemical treatment on a substrate S, and a pretreatment section 1 for performing pretreatment, such as, dry cleaning on the substrate S.例文帳に追加

基板処理装置は、基板Sに薬液処理を施すウエット処理部2と、その前処理としてドライ洗浄等の処理を基板Sに施す前処理部1とを有する。 - 特許庁

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「wet cleaning equipment」の意味に関連した用語

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