wet oxidation processとは 意味・読み方・使い方

In the second wet oxidation process, oxidation of the epitaxial layer 1b is made to progress in the state that a thermal treatment temperature of the above wet oxidation is raised up to about 1050°C, and the trench part LOCOS oxide film 6 of about 950 nm in thickness is finally formed.例文帳に追加

第２のウエット酸化工程では、上記ウエット酸化の熱処理温度を、約１０５０℃に上げた状態でエピタキシャル層１ｂの酸化を進行させ、最終的に膜厚が９５０ｎｍ程度の溝部ＬＯＣＯＳ酸化膜６を形成する。 - 特許庁

The treating device described above is the wet process oxidation treating device 1 and is so constituted that the whole or part of the remaining solid components returned by the returning means 8 is introduced into the wet process oxidation treating device 1 by an introducing means 9.例文帳に追加

前記処理装置は、湿式酸化処理装置１であり、返送手段８により返送されて残った固形分の全部もしくは一部が導入手段９により湿式酸化処理装置１に導入されるように構成されている。 - 特許庁

The method of executing the oxidative decomposition treatment of waste water containing the lower alcohol by the wet oxidation method includes: a first wet oxidation treatment process of using air as an oxidizing agent and putting the waste water to a hydrothermal reaction condition; and a second wet oxidation treatment process of using the hydrogen peroxide as the oxidizing agent and putting the waste water to the hydrothermal reaction condition.例文帳に追加

低級アルコール類を含有する廃水を湿式酸化法により酸化分解処理する方法であって、酸化剤として空気を用いて該廃水を水熱反応条件に付す第１の湿式酸化処理工程と、次いで、酸化剤として過酸化水素を用いて該廃水を水熱反応条件に付す第２の湿式酸化処理工程とを包含する。 - 特許庁

In the first wet oxidation process, wet oxidation at a treatment temperature of about 875°C is performed to an exposed surface of an epitaxial layer 1b through an aperture part 18a of a silicon nitride film 18, and a thin oxide film 6a is formed.例文帳に追加

第１のウエット酸化工程では、エピタキシャル層１ｂの露出面に対して、窒化シリコン膜１８の開口部１８ａを通して約８７５℃の処理温度でのウエット酸化を施すことにより薄い酸化膜６ａを形成する。 - 特許庁

To provide copper fine particles having excellent oxidation resistance by a wet reduction process, to provide a method for producing the copper fine particles, and to provide a dispersion comprising the copper fine particles.例文帳に追加

湿式還元法によって、耐酸化性に優れた銅微粒子とその製造方法、及びその銅微粒子を含む分散液を提供する。 - 特許庁

A process for lowering pH of the hydrothermal reaction liquid is preferably included for performing wet oxidation reaction using the pH-lowered treated liquid.例文帳に追加

前記水熱反応液のｐＨを低下させる工程をさらに含み、当該ｐＨ低下後の処理液を用いて湿式酸化反応を行うことが好ましい。 - 特許庁

This treatment method comprises the hydrothermal reaction process for hydrolyzing the organic waste in an aqueous condition of pH 8-14, and a wet oxidation process for oxidizing hydrothermal reaction liquid with oxygen-containing gas.例文帳に追加

有機性廃棄物を、ｐＨ８〜１４の水性条件下において加水分解する水熱反応工程と、前記水熱反応液を酸素含有ガスによって酸化する湿式酸化工程と、を含む。 - 特許庁

The treatment equipment 1 for the jellyfishes equipped with liquefaction equipment (hydrothermal catalyst wet process oxidation treatment equipment 2) for subjecting the jellyfishes as the materials to be treated to liquefaction treatment by a hydrothermal reaction.例文帳に追加

被処理物としてのクラゲを、水熱反応によって液状化処理する液状化装置（水熱触媒湿式酸化処理装置２）を備えたクラゲの処理装置１。 - 特許庁