「wet oxidation process」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

An oxide film forming process for forming a trench part LOCOS oxide film 6 is formed on a trench part 5 formed in a semiconductor substrate 1 is constituted of a first wet oxidation process of (f) and a second wet oxidation process of (g).例文帳に追加

半導体基板１に形成された溝部５に溝部ＬＯＣＯＳ酸化膜６を形成するための酸化膜形成工程は、図１（ｆ）の第１のウエット酸化工程、図１（ｇ）の第２のウエット酸化工程によって構成される。 - 特許庁

To provide a wet process oxidation treating method and wet process oxidation treating device capable of efficiently decomposing organic matter even at a treatment temperature below 180°C and reducing a device cost as well as a refuse treating method.例文帳に追加

１８０℃以下の処理温度でも効果的に有機物を分解することができ、装置コストを低減可能な湿式酸化処理方法および湿式酸化処理装置ならびにごみ処理方法を提供する。 - 特許庁

The treating device described above is the wet process oxidation treating device 1 and is so constituted that the whole or part of the remaining solid components returned by the returning means 8 is introduced into the wet process oxidation treating device 1 by an introducing means 9.例文帳に追加

前記処理装置は、湿式酸化処理装置１であり、返送手段８により返送されて残った固形分の全部もしくは一部が導入手段９により湿式酸化処理装置１に導入されるように構成されている。 - 特許庁

In the first wet oxidation process, wet oxidation at a treatment temperature of about 875°C is performed to an exposed surface of an epitaxial layer 1b through an aperture part 18a of a silicon nitride film 18, and a thin oxide film 6a is formed.例文帳に追加

第１のウエット酸化工程では、エピタキシャル層１ｂの露出面に対して、窒化シリコン膜１８の開口部１８ａを通して約８７５℃の処理温度でのウエット酸化を施すことにより薄い酸化膜６ａを形成する。 - 特許庁

In the second wet oxidation process, oxidation of the epitaxial layer 1b is made to progress in the state that a thermal treatment temperature of the above wet oxidation is raised up to about 1050°C, and the trench part LOCOS oxide film 6 of about 950 nm in thickness is finally formed.例文帳に追加

第２のウエット酸化工程では、上記ウエット酸化の熱処理温度を、約１０５０℃に上げた状態でエピタキシャル層１ｂの酸化を進行させ、最終的に膜厚が９５０ｎｍ程度の溝部ＬＯＣＯＳ酸化膜６を形成する。 - 特許庁

The method of executing the oxidative decomposition treatment of waste water containing the lower alcohol by the wet oxidation method includes: a first wet oxidation treatment process of using air as an oxidizing agent and putting the waste water to a hydrothermal reaction condition; and a second wet oxidation treatment process of using the hydrogen peroxide as the oxidizing agent and putting the waste water to the hydrothermal reaction condition.例文帳に追加

低級アルコール類を含有する廃水を湿式酸化法により酸化分解処理する方法であって、酸化剤として空気を用いて該廃水を水熱反応条件に付す第１の湿式酸化処理工程と、次いで、酸化剤として過酸化水素を用いて該廃水を水熱反応条件に付す第２の湿式酸化処理工程とを包含する。 - 特許庁

To provide copper fine particles having excellent oxidation resistance by a wet reduction process, to provide a method for producing the copper fine particles, and to provide a dispersion comprising the copper fine particles.例文帳に追加

湿式還元法によって、耐酸化性に優れた銅微粒子とその製造方法、及びその銅微粒子を含む分散液を提供する。 - 特許庁

A process for lowering pH of the hydrothermal reaction liquid is preferably included for performing wet oxidation reaction using the pH-lowered treated liquid.例文帳に追加

前記水熱反応液のｐＨを低下させる工程をさらに含み、当該ｐＨ低下後の処理液を用いて湿式酸化反応を行うことが好ましい。 - 特許庁

Even if reflow process of the interlayer insulating film 10 is performed in wet atmosphere, amount of oxidation of the gate electrode 9 can be reduced as compared with a conventional case where rounding oxidation of the gate electrode 9 and reflow process of the interlayer insulating film 10 are performed separately.例文帳に追加

これにより、層間絶縁膜１０のリフロー処理をウェット雰囲気で行ったとしても、従来のようにゲート電極９の丸め酸化と層間絶縁膜１０のリフロー処理とを別々に行う場合と比べて、ゲート電極９の酸化量を少なくすることが可能となる。 - 特許庁

This treatment method comprises the hydrothermal reaction process for hydrolyzing the organic waste in an aqueous condition of pH 8-14, and a wet oxidation process for oxidizing hydrothermal reaction liquid with oxygen-containing gas.例文帳に追加

有機性廃棄物を、ｐＨ８〜１４の水性条件下において加水分解する水熱反応工程と、前記水熱反応液を酸素含有ガスによって酸化する湿式酸化工程と、を含む。 - 特許庁

Cleaning is carried out by using a cleaning liquid of a pH ≥11 containing ammonia and/or ammonium salt in the method of cleaning the catalyst wet process oxidation equipment packed with the catalysts for subjecting the ammonia in the waste water containing the ammonia and the metals to catalyst wet process oxidation decomposition by passing the waste water through the equipment and bringing the ammonia in the waste water into contact with the catalysts in the presence of an oxidizing agent.例文帳に追加

アンモニア及び金属を含有する排水を通水して該排水中のアンモニアを酸化剤の存在下に触媒と接触させて触媒湿式酸化分解するための触媒が充填された触媒湿式酸化装置を洗浄する方法において、アンモニア及び／又はアンモニウム塩を含む、ｐＨ１１以上の洗浄液を用いて洗浄する。 - 特許庁

To regenerate catalysts by efficiently cleaning away the scale sticking to catalyst surfaces with catalyst wet process oxidation equipment for treating waste water in which metals coexist together with ammonia.例文帳に追加

アンモニアと共に金属が共存する排水を処理する触媒湿式酸化装置において、触媒表面に付着したスケールを効率的に洗浄除去して触媒を再生する。 - 特許庁

The method for decomposing the organic compounds includes a process of decomposing the organic compounds by a catalyst wet oxidation method in a watercourse below 1 mm in equivalent diameter.例文帳に追加

等価直径１ｍｍ以下の流路中にて有機化合物を触媒湿式酸化法により分解させる工程を含むことを特徴とする有機化合物の分解方法。 - 特許庁

The treatment equipment 1 for the jellyfishes equipped with liquefaction equipment (hydrothermal catalyst wet process oxidation treatment equipment 2) for subjecting the jellyfishes as the materials to be treated to liquefaction treatment by a hydrothermal reaction.例文帳に追加

被処理物としてのクラゲを、水熱反応によって液状化処理する液状化装置（水熱触媒湿式酸化処理装置２）を備えたクラゲの処理装置１。 - 特許庁

To provide a temperature controller for wet process oxidation treatment equipment which is capable of heating a reaction apparatus so as to minimize an excess heat quantity and holding the internal temperature of a reaction tube of the reaction apparatus at a specified saturation temperature.例文帳に追加

余剰熱量が最小になるように反応装置の加熱を制御し、しかも反応装置の反応管の内部温度を一定の飽和温度で保持することのできる湿式酸化処理装置における温度制御装置を提供する。 - 特許庁

The halogenated organic compounds contained in the wastewater are treated in a first treatment process where the halogenated organic compounds are adsorbed to an adsorbent, a second treatment process where the halogenated organic compounds are desorbed from the adsorbent to which the halogenated organic compounds are adsorbed and a third treatment process where the halogenated organic compounds desorbed are decomposed by a wet oxidation process.例文帳に追加

排水中の有機ハロゲン化合物を処理するにあたり、吸着材に有機ハロゲン化合物を吸着させる第一処理工程、有機ハロゲン化合物が吸着した吸着材から有機ハロゲン化合物を脱離させる第二処理工程、脱離した有機ハロゲン化合物を湿式酸化法により分解する第三処理工程で処理する。 - 特許庁

In order to obtain excellent results by this treatment method, all reducing compound species are balanced with equivalent oxidizing compound species, all anions of strong acids are balanced with the cations of strong bases, and, in a wet oxidation process, 0.06 mol acetate ion is added with respect to 1 mol nitrate.例文帳に追加

本方法を成功させる鍵は、還元性のすべての化合物種を当量の酸化性の化合物種と均衡させ、またすべての強酸陰イオンを強塩基陽イオンと均衡させ、そして湿式酸化工程に硝酸塩１モルあたり少なくとも０.０６モルの酢酸イオンを含めることである。 - 特許庁

To allow an electrode short circuit to occur by cutting the surface of an HSG silicon layer together with a natural oxidation film and producing HSG grain peeling due to lack of mechanical strength of a lower electrode when a wet etching process is performed before formation of a dielectric film in a manufacturing method of a capacitor utilizing HSG formation.例文帳に追加

ＨＳＧ形成を利用したキャパシタの製造方法で、誘電体薄膜の形成前にウェットエッチング工程を行うと自然酸化膜と一緒にＨＳＧシリコン層の表面も削られて、下部電極の機械的強度不足によりＨＳＧ粒剥がれが発生して電極短絡が起こる。 - 特許庁

The method for manufacturing the multilayered electrode includes alternately layering a conductor layer and a dielectric layer on the ceramic workpiece, wherein the above conductor layer is formed in a wet process, and the above dielectric layer is formed by at least one method selected among a coating-sintering method, an electrolytic reduction method, an electrolytic oxidation method, a liquid-phase precipitation method, or an electrodeposition coating method.例文帳に追加

セラミックス素体上に、導体層と誘電体層とを交互に積層して形成する多層電極の製造方法であって、前記導体層を湿式プロセスにより形成し、前記誘電体層を塗布−焼成法、電解還元法、電解酸化法、液相析出法、電着塗装法から選ばれる少なくとも一つ以上の方法によって形成する。 - 特許庁

To provide a wet refining method for a copper raw material containing a copper sulfide mineral such as chalcopyrite, which leaches copper out of the raw material at a high leach rate while suppressing oxidation of sulfur, recovers monovalent copper through electrolysis process and recovers a concomitant valuable metal while minimizing production of wastes such as leaching residue.例文帳に追加

黄銅鉱を始めとする硫化銅鉱物を含む銅原料の湿式精錬法において、硫黄の酸化を抑制しながら高浸出率で銅を浸出して一価銅電解で回収し、また随伴する有価金属も回収して、浸出残渣などの廃棄物を可能な限り減少することができる精錬方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for controlling the pH of an aqueous solution capable of simply and precisely controlling the pH and oxidation and reduction potential(ORP) of washing water in order to obtain higher washing effect in washing water of wet washing in a process of manufacturing for a semiconductor substrate, a liquid crystal substrate, a magnetic substrate or a superconductive substrate.例文帳に追加

半導体基体、液晶基体、磁性基体または超伝導基体製造プロセスにおけるウェット洗浄の洗浄水においてより高い洗浄効果を得るために、洗浄水のｐＨと酸化還元電位（ＯＲＰ）をより簡便かつ精密に制御できる水溶液のｐＨ制御の方法及びその装置を提供する。 - 特許庁

To reduce a discharge amount of carbon dioxide gas by recycling the carbon dioxide gas generated in the step of purifying a nickel leachate with an oxidation neutralization method by using chlorine gas and nickel carbonate, in a wet refining process for nickel, and reduce the consumption of sodium carbonate necessary for producing nickel carbonate used as an alkaline agent in the leachate-purifying step.例文帳に追加

ニッケルの湿式精錬法において、塩素ガスと炭酸ニッケルを用いた酸化中和法によるニッケル浸出液の浄液工程で発生する炭酸ガスを再利用することにより、炭酸ガスの排出量を低減すると共に、浄液工程でアルカリ剤として用いる炭酸ニッケルの製造に必要な炭酸ソーダの使用量を削減する。 - 特許庁

The semiconductor device is fabricated by a process of selectively introducing halogen element or argon to an element region 14 of a silicon substrate 10 and a process of forming a silicon oxide film 24 over an element region 16 and a silicon oxide film 22, which is thicker than film 24, over the element region 14 by wet oxidation of the substrate 10 under the reduced pressure or the diluted atmosphere by nitrogen or rare gas.例文帳に追加

シリコン基板１０の素子領域１４に、ハロゲン元素又はアルゴンを選択的に導入する工程と、シリコン基板１０を、減圧下又は窒素若しくは希ガスにより希釈された雰囲気でウェット酸化することにより、素子領域１６にシリコン酸化膜２４を、領域１４にシリコン酸化膜２４より厚いシリコン酸化膜２２を、それぞれ形成する工程とを有する製造方法により半導体装置を製造する。 - 特許庁