けい化コバルトの英語

コバルトシリサイドプロセス構造の半導体装置の製造方法において、シリサイド形成領域上に形成したコバルト膜３７上にこのコバルト膜３７と同一成分を含む酸化抑止膜（窒化コバルト膜３８）を積層した後に、この窒化コバルト膜３８を介して前記コバルト膜３７を熱処理してシリサイド化する工程とを有することを特徴とする。例文帳に追加

Related to a manufacturing process for a semiconductor device of a cobalt silicide process structure on a cobalt film 37 formed over a silicide formation region, an oxidation suppressing film (cobalt nitride film 38) comprising the same component as the cobalt film 37 is laminated, and then via the cobalt nitride film 38, a process is included in which the cobalt film 37 is thermally processed for siliciding. - 特許庁

卑金属系酸化触媒が、コバルト、クロム、マンガン及び銅などを含む。例文帳に追加

The base metal catalyst includes cobalt, chromium, manganese and copper or the like. - 特許庁

フッ素含有リチウムコバルト系複合酸化物及びその製造方法例文帳に追加

FLUORINE-CONTAINING LITHIUM COBALT COMPLEX OXIDE AND ITS MANUFACTURING METHOD - 特許庁

この形成したコバルト酸化物膜の膜厚が、５００ｎｍ以上である。例文帳に追加

The film thickness of the formed cobalt oxide film is 500 nm or more. - 特許庁

２価のコバルト塩を、神経細胞分化誘導剤として使用する。例文帳に追加

A divalent cobalt salt is used as a nerve cell differentiation inducer. - 特許庁

層構造コバルト酸化物系結晶体とその製造方法例文帳に追加

COBALT-OXIDE-BASED CRYSTAL BODY WITH LAYERED STRUCTURE, AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR - 特許庁

そののち、塩化コバルト水溶液を蒸発乾固させ、水素雰囲気中において６２３〜８７３Ｋの温度で加熱し、コバルトを生成する。例文帳に追加

Subsequently, the aqueous solution of cobalt chloride is permitted to evaporate and dried and solidified and is then heated at 623 to 873 K in hydrogen atmosphere to form the cobalt. - 特許庁

触媒としては、コバルト触媒を必須とし、コバルト触媒以外の金属触媒及び／又は有機系硬化促進剤とを併用する。例文帳に追加

A catalyst system containing a cobalt catalyst as an essential component and combinedly using a metal catalyst other than the cobalt catalyst and/or an organic curing accelerator is used as a catalyst for curing. - 特許庁