| 例文 (10件) |
"ガスの励起"を含む例文一覧と使い方
該当件数 : 10件
処理容器２内において、原料ガスの励起種を用いて半導体ウェハＷの処理を行う。例文帳に追加
In the treating vessel 2, a semiconductor wafer W is treated by using an excited species generated from a feed gas. - 特許庁
窒素ガスの励起種は基板上にＳｉ−Ｃ−Ｎ材料を蒸着するようシリコン及び炭素の励起種と反応する。例文帳に追加
The excitation seeds of the nitrogen gas so reacts on the excitation seeds for silicon and carbon as to deposit the Si-C-N material on a substrate. - 特許庁
これにより、主としてターゲット側でプロセスガスの励起が行われることとなり、基板側へのプラズマの拡散が抑止することができる。例文帳に追加
Then, scattering of plasma to a substrate side can be inhibited because a process gas is excited mainly in the target side. - 特許庁
これにより、アルゴンガスの励起によるプラズマと帯電状態のウエハＷを接触させてウエハＷから電荷を逃がす。例文帳に追加
Accordingly, charges are released from the wafer W by bringing the plasma by exciting the argon gas and the wafer W under a charged state into contact. - 特許庁
レーザ用ガスの励起を放電で行う場合に主放電電極が劣化する現象を改善することによりレーザ出力の向上及び安定化を図ることができる放電励起式レーザ装置を提供すること。例文帳に追加
To provide a discharge stimulated laser device with which laser output can be improved and stabilized by improving the phenomenon of deterioration of the main discharge electrode generating when laser gas is discharged and stimulated. - 特許庁
そして前記摺動方向に一致し、電極間の隙間を通過するよう処理ガス経路を設け、この隙間に発生する処理ガスの励起活性種をワーク表面に接触させる表面処理装置である。例文帳に追加
A treatment gas passage is provided as to coincide with sliding direction and to passing through a clearance between the electrodes. - 特許庁
制御装置５は、電子のエネルギ分布のピークエネルギが、ガスの励起エネルギよりも大きくガスのイオン化エネルギよりも小さくなるように電子源２の駆動電極間の電圧を制御することでガスを放電させずにガスを励起させる。例文帳に追加
The control device 5 makes the gas excited without making the gas discharge by controlling voltage between the driving electrodes of the electron source 2 so as to make peak energy of an energy distribution of the electrons larger than excitation energy of the gas and to make the peak energy of the energy distribution of the gas smaller than ionization energy of the gas. - 特許庁
長寿命化を図れ、且つ放電ガスの励起効率の向上効果、並びに放電プラズマの開始電圧及び維持電圧の低減効果を安定して得ることができる放電プラズマ生成補助装置、及び発光装置、並びに照明器具を提供することにある。例文帳に追加
To provide a discharge plasma generation auxiliary device, with life elongation aimed at, and capable of stably obtaining an improvement effect of excitation efficiency of discharge gas and decrease effect of starting voltage and maintenance voltage of discharge plasma, as well as a light-emitting device and a lighting fixture. - 特許庁
プリ発光用のトリガ印加電圧の印加開始後のキセノンガスの励起中に、プリ発光用の発光制御電圧がスイッチＳＷ１に印加されると、メインコンデンサＣ２に蓄積された電荷が放電され、放電管４０に放電管電流Ｉ１が流れて発光エネルギーが与えられ、プリ発光が行われる。例文帳に追加
When light emission control voltage for pre-emission is applied to a switch SW1 while the xenon gas is excited after starting the application of the trigger applied voltage for pre-emission, charge accumulated in a main capacitor C2 is discharged, and discharge tube current I1 flows to the discharge tube 40, so that light emission energy is given, thereby performing the pre-emission. - 特許庁
第１のガスをプラズマ生成領域に供給し、第１のガスの励起ガスと非励起ガスをプラズマ外の成膜領域で導入される第２のガスと反応させて成膜を行う際、第２のガスをプラズマ生成領域に逆流させないための多孔板をプラズマ生成領域と第２のガスの供給部との間に配置する。例文帳に追加
When a first gas is provided to plasma generating region, and excitation gas and non-excitation gas of the first gas are reacted, with a second gas introduced in the film-forming region out of the plasma to form a film, a porous plate for preventing back flow of the second gas to the plasma generating region is arranged between the plasma generating region and the second gas supplying section. - 特許庁
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