「"位相シフト"」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

位相シフトマスクの製造方法と半導体装置例文帳に追加

METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK, AND SEMICONDUCTOR APPARATUS - 特許庁

位相シフト量測定装置及び透過率測定装置例文帳に追加

PHASE SHIFT AMOUNT MEASURING APPARATUS AND TRANSMITTANCE MEASURING APPARATUS - 特許庁

位相シフトマスク及びその製造方法例文帳に追加

PHASE SHIFT MASK AND ITS MANUFACTURING METHOD - 特許庁

位相シフトマスクおよびその製造方法例文帳に追加

PHASE SHIFT MASK AND ITS MANUFACTURING METHOD - 特許庁

レベンソン型位相シフトマスク及びその製造方法例文帳に追加

LEVENSON TYPE PHASE SHIFT MASK AND ITS MANUFACTURING METHOD - 特許庁

アシスト位相領域を有する位相シフトマスク例文帳に追加

PHASE-SHIFT MASK WITH ASSIST PHASE REGION - 特許庁

位相シフトマスクおよびその設計方法例文帳に追加

PHASE SHIFT MASK AND ITS DESIGN METHOD - 特許庁

マスクブランク及び位相シフトマスクの製造方法例文帳に追加

MASK BLANK AND MANUFACTURING METHOD OF PHASE SHIFT MASK - 特許庁

ハーフトーン型位相シフトマスクブランク及びマスク例文帳に追加

HALFTONE PHASE SHIFT MASK BLANK AND MASK - 特許庁

位相シフトフォトマスク及びその製造方法例文帳に追加

PHASE SHIFTING PHOTOMASK AND METHOD OF FABRICATING THE SAME - 特許庁

ハーフトーン型位相シフトマスク及びその製造方法例文帳に追加

HALFTONE PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME - 特許庁

ハーフトーン型位相シフトマスク及びその製造法例文帳に追加

HALFTONE PHASE SHIFT MASK AND ITS MANUFACTURING METHOD - 特許庁

ハーフトーン型位相シフトマスク及びマスクブランク例文帳に追加

HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK AND MASK BLANK - 特許庁

位相シフト回路２１１Ａは０度、位相シフト回路２１１Ｂは４５度、位相シフト回路２１１Ｃは９０度とシフトし、順に位相シフト回路２１１Ｈまで回転角度に応じてシフトする。例文帳に追加

The phase shift circuit 211A performs phase shift at 0°, the phase shift circuit 211B performs phase shift at 45° and the phase shift circuit 211C performs phase shift at 90°, and phases are shifted to the phase shift circuit 211H in order in accordance with a rotation angle. - 特許庁

位相シフト干渉法に基づく光ファイバー検定装置例文帳に追加

OPTICAL FIBER ASSAY APPARATUS BASED ON PHASE-SHIFT INTERFEROMETRY - 特許庁

位相シフトマスク及びその作製方法例文帳に追加

PHASE SHIFTING MASK AND ITS FABRICATION METHOD - 特許庁

ハーフトーン型位相シフトマスク及びその検査方法例文帳に追加

HALFTONE PHASE SHIFT MASK AND ITS INSPECTION METHOD - 特許庁

マイクロ構造光位相シフトフィルムとレンズ例文帳に追加

MICROSTRUCTURE OPTICAL PHASE SHIFTING FILM AND LENS - 特許庁

ハーフトーン型位相シフトマスクおよびブランク例文帳に追加

HALFTONE PHASE SHIFTING MASK AND BLANK - 特許庁

位相シフトマスクのひさし量測定方法例文帳に追加

EAVES QUANTITY MEASURING METHOD FOR PHASE SHIFT MASK - 特許庁

レベンソン型位相シフトマスク及びその製造方法例文帳に追加

LEVENSON TYPE PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME - 特許庁

位相シフトマスクおよび、これを用いたパターン露光方法例文帳に追加

PHASE SHIFT MASK AND PATTERN EXPOSING METHOD USING SAME - 特許庁

位相シフトマスク及びその製造方法例文帳に追加

PHASE SHIFT MASK AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME - 特許庁

位相シフトデジタルホログラフィ装置例文帳に追加

PHASE SHIFT DIGITAL HOLOGRAPHY DEVICE - 特許庁

露光方法及びハーフトーン型位相シフトマスク例文帳に追加

EXPOSURE METHOD AND HALFTONE PHASE SHIFT MASK - 特許庁

活性層分離型位相シフトＤＦＢレーザ例文帳に追加

ACTIVE LAYER DISCRETE TYPE PHASE SHIFT DFB LASER - 特許庁

自己整合型位相シフトマスク及びその製造方法例文帳に追加

SELF ALIGNMENT TYPE PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME - 特許庁

位相シフトマスク及びそれを用いた露光方法例文帳に追加

PHASE SHIFT MASK AND EXPOSURE METHOD USING THE SAME - 特許庁

ハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法例文帳に追加

MANUFACTURING METHOD FOR HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK - 特許庁

位相シフトマスクの欠陥修正方法例文帳に追加

DEFECT CORRECTION METHOD FOR PHASE SHIFT MASK - 特許庁

ハーフトーン型位相シフトマスク及びその製造方法例文帳に追加

HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME - 特許庁

位相シフトマスク及びその製造方法例文帳に追加

PHASE SHIFT MASK, AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME - 特許庁

強い位相シフトマスクを製造する方法例文帳に追加

PRODUCTION OF STRONG PHASE-SHIFT MASK - 特許庁

位相シフト制御部３２は、電気信号にもとづいて位相制御信号を生成し、位相制御信号を位相シフト部１ａ−３に与えて、位相シフト部１ａ−３で設定すべき位相シフト量を制御する。例文帳に追加

A phase shift controller 32 generates a phase control signal based on the electric signal and applies the signal to the shifter 1a-3 to control the phase shift amount to be set by the shifter 1a-3. - 特許庁

位相シフトマスクにおける欠陥仕様の決定方法例文帳に追加

METHOD FOR DETERMINING DEFECT SPECIFICATION IN PHASE SHIFT MASK - 特許庁

ハーフトーン型位相シフトマスクおよびブランク例文帳に追加

HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK AND BLANK - 特許庁

ハーフトーン型位相シフトマスクブランクスの製造方法例文帳に追加

METHOD FOR MANUFACTURING HALFTONE PHASE SHIFT MASK BLANK - 特許庁

露光方法および位相シフトマスク例文帳に追加

METHOD FOR EXPOSURE AND PHASE SHIFT MASK - 特許庁

位相シフトマスク及びその製造方法例文帳に追加

PHASE SHIFTING MASK AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME - 特許庁

光学リソグラフィー用ボルテックス位相シフトマスク例文帳に追加

VORTEX PHASE SHIFT MASK FOR PHOTOLITHOGRAPHY - 特許庁

位相シフトマスク及びパターン形成方法例文帳に追加

PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR FORMING PATTERN - 特許庁

位相シフトマスクおよびパターン形成方法例文帳に追加

PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR FORMING PATTERN - 特許庁

位相シフト法による計測方法と装置例文帳に追加

MEASUREMENT METHOD AND DEVICE BY PHASE SHIFT METHOD - 特許庁

基板上に、少なくとも位相シフト膜とメタル含有膜を有する位相シフトマスクブランクであって、該位相シフト膜と該メタル含有膜の密着性を向上した位相シフトマスクブランクを提供する。例文帳に追加

To provide a phase shift mask blank having at least a phase shift film and a metal-containing film on a substrate and to provide a phase shift mask blank in which the adhesion property between the phase shift film and the metal-containing film is improved. - 特許庁

位相シフトマスクブランク及びその製造方法例文帳に追加

PHASE SHIFTING MASK BLANK AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME - 特許庁