「"位相シフト"」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

位相シフトマスクの製造方法、レジストパターンの形成方法および半導体装置の製造方法例文帳に追加

METHOD FOR PRODUCING PHASE SHIFT MASK, RESIST PATTERN FORMING METHOD AND METHOD FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁

位相シフトマスクおよびその製造方法、ならびに集積回路の製造方法例文帳に追加

PHASE SHIFT MASK, MANUFACTURING METHOD THEREOF, AND METHOD FOR MANUFACTURING INTEGRATED CIRCUIT - 特許庁

ハーフトーン位相シフトマスクおよびそれを用いた半導体装置の製造方法例文帳に追加

HALFTONE PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME - 特許庁

このチェッカーボードアレイは、１８０度の位相差を有する交互位相シフト領域Ｒを有している。例文帳に追加

The checkerboard array comprises alternating phase-shift regions R that have a relative phase difference of 180 degrees. - 特許庁

空間光変調器を用いた分散補償器において、所望の位相シフト関数を再現すること。例文帳に追加

To reproduce a desired phase shift function in a dispersion compensator using a spatial light modulator. - 特許庁

これにより、１回の描画で位相シフトマスクを製造することができ、工程を削減できる。例文帳に追加

As a result, the phase shift mask can be manufactured by one time of drawing and the process steps can be decreased. - 特許庁

参照ビームは、固定の参照再帰反射器に、次いで位相シフト検出器に方向付けられる。例文帳に追加

The reference beam is directed at a stationary reference retroreflector and then a phase shift detector. - 特許庁

位相シフトマスクの検査方法において露光光の位相差の計測精度を向上させること。例文帳に追加

To improve the precision in measuring the phase difference of exposure light, in a phase-shift mask inspection method. - 特許庁

位相シフト法で測定する装置で格子縞の位置調整が容易に行えるようにする。例文帳に追加

To easily enable adjusting a position of lattice fringes by a measuring device using a phase shifting method. - 特許庁

簡易に位相シフトバースト調光を実現可能な電流駆動回路を提供する。例文帳に追加

To provide a current drive circuit that easily achieves phase shift burst dimming. - 特許庁

粗表面ワークに位相シフト法を適用し、その異常凹凸を精度良く検出する。例文帳に追加

To apply a phase shift method to a workpiece having a rough surface to accurately detect an abnormal concave-convex irregularity. - 特許庁

位相シフト膜１１における開口部の周辺部がオーバーハングしている。例文帳に追加

The peripheral part of the opening in the phase shifting film 11 is overhang. - 特許庁

本発明はハーフトーン型位相シフト・フォトマスクの修復に特に応用可能である。例文帳に追加

The invention is particularly applicable to the repair of half-tone-type phase shift photomasks. - 特許庁

露光光での位相シフトマスクとしての位相差，透過率や検査波長での透過率を制御でき、耐薬品性に優れ、さらにエッチングによるパターニング性に優れたハーフトーン型位相シフト膜を有するハーフトーン型位相シフトマスク用ブランクス及び位相シフトマスク並びにパターン転写方法を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a halftone phase shift mask blank having a halftone phase shift film which can control the retardation and transmittance as a phase shift mask for exposure light and the transmittance at an inspection wavelength, which has excellent chemical resistance and excellent patterning property by etching, and to provide a phase shift mask and a method for transferring a pattern. - 特許庁

減衰型の位相シフトマスクの製造方法およびこれにより得られるデバイス例文帳に追加

METHOD FOR MANUFACTURING ATTENUATED PHASE SHIFT MASK AND DEVICE OBTAINED THEREFROM - 特許庁

ＡｒＦ、Ｆ２エキシマレーデー露光に対応したハーフトーン型位相シフトマスクおよびハーフトーン型位相シフトマスクブランクの材料構成および構成元素の含有比率を、光学特性や耐性等の膜特性等から鑑みて定め、ハーフトーン型位相シフトマスクおよびハーフトーン型位相シフトマスクブランク並びにその製造方法を提供する。例文帳に追加

To determine the material constitution and the content ratio of the constituent elements of a halftone phase shift mask and a halftone phase shift mask blank adapted to ArF or F2 excimer laser exposure in consideration of film properties such as optical properties and resistance, to provide a halftone phase shift mask and a halftone phase shift mask blank and to provide a method for producing those. - 特許庁

ヒータ２１２は、制御信号ＣＳ１に応じて位相シフト量を変化させる。例文帳に追加

The heater 212 varies the phase shift amount in response to the control signal CS1. - 特許庁

レジスト組成物、パタン形成方法およびこれを用いた位相シフトマスクの製造方法例文帳に追加

RESIST COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD AND MANUFACTURE OF PHASE SHIFT MASK BY USING IT - 特許庁

回路パターンの微細化や高精度化に貢献し得る位相シフトマスクの製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing a phase shift mask that can contribute to a finer circuit pattern and higher accuracy. - 特許庁

品質を損なわずに、補助パターン型位相シフトマスクを製造することが可能とする。例文帳に追加

To manufacture an auxiliary pattern phase shift mask without degrading the quality. - 特許庁

集積回路の位相シフトおよびトリム・マスクを決定する方法および装置例文帳に追加

METHOD AND DEVICE FOR DETERMINING PHASE SHIFTS AND TRIM MASK FOR INTEGRATED CIRCUIT - 特許庁

高精度な転写パターンを転写することが可能なハーフトーン型位相シフトマスクを提供する。例文帳に追加

To provide a halftone phase shifting mask capable of transferring a high-precision transfer pattern. - 特許庁

キャンセル用の原搬送波信号は、移相器１６で位相シフトを受ける。例文帳に追加

The original carrier signal for cancellation is subjected to the phase shift in a phase shifter 16. - 特許庁

感放射線組成物、パタン形成方法およびこれを用いた位相シフトマスクの製造方法例文帳に追加

RADIATION SENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD AND METHOD FOR PRODUCING PHASE SHIFT MASK USING SAME - 特許庁

対物レンズ群は、位相シフト素子１１、高屈折率液体１２、対物レンズ１３からなる。例文帳に追加

An objective lens group comprises a phase shift element 11, a high refractive index liquid 12 and an objective lens 13. - 特許庁

光位相シフトフィルムは、異なる偏光角を有する光のため、異なる屈折率を示す。例文帳に追加

The optical phase shift film exhibits different refractive index because of the light with different polarization angle. - 特許庁

フォトリソグラフィのための正確に透過平衡された交互位相シフト・マスク例文帳に追加

ACCURATELY TRANSMISSION-EQUILIBRATED ALTERNATE PHASE SHIFT MASK FOR PHOTOLITHOGRAPHY - 特許庁

高周波位相変調器における位相シフトの高精度測定装置および方法例文帳に追加

APPARATUS AND METHOD FOR HIGHLY ACCURATELY MEASURING PHASE SHIFT IN HIGH-FREQUENCY PHASE MODULATOR - 特許庁

光学構造は、共振信号の一部に位相シフトを与えるよう構成されることができる。例文帳に追加

The optical structure can be configured so as to give a phase shift to a part of the resonant signal. - 特許庁

交代偏光位相シフトキード・データを伝送するための方法および装置を提供する。例文帳に追加

To provide a method and apparatus for transmitting alternate-polarization phase-shift-keyed data. - 特許庁

位相シフト・マスク１０９を透過した光は対物レンズ１１２に入射する。例文帳に追加

The light transmitted through the phase shift mask 109 is made incident on an objective lens 112. - 特許庁

この誤差信号は、位相同期ループの位相シフト入力に供給される。例文帳に追加

The error signal is fed to a phase shifting input of a phase lock loop. - 特許庁

試料裏面を傷付けることなく、試料の厚さむらを位相シフト法により定量的に検査する。例文帳に追加

To qualitatively inspect thickness unevenness of a sample without flawing the sample reverse surface. - 特許庁

位相シフトデジタルホログラフィ法を用いた歪計測方法および歪計測装置例文帳に追加

METHOD AND APPARATUS FOR MEASURING DISTORTION USING PHASE-SHIFT DIGITAL HOLOGRAPHIC METHOD - 特許庁

位相補正回路５は、基準無効信号１０２に基づいて位相シフトを補正する。例文帳に追加

A phase correction circuit 5 corrects the phase shift on the basis of a reference reactive signal 102. - 特許庁

ハーフトーン型位相シフトマスク及びその製造方法及びそれを用いたマスクパターン転写方法例文帳に追加

HALFTONE PHASE SHIFT MASK, ITS MANUFACTURING METHOD AND METHOD FOR TRANSFERRING MASK PATTERN BY USING SAME - 特許庁

パターン形成方法と位相シフトマスクの製造方法および半導体装置の製造方法例文帳に追加

PATTERN FORMING METHOD, METHOD FOR PRODUCING PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁

製造が容易でかつ高精度のパターン形成が可能な位相シフトマスクを提供する。例文帳に追加

To provide a phase shift mask easy to produce and capable of forming a high-precision pattern. - 特許庁

遅延素子を用いることにより、ＲＦ周波数に比例するＲＦ位相シフトを引き起こすことができる。例文帳に追加

An RF phase shift that is proportional to a RF frequency is obtained by using the delay element. - 特許庁

ドライエッチング方法およびハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法例文帳に追加

DRY ETCHING METHOD AND METHOD FOR FABRICATING HALFTONE PHASE SHIFTING MASK - 特許庁

位相シフトマスクとその製造方法及び半導体素子の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a phase shift mask, a method for manufacturing the same, and a method for manufacturing a semiconductor element. - 特許庁

位相シフトマスクを用いて転写する転写パターンの寸法をより高精度に制御する。例文帳に追加

To control a dimension of a transferred pattern with higher accuracy transferred by using a phase shift mask. - 特許庁

該データに基づき、位相シフト法を用いて、クリームハンダＨの高さを演算する。例文帳に追加

A height of the cream solder H is computed, based on the data, by a phase shift method. - 特許庁

透明基板１上の周縁部に位相シフト膜２の存在しない露出部５が形成される。例文帳に追加

An exposed portion 5, where the phase shift film 2 is absent, is formed in the peripheral edge on the transparent substrate 1. - 特許庁

位相シフトマスクブランクであって、少なくとも、基板上に、金属シリサイド化合物を主成分とする１層以上の位相シフト膜と、１層以上のメタル含有膜を具備し、前記位相シフト膜と前記メタル含有膜との界面に、膜の組成が連続的に変化したバッファ層を有するものであることを特徴とする位相シフトマスクブランク。例文帳に追加

The phase shift mask blank has, at least on a substrate, one or more layers of a phase shift film essentially comprising a metal silicide compound and one or more layers of a metal-containing film, and further has a buffer layer having a continuously varied composition of the film on the interface between the phase shift film and the metal-containing film. - 特許庁