「"位相シフト"」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク及びハーフトーン型位相シフトマスク並びにその製造方法例文帳に追加

BLANK FOR HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK, HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK AND PRODUCTION METHOD THEREFOR - 特許庁

ハーフトーン型位相シフトフォトマスクブランクとハーフトーン型位相シフトフォトマスク及びその製造方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a halftone phase shift photomask blank, a halftone phase shift photomask, and a fabricating method thereof. - 特許庁

位相シフト領域と非位相シフト領域の間の遷移だけで、ウェハ上のパターンを画定するため、マスク上の不透明構造は不要となる。例文帳に追加

The transition between the phase shift region and non-phase shift region alone defines a pattern on the wafer, without the need for an opaque structure on the mask. - 特許庁

改良された位相シフトリソグラフィと、狭いトラック幅Ｄの書き込み極を画定するためのハーフトーン位相シフトマスクを提供する。例文帳に追加

To provide an advanced phase shift lithography and attenuated phase shift mask for narrow track width D write pole definition. - 特許庁

ハーフトーン型位相シフトマスクブランク、ハーフトーン型位相シフトマスク及びその製造方法、並びにパターン転写方法例文帳に追加

HALFTONE PHASE SHIFTING MASK BLANK, HALFTONE PHASE SHIFTING MASK, METHOD FOR PRODUCING THE SAME AND METHOD FOR TRANSFERRING PATTERN - 特許庁

半遮光部形成領域の透過性基板１０上に下層位相シフト膜１１と上層位相シフト膜１２とが積層されている。例文帳に追加

The lower-layer phase shift film 11 and an upper-layer phase shift film 12 are laminated on the transmissive substrate 10 in a light half-shielding part formation area. - 特許庁

位相シフトマスクの欠陥、特に微小欠陥を確実に検出できる位相シフトマスクの欠陥検査装置を提供する。例文帳に追加

To provide a defect inspection apparatus for a phase shift mask which is capable of surely detecting the defect, more particularly microdefects of the phase shift mask. - 特許庁

スパッタターゲット、該スパッタターゲットを用いた位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスクの製造方法例文帳に追加

SPUTTERING TARGET, PHASE SHIFT MASK BLANK USING THIS SPUTTERING TARGET, AND METHOD OF MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK - 特許庁

磁気軸受制御時には、記憶部３０６に記憶した位相を位相シフト部３２１の位相シフト量に設定して制御を行う。例文帳に追加

The phase stored in the storage part 306 is determined as a phase shifting quantity of the phase shifting part 321 to perform the control, in controlling the magnetic bearing. - 特許庁

スパッタターゲット、該スパッタターゲットを用いた位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスクの製造方法例文帳に追加

SPUTTERING TARGET, PHASE SHIFT MASK BLANK OBTAINED BY USING THE SAME SPUTTERING TARGET AND METHOD OF PRODUCING PHASE SHIFT MASK - 特許庁

ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランクス及びハーフトーン型位相シフトマスク並びにパターン転写方法。例文帳に追加

HALFTONE PHASE SHIFT MASK BLANK, HALFTONE PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR TRANSFERRING PATTERN - 特許庁

したがって、従来のクロムレス位相シフトマスクの特徴である強い位相シフト効果を維持しつつ、パターン倒れを抑制することが可能となる。例文帳に追加

Therefore, while maintaining strong phase shift effects as features of a conventional crome-less phase shift mask, pattern falling can be suppressed. - 特許庁

位相シフトマスクの欠陥、特に微小欠陥を正確に検出できる位相シフトマスクの欠陥検査装置を提供する。例文帳に追加

To provide a defect inspection apparatus for a phase shift mask which is capable of surely detecting the defect, more particularly microdefects of the phase shift mask. - 特許庁

スパッタターゲット、並びに該スパッタターゲットを用いた位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスクの製造方法例文帳に追加

SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR PRODUCING PHASE SHIFTING MASK BLANK, AND PHASE SHIFTING MASK USING THE SAME - 特許庁

位相シフトユニット５０は、前記ミキサ３２及び３６の少なくとも一方に接続され、局部発振信号を位相シフトする。例文帳に追加

The unit 50 is connected with at least one of the mixers 32 and 36 to phase-shift the local oscillation signal. - 特許庁

パターン形成方法において、レベンソン位相シフトマスク１０、ハーフトーン位相シフトマスク２０のそれぞれで多重露光を行う。例文帳に追加

In a method of forming a pattern, multiple exposures are effected, using a Levenson phase shift mask 10 and a half-tone phase shift mask 20, respectively. - 特許庁

位相差制御部３４は、フィルタ３２の出力信号のパワーを最小化するように位相シフト部１９の位相シフト量を調整する。例文帳に追加

A phase difference controller 34 adjusts the phase shift amount of the phase shift part 19 to minimize the power of the output signal of the filter 32. - 特許庁

位相シフト効果によって発生する不要な露光イメージが発生しない位相シフトマスク、およびその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a phase shift mask which does not produce unwanted exposure images caused by a phase shift effect, and to provide a method for manufacturing the mask. - 特許庁

ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク及びそれを用いたハーフトーン型位相シフトマスク、並びにパターン転写法例文帳に追加

BLANK FOR HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK AND HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK, AND PATTERN TRANSFER METHOD BY USING SAME - 特許庁

ＣｒＡｌＯＮを位相シフト物質として使用した位相シフトマスクおよびその製造法を提供する。例文帳に追加

To provide a phase shift mask using CrAlON as a phase shift material and a method for manufacturing the same. - 特許庁

バイナリパタ—ン及び位相シフトパタ—ンを備えたデュアルフォトマスク例文帳に追加

DUAL PHOTOMASK EQUIPPED WITH BINARY PATTERN AND PHASE SHIFT PATTERN - 特許庁

位相シフト回路、半導体集積回路及びジャイロセンサシステム例文帳に追加

PHASE SHIFT CIRCUIT, SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT AND GYRO SENSOR SYSTEM - 特許庁

非線形位相シフトを抑えつつ十分なラマン利得を得ること。例文帳に追加

To obtain sufficient Raman gain while suppressing a nonlinear phase shift. - 特許庁

可変光位相シフタ１８の位相シフト量は、外部から制御できる。例文帳に追加

The amount of phase shift produced by the variable optical phase shifter 18 can be controlled externally. - 特許庁

光差分位相シフト・キー信号を復調する方法および装置。例文帳に追加

METHOD AND APPARATUS FOR DEMODULATION OF OPTICAL DIFFERENTIAL PHASE SHIFT KEYED SIGNALS - 特許庁

同時に利得導波路部において位相シフト効果を得ることもできる。例文帳に追加

Phase shift effect can be also obtained in the gain waveguide part. - 特許庁

回折格子５は、少なくとも１つの位相シフト部６を有している。例文帳に追加

The diffraction grating 5 is provided with at least one set of phase shift unit 6. - 特許庁

自己整合型位相シフトフォトマスク及びその製造方法例文帳に追加

SELF-ALIGNING PHASE SHIFT PHOTOMASK AND ITS MANUFACTURING METHOD - 特許庁

エミッタフォロワ回路及び同回路を有する位相シフト回路例文帳に追加

EMITTER-FOLLOWER CIRCUIT AND PHASE SHIFT CIRCUIT HAVING THE SAME - 特許庁

クロック逓倍回路、固体撮像装置及び位相シフト回路例文帳に追加

CLOCK MULTIPLICATION CIRCUIT, SOLID-STATE IMAGING DEVICE AND PHASE SHIFT CIRCUIT - 特許庁

位相シフトマスクのシフタ残留欠陥修正方法並びに修正装置例文帳に追加

METHOD AND DEVICE FOR CORRECTION OF SHIFTER RESIDUE DEFECT ON PHASE SHIFT MASK - 特許庁

位相シフトマスクとその製造方法及び半導体素子の製造方法例文帳に追加

PHASE SHIFT MASK AND MANUFACTURING METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR ELEMENT - 特許庁

位相シフトマスクおよび半導体集積回路の製造方法例文帳に追加

PHASE SHIFT MASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT - 特許庁

発振回路において、任意に位相シフトできるようにする。例文帳に追加

To provide a phase shift oscillation circuit that can arbitrarily shift a phase. - 特許庁

有限インパルス応答のための位相シフト計算法と実行システム例文帳に追加

PHASE SHIFT CALCULATION METHOD FOR FINITE IMPULSE RESPONSE AND EXECUTION SYSTEM - 特許庁

位相シフトマスク、露光方法および半導体装置の製造方法例文帳に追加

PHASE SHIFT MASK, EXPOSURE METHOD, AND PRODUCTION METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁

参照画像の生成方法及び位相シフトフォトマスク検査装置例文帳に追加

METHOD FOR GENERATING REFERENCE IMAGE AND INSPECTION APPARATUS FOR PHASE SHIFT PHOTOMASK - 特許庁

スパッタリングターゲット、ハーフトーン型位相シフトマスク及びブランク例文帳に追加

SPUTTERING TARGET, HALFTONE PHASE SHIFT MASK AND BLANK - 特許庁

周波数依存性消去回路、およびそれを用いた位相シフト回路例文帳に追加

FREQUENCY-DEPENDENT ERASURE CIRCUIT AND PHASE SHIFT CIRCUIT USING THE SAME - 特許庁

位相シフト干渉縞同時撮像における平面形状計測方法例文帳に追加

PLANE SHAPE MEASURING METHOD IN PHASE SHIFT INTERFERENCE FRINGE SIMULTANEOUS IMAGING - 特許庁

位相シフトマスクおよびその製造方法ならびにアライメント検出方法例文帳に追加

PHASE SHIFT MASK, ITS MANUFACTURE, AND ALIGNMENT DETECTING METHOD - 特許庁

差動位相シフトキーイング光伝送システムおよびその光伝送方法例文帳に追加

DIFFERENTIAL PHASE SHIFT KEYING LIGHT TRANSMITTING SYSTEM AND LIGHT TRANSMITTING METHOD THEREOF - 特許庁

位相シフト干渉縞同時撮像装置における平面形状計測方法例文帳に追加

PLANE SHAPE MEASURING METHOD IN PHASE SHIFT INTERFERENCE FRINGE SIMULTANEOUS IMAGING DEVICE - 特許庁

位相シフトマスクの製造方法及び電子デバイスの製造方法例文帳に追加

METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE - 特許庁

位相シフトによる画像コントラストの形成方法および形成装置例文帳に追加

FORMING METHOD AND FORMING DEVICE OF IMAGE CONTRAST BY PHASE SHIFT - 特許庁