「"位相シフト"」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

位相シフト部６の大きさは、ブラッグ波長をλとすると、例えば３λ／８とする。例文帳に追加

The size of the phase shift 6 is 3λ/8 for example where λ refers to a Bragg wavelength. - 特許庁

位相シフタが第１の通信信号または第２の通信信号を位相シフトする。例文帳に追加

A phase shifter phase shifts the first or second communication signal. - 特許庁

位相シフタのサイズの削減、或いは位相シフトレンジの増加のための配置が実現される。例文帳に追加

Arrangements for reduction of phase shifter size or increase in phase shift range is achieved. - 特許庁

極短紫外光の位相シフトマスクおよびその製造方法並びに半導体装置の製造方法例文帳に追加

PHASE SHIFTING MASK FOR EXTREMELY SHORT ULTRAVIOLET LIGHT, ITS MANUFACTURING METHOD, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁

半導体レーザとしてλ/４位相シフトを中央に設けたＤＦＢレーザを用いることができる。例文帳に追加

A DFB laser having a λ/4 phase shift provided in the center thereof can be used as the semiconductor laser. - 特許庁

位相シフト干渉縞同時撮像装置における分枝撮像機構の調整方法例文帳に追加

ADJUSTING METHOD OF BRANCHED IMAGING MECHANISM IN PHASE SHIFT INTERFERENCE FRINGE SIMULTANEOUS IMAGING DEVICE - 特許庁

極短紫外光の反射体およびその製造方法、位相シフトマスク、並びに露光装置例文帳に追加

REFLECTOR FOR EXTREME UV LIGHT AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, PHASE SHIFT MASK AND EXPOSURE DEVICE - 特許庁

遮光層の部分（２０６）を上に有する、溝のある位相シフトマスク（１０４）が形成される（１１０２）。例文帳に追加

A trenched phase shift mask (104) having portions of a light-blocking layer (206) thereon is formed (1102). - 特許庁

減衰型の位相シフトマスクは、リソグラフシステムの開口数の効果を考慮して製作される。例文帳に追加

The attenuated phase shift mask is made taking into consideration the effect of the numerical aperture of the lithographic system. - 特許庁

高透過率型ハーフトーン位相シフトマスクおよび半導体装置の製造方法例文帳に追加

HIGH TRANSMITTANCE HALFTONE PHASE SHIFTING MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁

多相クロック生成回路、オーバーサンプリング回路及び位相シフト回路例文帳に追加

MULTI-PHASE CLOCK GENERATION CIRCUIT, OVER-SAMPLING CIRCUIT, AND PHASE SHIFT CIRCUIT - 特許庁

計数回路は、２つの位相シフトクロックによって駆動される一連のレジスタを含む。例文帳に追加

A counter circuit includes a series of registers driven by two phase shifted clocks. - 特許庁

位相シフト回路、それを用いた移相回路、発振回路、及びイメージリジェクションミキサ例文帳に追加

PHASE SHIFT CIRCUIT, PHASE SHIFTING CIRCUIT USING THE SAME, OSCILLATION CIRCUIT, AND IMAGE REJECTION MIXER - 特許庁

位相シフトマスク又はそのマスクデータの作成方法、及び半導体装置の製造方法例文帳に追加

METHOD OF MAKING PHASE SHIFT MASK OR MASK DATA THEREOF, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁

移相器60は加算器の出力信号に位相シフトを施し、加算器70で加算する。例文帳に追加

A phase shifter 60 applies phase shift to the output signals of adders, and the output signals are added by an adder 70. - 特許庁

実体格子型のモアレ法に対して位相シフト法を簡単かつ支障なく適用できるようにする。例文帳に追加

To easily apply the phase shift method to a stereoscopic lattice type moire method without any difficulty. - 特許庁

基準信号Ｓ_０に対する信号Ｓ_１の位相シフトを推定する方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for estimating a phase shift of a signal S_1 to a reference signal S_0. - 特許庁

結晶化半導体膜の製造装置および製造方法ならびに位相シフトマスク例文帳に追加

APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING CRYSTALLIZED SEMICONDUCTOR FILM AND PHASE SHIFT MASK - 特許庁

ハーフトーン位相シフトマスクの製造方法及び半導体装置の製造方法例文帳に追加

METHOD OF MANUFACTURING HALFTONE PHASE SHIFT MASK AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁

イメージャ（３０）は、投影位相シフトパターンの像データを取得するように構成される。例文帳に追加

The imager (30) is composed to obtain the image data of projection phase shift pattern. - 特許庁

これにより、位相シフタ２０の位相シフト量が調整され、位相エラーが減少される。例文帳に追加

Thus, the phase shift quantity of the phase shifter 20 is controlled, and phase errors are decreased. - 特許庁

高速かつ高精度にワーク表面高さを測定する位相シフト干渉計を提供する。例文帳に追加

To provide a phase shift interferometer for measuring a height of a workpiece surface at high speed with high accuracy. - 特許庁

露光装置および半導体装置の製造装置、位相シフトマスクおよび設計方法例文帳に追加

ALIGNER AND MANUFACTURING APPARATUS OF SEMICONDUCTOR DEVICE, PHASE SHIFT MASK, AND ITS DESIGN METHOD - 特許庁

ハーフトーン位相シフトマスクにおけるフォトレジストの膜減りを防止することを目的とする。例文帳に追加

To prevent film reduction of photoresist of a halftone phase shift mask. - 特許庁

マスク１は、バイナリーマスクまたは位相シフトマスクの何れを用いてもよい。例文帳に追加

The mask 1 may use any of a binary mask and a phase shift mask. - 特許庁

その一方は、他方に対して相対的な位相シフトおよび／または反射率の変化を生じさせる。例文帳に追加

One layer causes changes in the relative phase shift and/or reflectivity with respect to the other layer to be made. - 特許庁

周波数拡散させたクロック信号に対して正確な位相シフトを実現する。例文帳に追加

To achieve accurate phase shift for a frequency-spread clock signal. - 特許庁

半導体製造方法、マスクパターンの形成方法及びレベンソン型位相シフトマスク。例文帳に追加

METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR, METHOD FOR FORMING MASK PATTERN, AND LEVENSON TYPE PHASE SHIFT MASK - 特許庁

係数の非対称的設定の故に、ＦＩＲを通じての位相シフトはゼロでない。例文帳に追加

Because of asymmetric setting of the coefficient, phase shift through the FIR is not zero. - 特許庁

位相シフト素子の寸法上の要件を軽減する位相差電子顕微鏡を提供する。例文帳に追加

To provide a phase difference electron microscope capable of alleviating the dimensional requirement of a phase shift element. - 特許庁

ハーフトーン位相シフトマスク及びそれを用いたレジスト露光方法並びにレジスト露光装置例文帳に追加

HALFTONE PHASE SHIFT MASK, AND EXPOSURE METHOD OF RESIST AND EXPOSURE APPARATUS OF RESIST USING THE SAME - 特許庁

レンズ層は、マイクロ構造レンズを形成するため、光位相シフトフィルムの表面上をカバーする。例文帳に追加

A lens layer covers the surface of the optical phase shifting film to form a microstructure lens. - 特許庁

基板洗浄方法、位相シフトマスクの製造方法および半導体装置の製造方法例文帳に追加

METHOD FOR CLEANING SUBSTRATE, METHOD FOR MANUFACTURING PHASE MASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁

位相シフトレチクルの製造方法および位相シフター欠陥修正方法例文帳に追加

METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT RETICLE AND METHOD FOR CORRECTING DEFECT IN PHASE SHIFTER - 特許庁

さらに、このシステムは、位相シフトと回転角度とを比較する手段を備える。例文帳に追加

This system further comprises a means for comparison between the phase shift and the rotation angles. - 特許庁

三次元計測装置制御部７では位相シフト法により高さデータが求められる。例文帳に追加

Height data are obtained by the phase shift method at a three-dimensional measurement apparatus control section 7. - 特許庁

半導体集積回路は、位相シフト部と、複数の位相一致検出回路と、出力部とを備える。例文帳に追加

A semiconductor integrated circuit is provided with a phase shift unit, a plurality of phase coincidence detection circuits, and an output unit. - 特許庁

クロック送信部１４Ａは、間欠的に位相シフトを与えられたクロックを生成して送出する。例文帳に追加

The clock transmission part 14A generates and transmits a clock which is intermittently provided with a phase shift. - 特許庁

ハーフトーン型位相シフトマスクおよびそのブランク並びにそれらの製造方法例文帳に追加

HALFTONE PHASE SHIFT MASK, ITS BLANK AND METHOD FOR PRODUCING THOSE - 特許庁

ハーフトーン位相シフトマスクにおいて遮光用補助パターンを有機膜で形成する。例文帳に追加

Auxiliary patterns for light shielding of the halftone phase shift mask are formed of organic films. - 特許庁

マスクブランク、位相シフトマスクの製造方法及びテンプレートの製造方法例文帳に追加

MASK BLANK, METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING TEMPLATE - 特許庁

検波タイミング信号の精度を改善し、且つ、位相シフト回路の面積を低減する。例文帳に追加

To improve accuracy of a detection timing signal and to reduce the area of a phase shift circuit. - 特許庁

位相シフトマスクを用いた露光法によりポジ型のフォトレジストにラインパターンを転写する。例文帳に追加

To transfer a line pattern to a positive photoresist by an exposure method using a phase shifting mask. - 特許庁

ＭＲイメージング方法、位相シフト測定方法およびＭＲイメージング装置例文帳に追加

MR IMAGING METHOD, PHASE SHIFT MEASURING METHOD, AND MR IMAGING DEVICE - 特許庁

また、回折格子の位相シフトとこの非対称性との関係により制御する。例文帳に追加

The diffraction grating 11 is provided with an asymmetrical section of blaze angle. - 特許庁