例文 (999件) |
"位相シフト"を含む例文一覧と使い方
該当件数 : 1550件
レベンソン位相シフトマスク及びこれを用いた微細パターン形成方法例文帳に追加
LEVENSON PHASE SHIFT MASK AND FINE PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME - 特許庁
減衰位相シフト・マスクの位相較正の方法、試験構造、およびシステム例文帳に追加
PHASE CALIBRATION METHOD FOR ATTENUATING PHASE-SHIFT MASK, TEST STRUCTURE AND SYSTEM - 特許庁
位相シフトマスク及びその製造方法並びに露光方法例文帳に追加
PHASE SHIFT MASK, ITS MANUFACTURING METHOD AND EXPOSURE METHOD THEREOF - 特許庁
多値位相シフトキーイング符号分割多重伝送システム例文帳に追加
MULTI-PHASE SHIFT KEYING CODE DIVISION MULTIPLEX TRANSMISSION SYSTEM - 特許庁
交番位相シフト・マスク・リソグラフィのマスク・パターンの生成例文帳に追加
GENERATING MASK PATTERN FOR ALTERNATING PHASE-SHIFT MASK LITHOGRAPHY - 特許庁
位相シフト部19は、アーム11、12間に位相差π/2を与える。例文帳に追加
A phase shift part 19 provides a phase different π/2 between an arm 11 and arm 12. - 特許庁
半導体装置及びその製造方法並びに位相シフトマスク例文帳に追加
SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND PHASE SHIFTING MASK - 特許庁
位相シフトマスクの設計方法/製造方法/設計装置例文帳に追加
METHOD FOR DESIGNING AND MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK, AND APPARATUS FOR DESIGNING THE PHASE SHIFT MASK - 特許庁
集光素子の製造方法、集光素子および位相シフトマスク例文帳に追加
MANUFACTURING METHOD OF CONDENSING ELEMENT, CONDENSING ELEMENT AND PHASE SHIFT MASK - 特許庁
第2パターン5は、光が透過し、位相シフト用の凹部6を有する。例文帳に追加
The second pattern 5 transmits light and has a recess 6 for a phase shift. - 特許庁
等化装置フィルタ506はまた、90°の位相シフトを生じさせる。例文帳に追加
The equalizer filter 506 also provides a 90° phase shift. - 特許庁
光近接効果を低減させることが可能な位相シフトマスクの提供。例文帳に追加
To provide a phase shift mask reducing optical proximity effect. - 特許庁
位相シフト干渉縞同時撮像装置における平面形状計測方法例文帳に追加
PLANE SHAPE MEASURING METHOD FOR PHASE-SHIFT INTERFERENCE FRINGE SIMULTANEOUS PHOTOGRAPHING DEVICE - 特許庁
位相シフト量を容易に大きくして、ローカルリークをキャンセル可能にする。例文帳に追加
To cancel local leakage by easily enlarging amount of phase shift. - 特許庁
成膜用ターゲット及び位相シフトマスクブランクの製造方法例文帳に追加
TARGET FOR FORMING FILM AND METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK BLANK - 特許庁
位相シフトマスクを用いた露光処理のプロセスマージンを向上させる。例文帳に追加
To enhance the process margin of exposure using a phase shift mask. - 特許庁
好ましくは位相シフト材料は酸窒化シリコンであり、基板は石英である。例文帳に追加
Preferably the phase shifting material is a siliconoxynitride and the substrate is quartz. - 特許庁
パターン形成方法及び位相シフトマスクの製造方法例文帳に追加
METHOD FOR FORMING PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK - 特許庁
送信器と受信器との間の位相シフトを補正する方法及び装置例文帳に追加
METHOD AND DEVICE FOR CORRECTING PHASE SHIFT BETWEEN TRANSMITTER AND RECEIVER - 特許庁
ハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法、及びパターン転写方法例文帳に追加
METHOD FOR MANUFACTURING HALFTONE PHASE SHIFT MASK AND PATTERN TRANSFER METHOD - 特許庁
位相シフト法による形状測定方法及び測定装置例文帳に追加
SHAPE MEASUREMENT METHOD AND MEASUREMENT DEVICE BY PHASE SHIFT METHOD - 特許庁
位相シフトレチクルとその製造方法とその欠陥検査方法例文帳に追加
PHASE SHIFT RETICLE, ITS MANUFACTURING METHOD, AND INSPECTION METHOD FOR DEFECT THEREIN - 特許庁
位相シフトマスクの欠陥検査方法及び欠陥検査装置例文帳に追加
METHOD AND APPARATUS FOR DEFECT INSPECTION FOR PHASE SHIFT MASK - 特許庁
第1位相シフト部48は、希望波周波数信号200を生成する。例文帳に追加
A first phase shift section 48 generates a desired wave frequency signal 200. - 特許庁
位相差測定方法及び位相シフトマスク製造方法例文帳に追加
METHOD FOR MEASURING PHASE DIFFERENCE AND METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK - 特許庁
半導体装置の製造で用いられる位相シフトマスクの製造における位相シフト領域の形成時の処理アライメントの決定方法、位相シフトマスクの製造における位相シフト領域の形成時のフォトレジストパターンアライメントの決定方法を提供する。例文帳に追加
To provide a method for determining process alignment when a phase shift region is formed in the manufacture of a phase shift mask to be used for the manufacture of a semiconductor device, and to provide a method for determining photoresist pattern alignment when a phase shift region is formed in the manufacture of a phase shift mask. - 特許庁
位相シフトマスクの欠陥修正方法およびその装置例文帳に追加
DEFECT-CORRECTING METHOD FOR PHASE SHIFT MASK, AND DEVICE FOR THE SAME - 特許庁
位相シフトを与える位置は、両固定間の他適当な場所でよい。例文帳に追加
The position where the fiber is given the phase shift may be other suitable place between both fixed positions. - 特許庁
位相シフト・ホトリソグラフイック・マスクのレイアウト及び設計例文帳に追加
DESIGN AND LAYOUT OF PHASE SHIFTING PHOTOLITHOGRAPHIC MASK - 特許庁
ハーフトーン位相シフトマスクブランク及びその製造方法例文帳に追加
HALFTONE PHASE SHIFT MASK BLANK AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SANE - 特許庁
EUV露光用反射型位相シフトマスクの製造方法例文帳に追加
METHOD OF MANUFACTURING REFLECTION-TYPE PHASE SHIFT MASK FOR EUV LIGHT EXPOSURE - 特許庁
位相シフトマスクおよびその製造方法およびパターン転写方法例文帳に追加
PHASE SHIFT MASK, ITS MANUFACTURING METHOD, AND METHOD FOR TRANSFERRING PATTERN - 特許庁
位相シフトマスクの製造方法および位相差測定方法例文帳に追加
PRODUCTION OF PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR MEASURING PHASE DIFFERENCE - 特許庁
第2位相シフト部54は、妨害波周波数信号202を生成する。例文帳に追加
A second phase shift section 54 generates a interference wave frequency signal 202. - 特許庁
効率よく被測定信号の位相シフト量を測定する。例文帳に追加
To efficiently measure the phase shift amount of the signal to be measured. - 特許庁
ヒータ212での位相シフト量は制御部50によって制御される。例文帳に追加
A phase shift amount in the heater 212 is controlled by a control unit 50. - 特許庁
位相シフトマスクブランク及びその製造方法、並びに積層体例文帳に追加
PHASE SHIFT MASK BLANK AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND LAMINATE - 特許庁
そして、位相シフト命令である制御データD_pcを端末装置に送る。例文帳に追加
With a phase shift instruction, control data Dpc are sent to the terminal device. - 特許庁
異なった位相差を持つレベンソン型位相シフトマスク22を作成する。例文帳に追加
A Levenson-type phase shift mask, having different phase difference, is manufactured. - 特許庁
透明膜の段差の測定方法及び位相シフトマスクの作成方法例文帳に追加
METHOD FOR MEASURING STEP ON TRANSPARENT FILM AND METHOD FOR FORMING PHASE SHIFT MASK - 特許庁
位相シフトマスク(104)を製作するための方法(1100)を提供する。例文帳に追加
To provide a method (1100) for fabricating a phase shift mask (104). - 特許庁
ハーフトーン型位相シフトマスク及びホールパターン形成方法例文帳に追加
HALF-TONE TYPE PHASE SHIFT MASK AND HOLE PATTERN FORMING METHOD - 特許庁
特定の減衰および位相シフトを与える材料を堆積させる方法例文帳に追加
METHOD OF DEPOSITING MATERIAL PROVIDING SPECIFIED ATTENUATION AND PHASE SHIFT - 特許庁
非線形光学媒体における波伝搬位相シフト補償による波生成例文帳に追加
WAVE GENERATION BY WAVE PROPAGATION PHASE-SHIFT COMPENSATION IN NONLINEAR OPTICAL MEDIUM - 特許庁
位相シフトマスクの製造方法、近接効果補正装置およびプログラム例文帳に追加
METHOD FOR FABRICATING PHASE SHIFT MASK, PROXIMITY EFFECT CORRECTION DEVICE AND PROGRAM - 特許庁
ホトリソグラフィー工程の位相シフトマスクの形成方法例文帳に追加
METHOD FOR FORMING PHASE SHIFT MASK IN PHOTOLITHOGRAPHIC PROCESS - 特許庁
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