| 例文 (12件) |
"密着促進剤"を含む例文一覧と使い方
該当件数 : 12件
基板にポリイミド膜を成膜する成膜装置において、成膜容器６０内に搬入されている基板を加熱する加熱機構６２と、成膜容器６０内に密着促進剤を気化させた密着促進剤ガスを供給する密着促進剤供給機構８０と、加熱機構６２と密着促進剤供給機構８０とを制御する制御部１００とを有する。例文帳に追加
The deposition apparatus for depositing a polyimide film on a substrate comprises: a heating mechanism 62 for heating a substrate which has been carried in a deposition container 60; an adhesion promoter supply mechanism 80 for supplying an adhesion promoter gas produced by gasifying an adhesion promoter into the deposition container 60; and a control unit 100 which controls the heating mechanism 62 and the adhesion promoter supply mechanism 80. - 特許庁
制御部１００は、基板を成膜容器６０内に搬入した後、加熱機構６２により、基板の温度を、基板にポリイミド膜を成膜するときの所定温度まで上昇させる間に、密着促進剤供給機構８０により密着促進剤ガスを成膜容器６０内に供給し、基板の表面を密着促進剤ガスにより処理するように、制御する。例文帳に追加
After the substrate is carried in the deposition container 60 before the temperature of the substrate rises to a predetermined temperature when a polyimide film is deposited on the substrate, the control unit 100 controls the adhesion promoter supply mechanism 80 so as to supply the adhesion promoter gas into the deposition container 60 and to process the surface of the substrate by the adhesion promoter gas. - 特許庁
処理容器６０内に搬入されている基板の表面を、密着促進剤を気化させた密着促進剤ガスにより処理する表面処理方法において、基板を加熱するとともに、処理容器６０内に密着促進剤ガスを供給し、供給された密着促進剤ガスと、加熱されている基板とを、水分を含まない雰囲気中で反応させることによって、基板の表面を処理する表面処理工程を有する。例文帳に追加
A surface treatment method for processing a surface of a substrate carried into a processing container 60 with an adhesion accelerator gas in which the adhesion accelerator was vaporized includes a surface treatment step of heating the substrate, supplying the adhesion accelerator gas into the processing container 60, and surface-treating the substrate by reacting the supplied adhesion accelerator gas and the heated substrate in an atmosphere which does not contain moisture. - 特許庁
好適な密着促進剤には、窒素、窒素含有化合物、炭素含有化合物、炭素及び窒素含有化合物、ケイ素含有化合物、ケイ素及び炭素含有化合物、ケイ素、炭素及び窒素含有化合物、そしてそれらの混合物が含まれる。例文帳に追加
The adhesion promoting agent preferably includes nitrogen, nitrogen containing compounds, carbon containing compounds, carbon and nitrogen containing compounds, silicon containing compounds, silicon and carbon containing compounds, silicon, carbon and nitrogen containing compounds, and their mixtures. - 特許庁
バインダーと、重合性化合物と、光重合開始剤と、無機充填剤と、密着促進剤とを含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。例文帳に追加
The photosensitive resin composition is such that it contains a binder, a polymerizable compound, a photopolymerization initiator, an inorganic filler and an adhesion accelerator. - 特許庁
金属バリア層と銅との間の密着促進剤として用いられる超薄膜タングステン金属膜および超薄膜タングステン金属膜を用いた基板に銅薄膜を密着させる方法例文帳に追加
ULTRA-THIN TUNGSTEN METAL FILM USED AS ADHERENCE PROMOTER BETWEEN METAL BARRIER LAYER AND COPPER, AND METHOD FOR CLOSELY ADHERING COPPER THIN FILM TO SUBSTRATE USING IT - 特許庁
少なくとも、アルカリ可溶性樹脂と、架橋性モノマーと、光ラジカル発生剤と、一般式［Ｉ］で表される密着促進剤と、を含有する感光性樹脂組成物。例文帳に追加
The photosensitive resin composition contains at least: an alkali-soluble resin; a crosslinking monomer; a photo-radical generating agent; and an adhesion accelerating agent expressed by general formula [I]. - 特許庁
一部の態様では、この形成工程の前か少なくともその一部分の最中に、拡散バリア層の表面を密着促進剤に暴露することができる。例文帳に追加
In the one embodiment, it is possible to expose the surface of the diffusion barrier layer to an adhesion promoting agent before the foregoing formation process or during at least its part. - 特許庁
基板の表面にビアが形成された基板を密着促進剤により処理するときに、ビアの底に液溜まりを形成せずに表面処理できる表面処理方法及び成膜方法を提供する。例文帳に追加
To provide a surface treatment method capable of performing surface treatment without forming a liquid pool on a bottom of a via when processing a substrate on which a via is formed on its surface using an adhesion accelerator, and to provide a deposition method. - 特許庁
支持体と、該支持体上に少なくとも感光層を有してなり、前記支持体のヘイズ値が５．０％以下であり、前記感光層が、重合禁止剤、バインダー、重合性化合物、光重合開始剤、及び密着促進剤を含有するパターン形成材料である。例文帳に追加
The pattern forming material comprises a support and at least a photosensitive layer on the support, wherein the support has a haze value of ≤5.0%, and the photosensitive layer contains a polymerization inhibitor, a binder, a polymerizable compound, a photopolymerization initiator and an adhesion accelerator. - 特許庁
４２アロイ等の金属基材との密着性に優れ、高温のエッチング液に対しても密着促進剤がレジストから溶出しない、感光性樹脂組成物及びそれを用いたドライフィルムフォトレジストを提供しようとするものである。例文帳に追加
To provide a photosensitive resin composition having excellent adhesion property with a metal substrate such as a 42 alloy (Fe:Ni=58:42) and causing no elusion of an adhesion accelerating agent from the resist even in an etching liquid at a high temperature, and to provide a dry film photoresist using the above composition. - 特許庁
該密着促進剤が、ベンズイミダゾール誘導体、ベンズオキサゾール誘導体、ベンズチアゾール誘導体、チオトリアゾール誘導体、チオオキサジアゾール誘導体、Ｎ−置換インダゾール誘導体、芳香族置換インダゾール誘導体、テトラゾール誘導体、カルボチオ酸アミド誘導体及びベンゾトリアゾール誘導体から選択される少なくとも１種である態様が好ましい。例文帳に追加
The adhesion accelerator is preferably at least one selected from benzimidazole derivatives, benzoxazole derivatives, benzothiazole derivatives, thiotriazole derivatives, thio-oxadiazole derivatives, N-substituted indazole derivatives, aromatic substituted indazole derivatives, tetrazole derivatives, carbothio acid amide derivatives, and benzotriazole derivatives. - 特許庁
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