| 例文 (7件) |
"Imprint (film)"を含む例文一覧と使い方
該当件数 : 7件
In a manufacturing method of a semiconductor device 100, after forming a protecting film 31, energy rays are so irradiated on an imprint film 21 by transmitting the energy rays through the protecting film 31 as to reform the material of the imprint film 21 and as to form imprints.例文帳に追加
この半導体装置１００の製造方法においては、保護膜３１を形成した後に、保護膜３１を透過して捺印膜２１にエネルギー線を照射して捺印膜２１の材料を変質させて捺印している。 - 特許庁
At least any of acid and base is generated from the reaction initiator, and the acid or the base is introduced to the base film side of the imprint film so as to make an etching speed of the base film side of the imprint film faster than that of other portions.例文帳に追加
反応開始剤から酸及び塩基の少なくともいずれかを発生させ、それをインプリント膜の下地膜の側の部分に導入し、エッチング速度をそれ以外の部分よりも高くする。 - 特許庁
An imprint material 30 is applied over the base film, and a template 40 is contacted with the imprint material to form an imprint film 33 having unevenness is formed.例文帳に追加
下地膜の上にインプリント材料３０を塗布し、インプリント材料にテンプレート４０を接触させて、凹凸の形状を有するインプリント膜３３を形成する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing an imprint film of high heat resistance with high efficiency without using photo-curable resin such as ultraviolet-cured resin.例文帳に追加
紫外線硬化樹脂等の光硬化性樹脂を用いることなく、高い耐熱性を持つインプリントフィルムを高効率で製造する方法を提供する。 - 特許庁
Also provided are the optical resolution film, a molecule imprint film for optical resolution, a nanofiber film for optical resolution, and a filler for an optical resolution column, using the polymer.例文帳に追加
（但し、Ａは光学活性なジカルボン酸であるＮ−置換アミノ酸からカルボキシ基を除いた残基で、Ｂはジアミンからアミノ基を除いた残基）また、このポリマーを用いた光学分割膜、光学分割用分子インプリント膜、光学分割用ナノファイバー膜、光学分割カラムの充填剤を提供する。 - 特許庁
According to such a manufacturing method of the semiconductor device 100, an imprinted region, i.e., the top surface of the imprint film 21 is so covered with the protecting film 31 as to be able to reduce the damage of a semiconductor chip 11 which is caused by dust, heat generation, gas, stress or the like generated when performing the imprints.例文帳に追加
かかる半導体装置１００の製造方法によれば、被捺印領域すなわち捺印膜２１の上面が保護膜３１に覆われることによって捺印する際に発生する粉塵、発熱、ガスおよびストレスなどによる半導体チップ１１へのダメージが低減できる。 - 特許庁
The method for manufacturing the imprint film includes: a process for bringing an aromatic polymer film into contact with an organic solvent by dipping, dripping, coating, printing, or the like to soften the aromatic polymer film; and a process bringing the aromatic polymer film into contact with a template by mechanical pressing using a pressing machine, a roll, or the like, pressing with gas, pressure reduction, pressing by own weight, or the like.例文帳に追加
芳香族ポリマーフィルムを浸漬、滴下、コーティング、印刷等により有機溶媒に接触させ、軟化せしめる工程と、プレス機、ロール等を用いる機械的な押圧、気体による加圧、減圧、自重による加圧等により芳香族ポリマーフィルムをテンプレートに接触せしめる工程とを有するインプリントフィルムの製造方法。 - 特許庁
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