| 例文 (9件) |
"atmospheric gases"を含む例文一覧と使い方
該当件数 : 9件
A metal film is deposited on the semiconductor substrate 10 so as to cover the gate electrode 34 and the side wall insulation film 41, the semiconductor device 10 is placed in atmospheric gases, the metal film is heated by heat conduction of atmospheric gases from front and rear faces of the semiconductor substrate 10, respectively, thereby forming a metal silicide film.例文帳に追加
ゲート電極３４及び側壁絶縁膜４１を覆うように半導体基板１０に金属膜を堆積し、半導体基板１０を雰囲気ガス中に載置して、半導体基板１０の表面及び裏面のそれぞれから雰囲気ガスの熱伝導により金属膜を加熱して金属シリサイド膜を形成する。 - 特許庁
To perform surface treatment of upper and lower surfaces of a burned object by different atmospheric gases with different oxygen concentrations and nitrogen concentrations, in an open type (normal pressure type) burning furnace.例文帳に追加
開放型（常圧型）の焼成炉において、被焼成物の上面と下面とを酸素濃度と窒素濃度を変えた異なる雰囲気ガスにて表面処理すること。 - 特許庁
Bubbles forming in the liquid resulting from dissolved atmospheric gases or the gas discharge from an apparatus element exposed to the liquid are detected and removed so that they do not interfere with the exposure, to cause burning defects on the substrate.例文帳に追加
溶解した大気ガスに由来するか又は液体に曝された装置要素からのガス放出に由来する、液体中で発生する気泡が、露光に干渉して基板上の焼き付け欠陥を招かないように検出されかつ除去される。 - 特許庁
To obtain a light source for gas analyzer which is capable of maintaining a stable amount of light emission, can be constituted at a low cost with a long life, and does never become an ignition source for atmospheric gases.例文帳に追加
安定した発光量を維持でき、かつ、長寿命でありながらコスト安に構成でき、しかも雰囲気ガスの点火源となることのないガス分析計用光源を得る。 - 特許庁
To provide a method for separating gases and its apparatus which can effectively remove impurities from the exhaust gases discharged from a semiconductor production device using krypton, xenon, and neon as atmospheric gases and can recycle the krypton and other gases for reuse.例文帳に追加
クリプトンやキセノン、ネオンを雰囲気ガスとする半導体製造装置から排出される排ガスから不純物を効果的に除去して前記クリプトン等を循環再利用することが可能なガス分離方法及び装置を提供する。 - 特許庁
In the heat treatment method for treating the silicon wafer (W) by heat in an atmospheric gas, the oxygen gas is included only in the atmospheric gas to be fed to the rear face of the silicon wafer (W) out of atmospheric gases fed to the front and rear faces of the silicon wafer (W).例文帳に追加
シリコンウェーハＷを雰囲気ガス中で熱処理するシリコンウェーハの熱処理方法であって、前記シリコンウェーハの表面Ｓ側及び裏面Ｒ側に供給する雰囲気ガスのうち、裏面側に供給する雰囲気ガスにのみ酸素が含まれている。 - 特許庁
In the heat treatment method of the silicon wafer for heat- treating a silicon wafer W in an atmospheric gas, the atmospheric gases that are of different kinds or under different conditions are supplied to front and back sides S and R of the silicon wafer.例文帳に追加
シリコンウェーハＷを雰囲気ガス中で熱処理するシリコンウェーハの熱処理方法であって、前記シリコンウェーハの表面Ｓ側と裏面Ｒ側とに互いに異なる種類又は条件の前記雰囲気ガスを供給する。 - 特許庁
To improve economical efficiency by diverting a part of a gas for a heating zone to a preheating zone in a system where the preheating zone and the heating zone are divided and proper but different atmospheric gases are supplied respectively to both zones so that a high quality sintered metal is obtained by rapidly eliminating the carbon component in the preheating zone and treating with strong reducing force in the heating zone.例文帳に追加
予熱部と加熱部とを区画して、両者に対しては夫々に適切な相互に異なる雰囲気ガスを供給することにより、予熱部においては炭素成分の消失が速やかになり、加熱部においては強い還元力でもって良質の焼結金属が得られるようにしたものであっても、予熱部においては上記加熱部のガスを流用できるようにして経済的にするものである。 - 特許庁
| 例文 (9件) |
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
検索履歴を保存できる！|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
