「共役軸」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

有限共役光学系で構成される対物レンズ１６０を用いたときに、ＣＤ使用時においては、最外周領域Ａ１を通過した光束はフレアー成分となるだけであり、ＣＤスポットに寄与するのは、中間光学面領域Ａ２と光軸近傍光学面領域Ａ３を通過した光束のみである。例文帳に追加

When using an objective lens 160 constituted of a finite conjugate optical system, using a CD, the light flux passing through the outermost peripheral area A1 becomes merely a flare component, while the light flux contributing to a CD spot is limited to the one passing through an intermediate optical surface area A2 and a near-optical-axis optical surface area A3. - 特許庁

この現像ローラ１の弾性体層１２は、スズ原子、窒素原子及び珪素原子の中から選ばれる少なくとも一種を導入しカップリングされた変性共役ジエン系重合体と、前記ポリブタジエン系化合物と、カーボンブラックとを混合して未架橋ゴム組成物を調製し、該未架橋ゴム組成物を軸芯体１１の外周面に形成し、加熱硬化することにより得られる。例文帳に追加

The elastic layer 12 of the developing roller 1 is formed in such a manner that an uncross-linked rubber composition is prepared by mixing modified conjugated diene polymer obtained by selecting and coupling at least one of tin atom, nitrogen atom, and silicon atom, the polybutadiene compound, and carbon black, and the uncross-linking rubber composition is formed on the external circumferential surface of the shaft core body 11 and heated and cured. - 特許庁

その後、第１磁気共鳴信号ＭＲ１と第２磁気共鳴信号ＭＲ２とを収集した時間軸方向で交互になるように、第１磁気共鳴信号ＭＲ１と第２磁気共鳴信号ＭＲ２との一方についての複素共役データＭＲ１＊，ＭＲ２＊を、ｋ空間の位相エンコード方向Ｇｐにおける他方の極性のステップに対応するように、順次生成し、ｋ空間を埋める。例文帳に追加

Thereafter, complex conjugate data MR1*, MR2* on one of the first magnetic resonance signal MR1 and the second magnetic resonance signal MR2 are generated in series so as to correspond to a step of the other polarity in the phase encode direction Gp of the k space alternately in a time axial direction collecting the first magnetic resonance signal MR1 and the second magnetic resonance signal MR2 to fill the k space. - 特許庁

パターン描画装置では、光照射部４のフォーカス微調整が行われる際に、マスク部４２をマスク部微動機構４３によりマスク部４２と投影光学系４４とを結ぶ光軸に沿う上下方向に微小に移動することにより、基板の対象面に対して光学的に共役な位置にマスク部４２のマスクパターンを一致させる。例文帳に追加

When slight focus adjustment is made to the photoirradiation part 4, the pattern-drawing device minutely moves the mask part 42, by means of the mask part-minutely moving mechanism 43, vertically along the optical axis formed by the mask part 42 and the projection optical system 44, to fit the mask pattern of the mask part 42 to an optically conjugate position to the objective surface of the substrate. - 特許庁