DIETHYLENE TRIAMINEの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 8件
BRANCHED CHAIN HIGHER FATTY ACID DIESTER DERIVATIVE HAVING DIETHYLENE TRIAMINE TYPE METAL CHELATE STRUCTURE例文帳に追加
ジエチレントリアミン型金属キレート構造を有する分岐鎖高級脂肪酸ジエステル誘導体 - 特許庁
BRANCHED CHAIN HIGHER FATTY ACID DIESTER DERIVATIVE HAVING DIETHYLENE TRIAMINE TYPE METAL CHELATE STRUCTURE例文帳に追加
ジエチレントリアミン型金属キレート構造を有する分岐鎖高級脂肪酸トリエステル誘導体 - 特許庁
The polyethyleneamines are at least one kind of a compound selected from diethylene triamine, triethylene tetramine, tetraethylene pentamine, pentaethylene hexamine and pentamethyl-diethylene-triamine.例文帳に追加
前記ポリエチレンアミン類は、好ましくは、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ペンタエチレンヘキサミン及びペンタメチル−ジエチレン−トリアミンから選ばれる少なくとも１種の化合物である。 - 特許庁
The polyethylene amine comprises any one of diethylene triamine (NH_2(CH_2 CH_2 NH)_2H), triethylene triamine (NH_2(CH_2 CH_2 NH)_3H), tetraethylene pentamine (NH_2(CH_2 CH_2 NH)_4H) and pentaethylene hexamine (NH_2(CH_2 CH_2 NH)_5H).例文帳に追加
ポリエチレンアミンは、ジエチレントリアミン（ＮＨ_２（ＣＨ_２ＣＨ_２ＮＨ）_２Ｈ）、トリエチレンテトラミン（ＮＨ_２（ＣＨ_２ＣＨ_２ＮＨ）_３Ｈ）、テトラエチレンペンタミン（ＮＨ_２（ＣＨ_２ＣＨ_２ＮＨ）_４Ｈ）およびペンタエチレンヘキサミン（ＮＨ_２（ＣＨ_２ＣＨ_２ＮＨ）_５Ｈ）のいずれかからなる。 - 特許庁
Diethylene triamine penta acetate(DTPA) as a chelating agent is contained in a chemical and mechanical polishing(CMP) slurry for polishing the surface of a metal semiconductor wafer.例文帳に追加
金属半導体表面を研磨するための化学機械研磨（ＣＭＰ）用スラリーにキレート剤としてのジエチレントリアミンペンタアセテート（ＤＴＰＡ）が含まれる。 - 特許庁
This lithographic printing method includes a process for removing the non-exposed portion of an image recording layer by a method wherein a dampening water containing a compound prepared by adding ethylene oxide and propylene oxide to a specified polyamine such as ethylene diamine or diethylene triamine on the exposed lithographic printing form original plate.例文帳に追加
露光後の平版印刷版原版上に、エチレンジアミン、ジエチレントリアミンなどの特定ポリアミンにエチレンオキシドとプロピレンオキシドを付加した化合物を含有する湿し水を供給することにより画像記録層の未露光部分を除去する工程を含む平版印刷方法。 - 特許庁
The chemical mechanical polishing composition for polishing a base material containing a silicon oxide material and a silicon nitride material contains at least one of a first substance (diethylene triamine pentakis (methyl phosphonic acid)) and a second substance (tetramethyl guanidine); abrasive grains and water as initial components.例文帳に追加
酸化ケイ素材料及び窒化ケイ素材料を含む基材を研磨するためのケミカルメカニカル研磨組成物であって、初期成分として、第一の物質（ジエチレントリアミンペンタキス（メチルホスホン酸））及び第二の物質（テトラメチルグアニジン）の少なくとも一つ；砥粒；及び水を含む。 - 特許庁
A physicochemical cleaning method provided in the invention removes sludge by injecting at least one kind selected from a group consisting of gaseous nitrogen, liquid nitrogen and dry ice into a cleaning solvent including at least one kind selected from a group consisting of water, ETA (monoethanolamine), NH_3, DTPA (Diethylene triamine pentaacetic acid), EDTA (ethylenediaminetetraacetic acid) and N_2H_2.例文帳に追加
本発明は、水、ＥＴＡ（ｍｏｎｏｅｔｈａｎｏｌａｍｉｎｅ）、ＮＨ_３、ＤＴＰＡ（Ｄｉｅｔｈｙｌｅｎｅ ｔｒｉａｍｉｎｅ ｐｅｎｔａａｃｅｔｉｃ ａｃｉｄ）、ＥＤＴＡ（ｅｔｈｙｌｅｎｅｄｉａｍｉｎｅｔｅｔｒａａｃｅｔｉｃ ａｃｉｄ）及びＮ_２Ｈ_２からなる群より選択される少なくとも一種を含む洗浄液に気体窒素、液体窒素、及びドライアイスからなる群より選択される少なくとも一種を注入してスラッジを除去する物理化学的洗浄方法を提供する。 - 特許庁
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