「H2 O2」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

(2) In the above material (1), the excitation gas used for the glow discharging plasma treatment under atmospheric pressure is Ar or He and its reaction gas is O2, N2, H2, or CO2.例文帳に追加

上記 において、大気圧グロー放電プラズマ処理に用いる励起ガスがＡｒ又はＨｅであり、反応ガスがＯ_2、Ｎ_2、Ｈ_2又はＣＯ_2である。 - 特許庁

Further, auxiliary decomposition gas of one or more of H2, O2 and H2O is preferably added to the waste gas.例文帳に追加

更に、本発明の好ましい態様に係る排ガスの処理方法は、更に排ガスにＨ_2、Ｏ_2及びＨ_2Ｏのいずれか１種以上の分解補助ガスを添加することを特徴とする。 - 特許庁

A diamond film (a dielectric 4) is film formed by a microwave CVD device in the vacuum of 50 Torr with CH4(2%)+O2(1%)/H2 as the gaseous starting material.例文帳に追加

原料ガスとしてＣＨ_4（２％）＋Ｏ_2（１％）／Ｈ_2を用い、５０Ｔｏｒｒの真空中でマイクロ波ＣＶＤ装置によってダイアモンド膜（誘電体４）を成膜した。 - 特許庁

By irradiating the water molecule decomposing material 19 with a light containing a ultraviolet ray in the exhaust process, the water molecule decomposing material 19 decomposes water molecules into hydrogen (H2) and oxygen (O2).例文帳に追加

排気工程時に水分子分解物質１９に紫外線を含む光を照射することによって、水分子分解物質１９が水分子が水素（Ｈ_2）と酸素（Ｏ_2）とに分解する。 - 特許庁

The membrane electrode assembly is locally heated from blow zero to proper operation temperature by a chemical exothermic reaction between H2 and O2 on the catalyst of an anode and/or cathode.例文帳に追加

膜電極アセンブリは、アノード及び／又はカソードの触媒上でＨ_2及びＯ_2の間で化学的な発熱反応を引き起こすことにより氷点下の温度から適切な作動温度まで局所的に加熱される。 - 特許庁

To provide systems for statically eliminating noncondensable gasses from facilities susceptible to damage from combustion of built-up noncondensable gasses, such as H2 and O2 in nuclear power plants.例文帳に追加

原子力発電プラント内のＨ2およびＯ2などの滞留した非凝縮性ガスが燃焼することにより損傷を受けやすい設備から非凝縮性ガスを静的に除去するシステムを提供する。 - 特許庁

This ceramic is manufactured by the process wherein a powder compact containing iron additives is sintered in an atmosphere of comparatively low oxygen partial pressure (N2, 95N2-5H2, H2 etc.), then in the next process it is heat treated in the atmosphere of higher oxygen partial pressure than before (N2, 80N2-20O2, O2, etc,).例文帳に追加

鉄などの添加剤を含む粉末成形体を酸素分圧が相対的に低い雰囲気（Ｎ_２、９５Ｎ_２−５Ｈ_２、Ｈ_２など）で焼結した後、それより酸素分圧が高い雰囲気（Ｎ_２、８０Ｎ_２−２０Ｏ_２、Ｏ_２など）で熱処理する工程とからなる。 - 特許庁

In this method for forming a silicon oxide film, a silicon substrate is inserted into a furnace, and while the pressure in the furnace is kept at 760 Torr or lower, O2 gas is made to react with H2 gas, and the produced H2O gas is injected inside the furnace, making the silicon substrate wet and oxidized.例文帳に追加

本発明によるシリコン酸化膜形成方法は、シリコン基板を炉中へ引き込んで、炉内部の圧力を７６０ｔｏｒｒ以下に維持しながら、Ｏ_2及びＨ_2ガスを反応させて生成されたＨ_2Ｏガスを炉中へ注入してシリコン基板を湿式酸化することを特徴とする。 - 特許庁