「MASK」に関連した英語例文の一覧と使い方(32ページ目) - Weblio英語例文検索

CHROMELESS PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR PRODUCING CHROMELESS PHASE SHIFT MASK例文帳に追加

クロムレス位相シフトマスク及びクロムレス位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁

MASK DATA GENERATION METHOD AND MASK MANUFACTURING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

マスクデータ生成方法及びそれを用いたマスクの製造方法 - 特許庁

ALCOHOL-STERILIZED BAG SHAPE GAUZE MASK例文帳に追加

アルコール滅菌袋型ガーゼマスク - 特許庁

ILLUMINATION APPARATUS, MASK INSPECTING APPARATUS USING THE SAME, MASK INSPECTING METHOD AND MASK MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

照明装置、及びそれを用いたマスク検査装置、マスク検査方法及びマスクの製造方法 - 特許庁

MASK BLANK, MULTIPLE GRADATION MASK, AND MANUFACTURING METHOD OF THEM例文帳に追加

マスクブランクおよび多階調マスク並びにこれらの製造方法 - 特許庁

PATTERN FORMING MASK, AND PATTERN FORMING DEVICE USING THE MASK例文帳に追加

パターン形成用マスクおよびそれを使用したパターン形成装置 - 特許庁

METHOD OF PRODUCING MASK BLANK AND METHOD OF PRODUCING TRANSFER MASK例文帳に追加

マスクブランクの製造方法および転写用マスクの製造方法 - 特許庁

PINHOLE MASK, MANUFACTURING METHOD OF PINHOLE MASK AND POINT DIFFRACTION INTERFEROMETER例文帳に追加

ピンホールマスク、ピンホールマスクの製造方法、及び点回折干渉計 - 特許庁

The optical mask 14 is formed by stacking a first mask 141 and a second mask 142.例文帳に追加

光学マスク１４は、第１マスク１４１と第２マスク１４２とが重ね合わされたものである。 - 特許庁

SHADOW MASK WEB AND MANUFACTURING METHOD FOR SHADOW MASK USING THE SAME例文帳に追加

シャドウマスク原反およびそれを用いたシャドウマスクの製造方法 - 特許庁

The mask 12 is held by a mask holder 13 and the mask holder 13 is provided with an acceleration sensor 14.例文帳に追加

マスク１２はマスクホルダ１３に保持され、マスクホルダ１３には、加速度センサ１４が設けられている。 - 特許庁

MASK FOR CHARGED PARTICLE RAY EXPOSURE例文帳に追加

荷電粒子線露光用マスク - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING GRAYSCALE MASK, METHOD OF MANUFACTURING MOTHER GRAYSCALE MASK, METHOD OF MANUFACTURING MOTHER GRAYSCALE MASK WITH LENS AND MOTHER GRAYSCALE MASK例文帳に追加

グレイスケールマスクの製造方法、マザーグレイスケールマスクの製造方法、レンズ付きマザーグレイスケールマスクの製造方法、及びマザーグレイスケールマスク。 - 特許庁

MASK PATTERN CORRECTION METHOD, MASK PATTERN CORRECTION DEVICE AND PROGRAM THEREFOR例文帳に追加

マスクパターン補正方法，マスクパターン補正装置およびそのプログラム - 特許庁

The sensor may be formed using a mask including a carbon hard mask.例文帳に追加

センサは、炭素ハードマスクを含むマスクを使用して形成されうる。 - 特許庁

LOW EXPANSION GLASS SUBSTRATE FOR REFLECTION TYPE MASK AND REFLECTION TYPE MASK例文帳に追加

反射型マスク用低膨張硝子基板および反射型マスク - 特許庁

METHOD FOR DESIGNING PHASE SHIFT MASK例文帳に追加

位相シフトマスクの設計方法 - 特許庁

PHASE SHIFT MASK, METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK AND EXPOSURE METHOD例文帳に追加

位相シフトマスク、位相シフトマスクの製造方法及び露光方法 - 特許庁

MASK BLANK, ITS MANUFACTURING METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING MASK例文帳に追加

マスクブランク及びその製造方法、並びにマスクの製造方法 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING EXPOSURE MASK, METHOD FOR GENERATING MASK BASE PLATE INFORMATION, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, MASK BASE PLATE, EXPOSURE MASK AND SERVER例文帳に追加

露光マスクの製造方法、マスク基板情報生成方法、半導体装置の製造方法、マスク基板、露光マスクおよびサーバー - 特許庁

When the function is executed, an anti-mask of the mask is created, and the modulo of the anti-mask is calculated.例文帳に追加

関数が実行されるとマスクのアンチマスクが作成され、アンチマスクのモジュロが計算される。 - 特許庁

MASK, METHOD OF MANUFACTURING MASK, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

マスク、マスクの製造方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁

MASK FOR SEMICONDUCTOR MANUFACTURING PROCESS例文帳に追加

半導体製造プロセス用マスク - 特許庁

METHOD FOR CLEANING PRINTING MASK AND APPARATUS FOR CLEANING PRINTING MASK例文帳に追加

印刷用マスク洗浄方法及び印刷用マスク洗浄装置 - 特許庁

MASK CONTAINER, METHOD FOR TRANSPORTING LITHOGRAPHY MASK INTO CONTAINER AND METHOD FOR SCANNING MASK IN CONTAINER例文帳に追加

マスク用コンテナ、リソグラフ・マスクをコンテナ内へ移送する方法及びコンテナ内のマスクを走査する方法 - 特許庁

A first mask pattern (14) is left by etching the first mask film using the reduced second mask pattern as an etching mask.例文帳に追加

縮小された第２のマスクパターンをエッチングマスクとして、第１のマスク膜をエッチングすることにより、第１のマスクパターン(14)を残す。 - 特許庁

A mask pattern 15 stores the mask pattern data posterior to compaction processing.例文帳に追加

マスクパターン１５は、コンパクト化処理後のマスクパターンデータを格納する。 - 特許庁

ACID-FREE WASHING PROCESS FOR SUBSTRATE, PARTICULARLY MASK AND MASK BLANK例文帳に追加

基板、特にマスク及びマスクブランク用酸不存在洗浄方法 - 特許庁

PROGRAM FOR DESIGNING SEALING MASK AND METHOD FOR DESIGNING THE SEALING MASK例文帳に追加

封口用マスク設計プログラム及び封口用マスク設計方法 - 特許庁

PATTERN MASK FOR ELECTRON BEAM IRRADIATION例文帳に追加

電子線照射用パターンマスク - 特許庁

GRAY TONE MASK BLANK AND PHOTOMASK例文帳に追加

グレートーンマスクブランク及びフォトマスク - 特許庁

PRINTING MASK AND MANUFACTURING METHOD OF WIRING SUBSTRATE USING THIS PRINTING MASK例文帳に追加

印刷マスクおよびこれを用いた配線基板の製造方法 - 特許庁

GLASS SUBSTRATE FOR MASK BLANK, MASK BLANK, METHOD FOR PRODUCING GLASS SUBSTRATE FOR MASK BLANK, AND POLISHING DEVICE例文帳に追加

マスクブランク用のガラス基板、マスクブランク、マスクブランク用のガラス基板の製造方法、及び研磨装置。 - 特許庁

MASK CENTERING MECHANISM IN MASK DETACHABLE APPARATUS FOR COLOR BRAUN TUBE例文帳に追加

カラーブラウン管用マスク着脱装置におけるマスクセンタリング機構 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF SHADOW MASK PLATE AND SHADOW MASK PLATE PROTECTION FILM例文帳に追加

シャドウマスク板の製造方法及びシャドウマスク板用保護フィルム - 特許庁

METHOD OF REPAIRING PHASE SHIFT MASK例文帳に追加

位相シフトマスクの修理方法 - 特許庁

FABRIC FOR MASK HAVING MOISTURE RETENTIVITY, AND HYGIENIC MASK USING IT例文帳に追加

保湿性を有するマスク用布およびそれを用いた衛生マスク - 特許庁

PHASE SHIFT MASK BLANK, PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

位相シフトマスクブランク、位相シフトマスク及びこれらの製造方法 - 特許庁

The first robot 30 can carry the mask to an internal mask library 50 or a mask inspection module.例文帳に追加

第１のロボットはマスクを内部マスク・ライブラリおよびマスク検査モジュールに移送することもできる。 - 特許庁

The mask frame 11 is held to a mask frame holder 29, and the mask frame 11 held to the mask frame holder 29 is carried in a carrying direction F.例文帳に追加

マスクフレーム11をマスクフレーム保持体29に保持し、マスクフレーム保持体29に保持したマスクフレーム11を搬送方向Ｆに搬送する。 - 特許庁

MASK ALIGNMENT METHOD AND MASK ALIGNMENT DEVICE FOR DOUBLE-FACE EXPOSURE APPARATUS例文帳に追加

両面露光装置のマスクアライメント方法及びマスクアライメント装置 - 特許庁

METHOD OF CREATING MASK DRAWING DATA例文帳に追加

マスク描画データ作成方法 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING MASK BLANK FOR EUV PHOTOLITHOGRAPHY, AND MASK BLANK例文帳に追加

ＥＵＶフォトリソグラフィー用マスクブランクの作製方法及びマスクブランク - 特許庁

METAL MASK FOR SPUTTERING, AND COLOR FILTER MANUFACTURED BY THE METAL MASK例文帳に追加

スパッタ用メタルマスクおよび該メタルマスクにより製造されたカラーフィルタ - 特許庁

MASK AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

マスク及びパターン形成方法 - 特許庁