「MASK」に関連した英語例文の一覧と使い方(33ページ目) - Weblio英語例文検索

METHOD FOR INSPECTION OF PHASE SHIFT MASK例文帳に追加

位相シフトマスクの検査方法 - 特許庁

MASK AND METHOD FOR FORMING THE SAME例文帳に追加

マスク及びその形成方法 - 特許庁

METHOD FOR MEASURING INTERVAL BETWEEN MASK AND WAFER AND METHOD FOR SETTING MASK AND WAFER例文帳に追加

マスクとウエハとの間隔の測定方法及び設置方法 - 特許庁

MASK AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

マスク及びその製造方法 - 特許庁

To prevent deposition of foreign matters on a mask or damages on the mask when peeling a pellicle from the mask.例文帳に追加

ペリクルをマスクから剥がす際に、異物がマスクに付着したりマスクを傷つけることを防止する。 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF MASK, MASK, ELECTRO-OPTICAL DEVICE, AND ELECTRONIC APPARATUS例文帳に追加

マスクの製造方法、マスク、電気光学装置および電子機器 - 特許庁

A mask stage holds a mask by having a certain spacing from the wafer.例文帳に追加

マスクステージが、ウエハからある間隔を隔ててマスクを保持する。 - 特許庁

STORAGE CASE OF MASK PROTECTING DEVICE例文帳に追加

マスク保護装置の収納ケース - 特許庁

PRODUCTION OF MASK FOR PATTERN TRANSFER AND MASK FOR PATTERN TRANSFER例文帳に追加

パターン転写用マスクの製造方法及びパターン転写用マスク - 特許庁

EXPOSURE METHOD AND ALIGNER, MASK, AND METHOD OF MANUFACTURING THE MASK例文帳に追加

露光方法及び装置並びにマスク及びその製造方法 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING TRANSFER MASK BLANKS AND TRANSFER MASK例文帳に追加

転写マスクブランクスの製造方法及び転写マスクの製造方法 - 特許庁

EXPOSURE MASK BLANKS, EXPOSURE MASK, AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

露光用マスクブランクス、露光用マスクおよびそれらの製造方法 - 特許庁

The mask holder 5 supports the mask M via the support part 4.例文帳に追加

マスクホルダ５は支持部４を支持してマスクＭを支持している。 - 特許庁

STORAGE CONTAINER OF MASK BLANK OR THE LIKE, METHOD FOR HOUSING MASK BLANK, AND MASK BLANK HOUSED BODY例文帳に追加

マスクブランクス等の収納容器及びマスクブランクスの収納方法並びにマスクブランクス収納体 - 特許庁

HOUSING CONTAINER OF MASK BLANKS, METHOD FOR HOUSING MASK BLANKS, MASK BLANKS PACKAGE, AND METHOD FOR TRANSPORTING MASK BLANKS PACKAGE例文帳に追加

マスクブランクスの収納容器、マスクブランクスの収納方法及びマスクブランクス収納体並びにマスクブランクス収納体の輸送方法 - 特許庁

MASK, METHOD FOR MANUFACTURING MASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRO-OPTIC DEVICE例文帳に追加

マスク、マスクの製造方法、電気光学装置の製造方法 - 特許庁

MASK FOR DEFECT INSPECTION AND METHOD FOR MANUFACTURING MASK FOR DEFECT INSPECTION例文帳に追加

欠陥検査用マスク及び欠陥検査用マスクの製造方法 - 特許庁

The first pattern is transferred to a mask layer by etching the mask layer making the first pattern as the mask.例文帳に追加

第１のパターンをマスクとしてマスク層をエッチングしてマスク層に第１のパターンを転写する。 - 特許庁

PHASE SHIFTING MASK BLANK, PHASE SHIFTING MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

位相シフトマスクブランク、位相シフトマスク及びそれらの製造方法 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING MASK BLANK SUBSTRATE, METHOD FOR MANUFACTURING MASK BLANK, AND METHOD FOR MANUFACTURING EXPOSURE MASK例文帳に追加

マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、及び露光用マスクの製造方法 - 特許庁

MASK, METHOD FOR MANUFACTURING MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

マスク、マスクの製造方法及び半導体装置の製造方法 - 特許庁

MASK PATTERN DIVIDING METHOD, MASK PATTERN DIVIDING PROGRAM, AND METHOD OF MANUFACTURING EXPOSURE MASK AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

マスクパターン分割方法、マスクパターン分割プログラム、露光用マスクおよび半導体装置の製造方法 - 特許庁

HALF TONE TYPE PHASE SHIFT MASK BLANK AND HALF TONE TYPE PHASE SHIFT MASK例文帳に追加

ハーフトーン型位相シフトマスクブランク及びハーフトーン型位相シフトマスク - 特許庁

PHOTO MASK AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

フォトマスクおよび半導体装置 - 特許庁

METAL MASK, METHOD OF MANUFACTURING METAL MASK, METHOD OF DETECTING LIFE OF METAL MASK, AND ELECTRONIC CIRCUIT BOARD例文帳に追加

メタルマスク、メタルマスクの製造方法、メタルマスクの寿命検出方法、および電子回路基板 - 特許庁

METHOD FOR DESIGNING AND MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK, AND APPARATUS FOR DESIGNING THE PHASE SHIFT MASK例文帳に追加

位相シフトマスクの設計方法／製造方法／設計装置 - 特許庁

STOCK FOR SHADOW MASK, ITS PRODUCTION METHOD, SHADOW MASK COMPOSED OF STOCK FOR SHADOW MASK AND COLOR PICTURE TUBE INCORPORATED WITH THE SHADOW MASK例文帳に追加

シャドウマスク用素材、その製造方法、シャドウマスク用素材からなるシャドウマスク及びそのシャドウマスクを組み込んだカラー受像管 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING REFLECTIVE MASK例文帳に追加

反射型マスクの製造方法 - 特許庁

INSPECTION METHOD OF REFLECTION TYPE MASK例文帳に追加

反射型マスクの検査方法 - 特許庁

HYGIENE MASK AND ITS BASE MATERIAL例文帳に追加

衛生マスクおよびその基材 - 特許庁

MASK FOR ALLOWING UV LIGHT NOT TO PASS THROUGH例文帳に追加

紫外線を通さないマスク - 特許庁

METHOD FOR FIXING MASK PLATE AND DEVICE FOR SUPPORTING MASK PLATE FOR EXPOSING DEVICE例文帳に追加

露光装置のマスク板固定方法およびマスク板支持装置 - 特許庁

AUTOMATIC LAYOUT DEVICE FOR MASK PATTERN例文帳に追加

マスクパターンの自動レイアウト装置 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD FOR STENCIL TYPE MASK例文帳に追加

ステンシルタイプマスクの製造方法 - 特許庁

RAW MATERIAL FOR SHADOW MASK, ITS PRODUCING METHOD, SHADOW MASK AND PICTURE TUBE例文帳に追加

シャドウマスク用素材、その製造方法、シャドウマスク及び受像管 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING GRAY SCALE MASK, METHOD OF MANUFACTURING MOTHER GRAY SCALE MASK, METHOD OF MANUFACTURING MOTHER GRAY SCALE MASK WITH LENS AND MOTHER GRAY SCALE MASK例文帳に追加

グレイスケールマスクの製造方法、マザーグレイスケールマスクの製造方法、レンズ付きマザーグレイスケールマスクの製造方法、及びマザーグレイスケールマスク。 - 特許庁

BREATHING-LINKING BLOWER MASK SYSTEM例文帳に追加

呼吸連動型ブロワーマスクシステム - 特許庁

(glibc since 2.1) Mask for hardware capabilities. 例文帳に追加

(glibc 2.1 以降)ハードウェア機能のマスク。 - JM

specifying these signals in mask , has no effect on the process's signal mask. 例文帳に追加

を禁止 (block) することはできない;これらのシグナルをmaskに指定しても、プロセスのシグナルマスクは影響を受けない。 - JM

METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK FOR SHADOW MASK AND PHOTOMASK FOR SHADOW MASK例文帳に追加

シャドウマスク用フォトマスクの製造方法及びシャドウマスク用フォトマスク - 特許庁

MASK BLANK SUBSTRATE, MASK BLANK, EXPOSURE MASK, SEMICONDUCTOR DEVICE, AND METHOD FOR MANUFACTURING THEM例文帳に追加

マスクブランクス用基板，マスクブランクス，露光用マスク及び半導体装置，並びにそれらの製造方法 - 特許庁

MASK PREPARATION METHOD, IMAGE PROCESSOR, SOFTWARE PROGRAM AND MASK DATA例文帳に追加

マスク作成方法、画像処理装置、ソフトウェアプログラム、並びにマスクデータ - 特許庁

SEMICONDUCTOR MASK CORRECTION DEVICE AND SEMICONDUCTOR MASK CORRECTION METHOD例文帳に追加

半導体マスク修正装置及び半導体マスク修正方法 - 特許庁

PHASE SHIFT MASK BLANK AND HALF TONE TYPE PHASE SHIFT MASK BLANK, PHASE SHIFT MASK AND PATTERN TRANSFERRING METHOD例文帳に追加

位相シフトマスクブランク、及びハーフトーン型位相シフトマスクブランクと、位相シフトマスク、及びパターン転写方法 - 特許庁

MASK BLANK, TRANSFER MASK, METHOD FOR MANUFACTURING TRANSFER MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

マスクブランク、転写用マスク、転写用マスクの製造方法、及び半導体デバイスの製造方法 - 特許庁