PHOTO-ACOUSTICの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 18件
LASER DEVICE AND PHOTO-ACOUSTIC DEVICE例文帳に追加
レーザー装置および光音響装置 - 特許庁
PHOTO-ACOUSTIC MICROSCOPE APPARATUS AND IMAGING METHOD例文帳に追加
光音響顕微鏡装置及び映像法 - 特許庁
PHOTO-MASK FOR FORMING SURFACE ACOUSTIC WAVE ELEMENT, METHOD OF MANUFACTURING SURFACE ACOUSTIC WAVE ELEMENT, AND SURFACE ACOUSTIC WAVE ELEMENT例文帳に追加
弾性表面波素子形成用フォトマスクおよび弾性表面波素子の製造方法並びに弾性表面波素子 - 特許庁
To reduce signal amplitudes caused by an interfacial acoustic wave and a reflected interfacial acoustic wave included in a received signal in PAT (Photo Acoustic Tomography).例文帳に追加
PATでの受信信号に含まれる界面音響波や反射界面音響波に起因する信号振幅を低減する。 - 特許庁
LOW-OUTPUT AND HIGH-SPEED INFRARED GAS SENSOR USING ABSORPTIVE PHOTO-ACOUSTIC DETECTION例文帳に追加
吸光−光音響検知を用いた低出力且つ高速の赤外線ガスセンサ - 特許庁
After the photo-resist 20 is sensitized, the unnecessary part of the photo-resist 20 is cleaned, and this surface acoustic wave element 10 is immersed in etching liquid in a state that the photo-resist 20 is deposited to a prescribed position.例文帳に追加
フォトレジスト20が感光した後、フォトレジスト20の不用部分を洗浄し、所定の位置にフォトレジスト20が付着した状態で、エッチング液に弾性表面波素子10を浸す。 - 特許庁
A laser source 15 irradiates the tumor site, where the photosensitive substance is permeated, with pulse laser 14 for PAI (Photo Acoustic Imaging) whose light quanty is modulated.例文帳に追加
レーザー光源15は、光感受性物質が蓄積された腫瘍患部に対して、光量が変調するPAI用パルスレーザー光14を照射する。 - 特許庁
The waveguide type optical frequency shifter using the surface acoustic wave has a waveguide shape of a light diffraction part to increase a photo-acoustic interaction length of a part undergoing the surface acoustic wave diffraction and has a waveguide after diffraction constituted of a tapered waveguide condensing diffracted light at 1.55 μm band.例文帳に追加
弾性表面波による回折を受ける部位の光音響相互作用長を長くするような光回折部の導波路形状を有し、回折後の導波路を1.55μm帯の回折光を集光可能なテーパ導波路で構成したことを特徴とする弾性表面波を用いた導波路型光周波数シフタ。 - 特許庁
These electrode patterns 34 are to be selectively used when exposing the photo-resist in accordance with the fluctuations of frequency temperature characteristics of the surface acoustic wave elements caused by a position of the piezoelectric substrate.例文帳に追加
これら電極パターン34は、圧電体基板の位置による弾性表面波素子の周波数温度特性のばらつきに応じて、フォトレジストを露光する際に使い分ける。 - 特許庁
The zero-order light E_0 inputted from the acoustic optical element 3 is diffracted by the reflection type diffraction grating plate 4, and its -1st-order light E_0' comes into a photo-detector 6.例文帳に追加
そして、音響光学素子3から入射された0次光E_0は反射型回折格子板4で回折され、その-1次光E_0'がフォトディテクタ6に入射する。 - 特許庁
The 1st-order light E_+1 inputted from the acoustic optical element 3 is diffracted by the reflection type diffraction grating plate 4, and its +1st-order light E_+1' comes into the photo-detector 6.例文帳に追加
また、音響光学素子3から入射された1次光E_+1は反射型回折格子板4で回折され、その+1次光E_+1'がフォトディテクタ6に入射する。 - 特許庁
In the reflector 20, a photo-acoustic optical crystal 21 is used as a substrate, a comb-line electrode 22 is located on an upper surface thereof, and a surface acoustic wave(SAW) 201 corresponding to the frequency of a high frequency signal impressed from an RF power source 23 is generated.例文帳に追加
反射部20は、光音響光学結晶21を基板とし、その上面にくし形電極22が配置され、RF電源23から印加される高周波信号の周波数に応じた表面弾性波201を発生させる。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a diaphragm for electro-acoustic transducer with which overflow or short-circuit is prevented when filling clearance of a mold with photo-setting resins, air bubbles are also prevented from being held in and a diaphragm for electro-acoustic transducer can be easily and inexpensively manufactured with a little man-hour, and a diaphragm for electro-acoustic transducer manufactured therewith.例文帳に追加
成形型のクリアランスに光硬化性樹脂を充填する場合にオーバーフローやショートを防止し、気泡の抱き込みも防止し、少ない工数で容易に、かつ安価に製造することのできる電気音響変換器用振動板の製造方法およびそれによって作製された電気音響変換器用振動板を提供する。 - 特許庁
To provide a film forming method and a film forming device which form a uniform film in a region to which photo lithography process is applied for the purpose of forming a propagation path or an electrode pattern, etc. of resist films, a sensitive film, etc. on a surface of spherical material to be coated in manufacturing process of a spherical surface acoustic wave element.例文帳に追加
球状弾性表面波素子の製造過程において、被塗布物である球状基材の表面にレジスト、感応膜等の被膜を伝搬路又は電極パターンを形成すること等を目的としたフォトリソグラフィープロセスの適用される領域に均一な被膜を形成するための被膜形成方法及び被膜形成装置を提供することを目的とする。 - 特許庁
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