「THERMAL PROCESSING」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

THERMAL PROCESSING APPARATUS, AND THERMAL PROCESSING METHOD例文帳に追加

熱処理装置および熱処理方法 - 特許庁

THERMAL PROCESSING METHOD AND THERMAL PROCESSING DEVICE例文帳に追加

熱処理方法および熱処理装置 - 特許庁

THERMAL PROCESSING HEAD例文帳に追加

熱処理ヘッド - 特許庁

THERMAL PROCESSING APPARATUS例文帳に追加

熱的処理装置 - 特許庁

THERMAL FLUX PROCESSING BY SCANNING例文帳に追加

走査による熱束処理 - 特許庁

THERMAL IMAGE PROCESSING APPARATUS例文帳に追加

熱画像処理装置 - 特許庁

THERMAL DEVELOPING PROCESSING METHOD例文帳に追加

熱現像処理方法 - 特許庁

RAPID THERMAL PROCESSING DEVICE例文帳に追加

急速熱処理装置 - 特許庁

THERMAL PROCESSING METHOD FOR STEEL SHEET例文帳に追加

鋼板の熱加工方法 - 特許庁

METHOD OF THERMAL PROCESSING AND THERMAL PROCESSING APPARATUS例文帳に追加

熱処理方法および熱処理装置 - 特許庁

IMPURITY ACTIVATING THERMAL PROCESSING METHOD, AND THERMAL PROCESSING APPARATUS例文帳に追加

不純物活性化熱処理方法及び熱処理装置 - 特許庁

IMPURITY ACTIVATING THERMAL PROCESSING METHOD AND THERMAL PROCESSING APPARATUS例文帳に追加

不純物活性化熱処理方法及び熱処理装置 - 特許庁

WATER BOAT FOR THERMAL PROCESSING AND THE THERMAL PROCESSING METHOD例文帳に追加

熱処理用ウエハボートおよび熱処理方法 - 特許庁

VERTICAL THERMAL PROCESSING EQUIPMENT AND VERTICAL THERMAL PROCESSING METHOD例文帳に追加

縦型熱処理装置及び縦型熱処理方法 - 特許庁

SUBSTRATE THERMAL PROCESSING DEVICE AND SUBSTRATE THERMAL PROCESSING METHOD例文帳に追加

基板熱処理装置および基板熱処理方法 - 特許庁

THERMAL PROCESSING METHOD, TUBE FOR THERMAL PROCESSOR, THERMAL PROCESSOR USING THE SAME例文帳に追加

熱処理方法、熱処理装置用管体、およびこれを用いた熱処理装置 - 特許庁

THERMAL INFORMATION PROCESSING SYSTEM, THERMAL INFORMATION PROCESSING METHOD, AND THERMAL INFORMATION PROCESSING PROGRAM例文帳に追加

熱情報処理システム、熱情報処理方法および熱情報処理プログラム - 特許庁

THERMAL PROCESSING DEVICE AND THERMAL DEVELOPING DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

熱処理装置及びそれを利用した熱現像装置 - 特許庁

METHOD FOR CONTROLLING TEMPERATURE OF THERMAL HEAD AND THERMAL PROCESSING APPARATUS例文帳に追加

サ—マルヘッドの温度制御方法およびサ—マル処理装置 - 特許庁

THERMAL TREATMENT METHOD, THERMAL TREATMENT DEVICE AND SUBSTRATE PROCESSING DEVICE例文帳に追加

熱処理方法、熱処理装置および基板処理装置 - 特許庁

DEVICE FOR SEPARATING RESIDUAL SEDIMENT OF THERMAL DECOMPOSITION, AND THERMAL DECOMPOSITION PROCESSING DEVICE例文帳に追加

熱分解残渣の分離装置および熱分解処理装置 - 特許庁

LASER THERMAL PROCESSING APPARATUS AND METHOD例文帳に追加

レーザー熱加工装置および方法 - 特許庁

THERMAL PROCESSING APPARATUS FOR SEMICONDUCTOR WAFER例文帳に追加

半導体ウエハの熱処理装置 - 特許庁

THERMAL PROCESSING FURNACE AND LINER FOR THE SAME例文帳に追加

熱処理炉およびそのライナー - 特許庁

INFRARED THERMAL IMAGE PROCESSING SYSTEM例文帳に追加

赤外線熱画像処理システム - 特許庁

LAMP FOR RAPID THERMAL PROCESSING CHAMBER例文帳に追加

急速熱処理チャンバ用のランプ - 特許庁

THERMAL ANALYSIS DATA PROCESSING DEVICE例文帳に追加

熱分析データ処理装置 - 特許庁

THERMAL DECOMPOSITION PROCESSING EQUIPMENT AND OPERATION METHOD例文帳に追加

熱分解処理施設と運転方法 - 特許庁

THERMAL PRINTING MEDIUM PROCESSING DEVICE例文帳に追加

感熱印刷媒体処理装置 - 特許庁

RAPID THERMAL PROCESSING APPARATUS AND METHOD例文帳に追加

急速熱処理装置及び方法 - 特許庁

DRYING DEVICE AND THERMAL PROCESSING SYSTEM例文帳に追加

乾燥装置および熱処理システム - 特許庁

THERMAL PROCESSING METHOD OF SILICON WAFER例文帳に追加

シリコンウェーハの熱処理方法 - 特許庁

APPARATUS FOR PROCESSING DATA OF THERMAL ANALYSIS APPARATUS例文帳に追加

熱分析装置のデータ処理装置 - 特許庁

THERMAL PROCESSING APPARATUS AND METHOD例文帳に追加

熱処理装置および熱処理方法 - 特許庁

THERMAL PROCESSING APPARATUS, METHOD FOR REGULATING TEMPERATURE OF THERMAL PROCESSING APPARATUS, AND PROGRAM例文帳に追加

熱処理装置、熱処理装置の温度調整方法、及び、プログラム - 特許庁

THERMAL PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS例文帳に追加

熱処理装置および基板処理装置 - 特許庁

In the processing, the thermal processing condition of the first thermal processing is made to be at higher temperature and in a shorter time compared with the second thermal processing.例文帳に追加

このとき、第１熱処理の熱処理条件を、第２熱処理よりも高温かつ短時間とする。 - 特許庁

METHOD FOR CONTROLLING TEMPERATURE OF THERMAL HEAD AND THERMAL PROCESSING APPARATUS例文帳に追加

サーマルヘッドの温度制御方法およびサーマル処理装置 - 特許庁

AFTERIMAGE PROCESSING METHOD FOR THERMAL TRANSFER SHEET, THERMAL TRANSFER SHEET AND THERMAL TRANSFER PRINTER例文帳に追加

熱転写シートの残像処理方法及び熱転写シート並びに熱転写プリンタ - 特許庁

HEATING PROCESSING DEVICE, HEATING PROCESSING FACILITY, AND THERMAL DECOMPOSITION PROCESSING FACILITY例文帳に追加

加熱加工装置、加熱加工施設及び熱分解加工施設 - 特許庁

MICRO THERMAL PROCESSING ELECTRODE AND THERMAL PROCESSING METHOD USING IT FOR METAL MEMBER OR SEMICONDUCTOR MEMBER例文帳に追加

マイクロ熱加工用電極及びそれを用いた金属部材若しくは半導体部材の熱加工方法 - 特許庁

In the thermal processing apparatus of the semiconductor device, the parameter of the thermal processing apparatus is monitored (S502).例文帳に追加

半導体装置の熱処理装置において、熱処理装置のパラメータをモニタリングする（Ｓ５０２）。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, THERMAL OXIDIZING PROCESSING METHOD, AND THERMAL OXIDIZING PROCESSING APPARATUS例文帳に追加

半導体装置の製造方法、熱酸化処理方法及び熱酸化処理装置 - 特許庁

To provide a laser thermal processing apparatus and a method.例文帳に追加

レーザー熱加工装置および方法を提供すること。 - 特許庁

COMBUSTION TYPE DEODORIZING DEVICE AND THERMAL DECOMPOSITION PROCESSING DEVICE例文帳に追加

燃焼式脱臭装置および熱分解処理装置 - 特許庁