「THERMAL PROCESSING」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a laser processing method which carries out an accurate and fine wiring connection processing by a non-thermal processing method using ultraviolet laser light of a wave length shorter than 400μm for an accurate wiring connection of a semiconductor integrated circuit device.例文帳に追加

半導体集積回路装置の正確な配線接続として、４００ｎｍよりも短い波長の紫外線レ−ザ光を用いることにより、非熱的加工方法による高精度および微細な配線接続加工を行うレ−ザ加工方法及びレ−ザ加工装置を提供する。 - 特許庁

To provide a carrier processing device of food capable of keeping the food in a stable state and easily carrying out cleaning work even when sharp miniaturization of the device is performed, simultaneously thermal efficiency is improved and quick processing is carried out by increasing supply quantity of processing gas in a spiral moving part.例文帳に追加

装置の大幅な小型化を達成し、同時に熱効率を高め、螺旋移動部において処理気体の供給量を増大して急速処理を行っても食品を安定状態に保持し、洗浄作業が容易な食品の搬送処理装置を提供する。 - 特許庁

The aluminum foil can be manufactured in such a way that an aluminum original foil is dipped into a sodium hydroxide solution of concentration of 1-8% to execute pre-processing, thermal processing is applied at a temperature of about 400°C after the pre-processing, and constant current etching is executed in a mixed liquid of a hydorchloric acid and a sulfuric acid.例文帳に追加

そのアルミニウム箔の製造方法は、アルミニウム原箔を１〜８％濃度の水酸化ナトリウム溶液に浸漬して前処理し、その前処理後４００℃前後の温度で熱処理し、その熱処理後、塩酸と硫酸の混合液中で、定電流エッチングを行うことで製造できる。 - 特許庁

In this thermal infrared solid-state image sensor provided with a detection part and a signal processing part for processing a signal transmitted from the detection part, which are provided on the same silicon substrate, the thickness of the insulating film of the detection part is set smaller than that of the interlayer separation layer of the signal processing part.例文帳に追加

検出部と検出部から送られた信号を処理する信号処理部とが、同一シリコン基板上に設けられた熱型赤外線固体撮像装置において、検出部の絶縁膜の膜厚を、信号処理部の層間分離層の膜厚より小さくする。 - 特許庁

To provide a high-pressure processing apparatus for stably forming a film on a substrate with the use of a supercritical fluid, by solving a problem that a temperature of a processing atmosphere is unstable because a pressure-resistant container is made from a material with low thermal conductivity, and by stabilizing the processing atmosphere.例文帳に追加

超臨界流体を利用して基板に成膜処理するにあたって、耐圧容器の熱伝導率が小さいことに基づく処理雰囲気の温度安定性の課題を解決し、処理雰囲気の安定化を図って安定して成膜処理を行うことができる高圧処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a small, thin thermal transfer printer which can positively prevent removal of a ribbon cassette at unsuitable timing, such as during the processing of a printing command to each paper or during the discontinuation of processing, thereby to prevent the failure of the thermal transfer printer, by an inexpensive and simple structure.例文帳に追加

小型化、薄型化されたプリンタにおいて、低廉且つ簡単な構成で、各用紙に対する印刷指令の処理時や処理中断中などの不適当なタイミングでのリボンカセットの抜き出しを確実に防止することができ、熱転写プリンタの故障を未然に防止することができる熱転写プリンタを提供すること。 - 特許庁

The heating scattering mechanism warms a purge gas supplied to the lower surface of the protective plate and uniformly scatters it to the periphery of the protective plate, and absorbs heat of the protective plate that is heated by heat transmitted to the lower side and the periphery among heat produced in the thermal processing section, by the purge gas, and returns it to the thermal processing chamber.例文帳に追加

この加熱分散機構は、保護板の下側面に供給されたパージガスを暖めて当該保護板の周囲に均等に分散させると共に前記熱処理部で発した熱のうち下側と周縁に伝わる熱を受けて熱せられた前記保護板の熱をパージガスで吸収して前記熱処理室に環流させる。 - 特許庁

To provide a method of shortening a processing time by increasing the depth of energy transmission into a processed portion and efficiently removing a remaining film causing problems during thermal abrasion by employing a thermal abrasion method for precise processing on an organic substance thin film, and to applying the method to manufacture of a black matrix substrate for a color filter.例文帳に追加

有機物薄膜の精密加工において、熱アブレーション法を採用することで、被加工部へのエネルギー伝達深度を深くして加工時間を短くするとともに、熱アブレーションの際に問題となる残膜を効率的に除去しうる方法を提供し、それをカラーフィルタ用ブラックマトリックス基板の製造に適用する。 - 特許庁

A sublimation type thermal transfer printer comprising a heating printing means, a heating processing means for an image formed by transferring the dye from an ink ribbon containing a sublimation dye by the heating printing means, and a heat blocking means for blocking the heat generated from the heating processing means at least to the image printing part, and an image forming method using the sublimation type thermal transfer printer, are provided.例文帳に追加

加熱印画手段、該加熱印画手段によって昇華染料を含有するインクリボンから該染料を受像シートに転写して形成される画像の加熱処理手段及び該加熱処理手段から発生する熱を少なくとも画像印画部に向けて遮蔽する手段熱遮蔽手段を備えたことを特徴とする昇華型熱転写プリンタ及びこの昇華型熱転写プリンタを用いる画像形成方法。 - 特許庁

In a thermal processing apparatus for a substrate, a ceramic plate 10 and a substrate receiver 9 which are close in radiation efficiency to glass are arranged around a glass substrate 1 on a feeding tray 2 used for thermal processing, whereby the temperature gradient at the outer peripheral edge portion of the glass substrate is reduced and thus the glass substrate can be prevented from being broken in a heating process.例文帳に追加

発明の基板の熱処理装置は、熱処理の際に用いる搬送トレイ２に、ガラス基板１の周辺にガラスと輻射率の近いセラミックプレート１０および基板受け９を配置することにより、ガラス基板外周端部の温度勾配を低減させ、加熱プロセスにおけるガラス基板の割れ防止を行う。 - 特許庁

The optical isolator is equipped with: an incident collimator; a non-reciprocal part and an emitting collimator arranged in order on the optical axis of the incident collimator; a first thermal conversion processing part thermally converting the returning light returning from the emitting collimator; and a second thermal conversion processing part thermally converting the leaked light leaked from the non-reciprocal part.例文帳に追加

入射コリメータと、入射コリメータの光軸上に順に配置される非相反部及び出射コリメータと、出射コリメータから戻る戻り光を熱変換する第１の熱変換処理部と、非相反部から漏れる漏れ光を熱変換する第２の熱変換処理部とを備える光アイソレータである。 - 特許庁

A rapid thermal processing apparatus is used to selectively oxidize a substrate by in-situ steam generation at high pressure in a hydrogen rich atmosphere.例文帳に追加

一態様において、急速熱処理装置を用いて、水素を多く含む雰囲気中で高圧においてインサイチュで水蒸気を生成させることによって基板を選択的に酸化する。 - 特許庁

To provide a method for nitriding a turbine blade capable of forming a nitride film with optional thickness distribution on the turbine blade with less thermal energy according to the purpose of processing.例文帳に追加

処理目的に応じて、タービン翼に任意の厚さ分布の窒化膜を少ない熱エネルギーで形成可能なタービン翼の窒化方法を提供する。 - 特許庁

To provide a laser crystallization method capable of enhancing the processing efficiency of substrates while suppressing the thermal damage on the substrate, and to provide a laser irradiator employing a laser crystallization method.例文帳に追加

基板処理の効率を高めることができ、また基板への熱的ダメージを抑えることができるレーザー結晶化法、及び該レーザー結晶化法を用いたレーザー照射装置の提供を課題とする。 - 特許庁

A thermal process for cleaning equipment surfaces having deposition of undesired silicon nitride in a semiconductor processing chamber by using a thermally activated source of pre-diluted fluorine is provided.例文帳に追加

半導体処理チャンバーにおいて、望まれていない窒化ケイ素が推積した装置表面を、熱的に活性化した、予備希釈したフッ素源を用いてクリーニングするサーマルプロセス。 - 特許庁

A grain size of polycrystalline semiconductor is made larger than that of the conventional semiconductors by forming a protective diode with a polycrystalline semiconductor which is obtained by crystallizing an amorphous semiconductor by thermal processing.例文帳に追加

非晶質半導体を熱処理によって結晶化した多結晶半導体で保護ダイオードを形成することによって、当該多結晶半導体のグレインサイズを従来と比べて大きくする。 - 特許庁

To provide a rapid thermal processing apparatus and method ensuring accurate measurement of substrate temperature and high precision heating of a semiconductor substrate even under a low temperature state of a low translucence semiconductor substrate.例文帳に追加

遮光性の低い半導体基板の温度が低い状態においても正確な基板温度の測定及び半導体基板に対する高い精度の加熱を可能にする急速熱処理装置及び方法を提供する。 - 特許庁

To provide a heat shield where a pump is shielded from the thermal energy generated in a semiconductor wafer processing chamber to improve the performance of a cryopump.例文帳に追加

半導体ウェーハ処理チャンバー内に生じた熱エネルギーからポンプをシールドすることによりクライオポンプの性能を向上させる熱シールドを提供する。 - 特許庁

The nanocrystalline silicon memory film 110 is formed by depositing an amorphous silicon layer by use of the CVD method and performing thermal oxidation processing on part of the amorphous silicon layer.例文帳に追加

ナノ結晶シリコンメモリ膜１１０はＣＶＤ法を用いて非晶質シリコン層を堆積し、非晶質シリコン層の一部を熱酸化処理することによって形成される。 - 特許庁

To provide a multilayer substrate capable of correctly measuring temperatures during a step of crystal-growing an oxide thin film on a translucent substrate and a step of thermal processing.例文帳に追加

透光性基板上に酸化物薄膜を結晶成長させる工程や熱処理工程における温度を正確に検出することができる多層基板を提供する。 - 特許庁

Subsequently, a thermal processing is applied to the film 2 at normal pressure in an atmosphere of an inert gas containing a hydrogen to form a metal oxide film 2a having improved film quality.例文帳に追加

次に金属酸化膜２に水素を含む不活性ガス雰囲気中の常圧で熱処理を加え、膜質が改善された金属酸化膜２ａを形成する。 - 特許庁

To perform stable and also high speed processing by optimally adjusting a bus clock frequency and a clock frequency multiplication rate inside a CPU and preventing the thermal runaway of the CPU.例文帳に追加

バスクロック周波数とＣＰＵ内部のクロック周波数逓倍率を最適に調整して、ＣＰＵの熱暴走を防止して、安定かつ高速な処理を行なう。 - 特許庁

To provide a solid polymer ion conductor which is superior in film- forming properties and has a high ion conductivity without deteriorating thermal and chemical stability, without using complicated synthesizing processes and a complicated processing unit.例文帳に追加

複雑な合成過程や複雑な処理装置を用いることなく製膜性に優れ、かつ熱的化学的安定性を損なうことなく高いイオン伝導性を有する固体高分子イオン伝導体を提供する。 - 特許庁

To provide a system that stably carries out carbonization/combustion/gas formation and has high thermal efficiency and generating efficiency even in the case of comprising not only woody biomass but also waste-based biomass such as municipal waste in a processing object.例文帳に追加

木質系バイオマスのみならず都市ゴミのような廃棄物系バイオマスを処理対象に含めた場合にも安定して炭化・燃焼・ガス生成を行うことができ、尚かつ熱効率と発電効率の高いシステムを提供する。 - 特許庁

Polyethylene with a weight average molecular weight Mw of 200-2,500 or a polyethylene derivative is added to a thermoplastic resin composition in an amount of 0.02-3% to perform thermal lamination processing.例文帳に追加

熱可塑性樹脂組成物に重量平均分子量Ｍｗ２００〜２５００のポリエチレンあるいはポリエチレン誘導体を０．０２〜３％添加し、熱ラミネーション加工を行う。 - 特許庁

A control portion 9 of a thermal printer 1 performs CMYK-CMY conversion processing for deleting a K (black) component of input CMYK image data 3, and subsequently, performs resolution conversion and gradation conversion.例文帳に追加

サーマルプリンタ１の制御部９は、入力されたＣＭＹＫ画像データ３のＫ（ブラック）成分を削除するＣＭＹＫ−ＣＭＹ変換処理を行い、その後、解像度変換、階調変換を行う。 - 特許庁

Density of visible data indicated on the thermal layer of a rewrite card is lowered before being erased by performing the processing for erasing the visible data at least once before the visible data is rewritten.例文帳に追加

リライトカードの感熱層に表示された可視データを書き換える前に、その消去処理を少なくとも１回実行することで、消去前の可視データの濃度を低下させる。 - 特許庁

Processing of polygonal shape by die punching is realized easily by using a glass fabric epoxy layer as the surroundings of the thermosetting resin composition filled with the thermal conductive inorganic filler.例文帳に追加

また熱伝導性無機フィラーを充填した熱硬化性樹脂組成物の周囲をガラス布エポキシ層とすることで、金型打ち抜きによる多角形状の外形加工を容易に実現することが可能となった。 - 特許庁

A rapid thermal processing (RTP) system 110 includes a transmission pyrometer 12 for monitoring the temperature dependent absorption of a silicon wafer 32 for radiation from a RTP lamp 46 at a reduced power level.例文帳に追加

急速熱処理（ＲＴＰ）システム１１０は、減じた電力レベルでのＲＴＰランプ４６からの放射線に対するシリコンウエハ３２の温度依存性吸収を監視する透過型パイロメータ１２を含む。 - 特許庁

METHOD EXECUTED BY COMPUTER GENERATING SOFTWARE THERMAL PROFILE FOR APPLICATION IN SIMULATED ENVIRONMENT, DATA PROCESSING SYSTEM, AND COMPUTER PROGRAM例文帳に追加

シミュレートされた環境でのアプリケーション用のソフトウェア熱プロファイル生成のコンピュータによって実施する方法、データ処理システム、およびコンピュータ・プログラム - 特許庁

COMPUTER IMPLEMENTED METHOD WHICH CARRIES OUT SCHEDULING USING SOFTWARE AND HARDWARE THERMAL PROFILES, DATA PROCESSING SYSTEM, AND COMPUTER PROGRAM例文帳に追加

ソフトウェア熱プロファイルおよびハードウェア熱プロファイルを使用してスケジューリングする、コンピュータによって実施する方法、データ処理システム、およびコンピュータ・プログラム - 特許庁

The layered substrate compensates for the thermal mismatch between the epitaxial layer 214 and the top layer 210 of the substrate, resulting in a flat wafer suitable for subsequent processing at a high yield.例文帳に追加

層状基板は、エピタキシャル層２１４と基板の上層２１０の温度の不一致を補償し、次の処理に適する平坦なウェハを高い歩留まりで実現することができる。 - 特許庁

Then, after thermal processing is performed as required, resist coating, patterning, etching and the like are performed, a dopant dispersion region 10 is formed by ion implantation or the like to form the semiconductor device of MOS structure.例文帳に追加

その後、必要に応じて熱処理を施した後、レジスト塗布、パターニング、エッチング等を行い、さらにイオン注入等によって不純物拡散領域１０を形成し、ＭＯＳ構造の半導体装置を形成する。 - 特許庁

A ferroelectric film (PZT film) 127 that constitutes a ferroelectric capacitor 130 is formed by a sputtering method, and it is subsequently subjected to thermal processing (RTA) in an oxygen atmosphere.例文帳に追加

強誘電体キャパシタ１３０を構成する強誘電体膜（ＰＺＴ膜）１２７をスパッタ法により形成した後、酸素雰囲気中で熱処理（ＲＴＡ）を施す。 - 特許庁

A material of the fitting part socket 15 attached on the nut runner device 11 is chrome molybdenum steel, and a process for thermal processing is made by carbonitriding quenching and nitriding annealing (high temperature tempering) after carburizing.例文帳に追加

ナットランナ装置１１に装着された嵌合部ソケット１５の、 材質をクロムモリブデン鋼とし、 熱処理の工程を、浸炭後、浸炭窒化焼入れ、窒化焼戻し（高温戻し）とする。 - 特許庁

A computer implemented method, a data processing system and the processor are provided for thermal throttling control for testing of real-time software.例文帳に追加

リアルタイム・ソフトウェアを試験するためのサーマル・スロットリング制御のための、コンピュータによって実施される方法、データ処理システム、およびプロセッサを提供する。 - 特許庁

At the time of bonding the orifice plate 4 to the front end face of the head basic body 61 through high temperature processing, thermal deformation of the fluororesin plate 51 is prevented by the reinforcing member 57.例文帳に追加

ヘッド基体６１の前端面に高温処理でオリフィスプレート４を接合する際に、熱によるフッ素樹脂板５１の変形が補強部材５７によって防止される。 - 特許庁

To provide a vinyl chloride resin plastisol composition having excellent sol viscosity, thermal stability at processing and of molding, without causing bleeding of compounds possibly of sanitary concern.例文帳に追加

衛生上問題となり得る化合物の溶出が生じることなく、ゾル粘度、加工時及び成形品の熱安定性に優れた塩化ビニル系樹脂プラスチゾル組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a method for preserving safety and flavor as a food by preventing oxidation deterioration of mushroom by oxygen from thermal processing to storage and by maintaining mushrooms as a desired favorable food.例文帳に追加

キノコを熱加工から保管まで、酸素による酸化劣化を防止し、かつ、所望する好ましい食品として維持させることによって、安全かつ食品としての風味を保持する方法を提供する。 - 特許庁

When there is no request for heat generation by the heat storage material 6 for warming the catalyst 3 and no request for heat absorption by the heat storage material 6 for cooling the catalyst 3, thermal control preparation processing is executed.例文帳に追加

そして、触媒３の加温のための蓄熱材６の発熱の要求、及び触媒３の冷却のための蓄熱材６の吸熱の要求がないときには、熱制御準備処理が実行される。 - 特許庁

To reduce or compensate thermal stresses in a semiconductor element, which arise as a result of temperature changes during processing and during operation and on account of different expansion coefficients of a semiconductor and a carrier substrate.例文帳に追加

プロセシング中及び作動中の温度変化によって、及び、半導体及び支持体基板の種々異なる膨張係数に基づいて生じる構成素子内の熱応力を低減乃至補償する。 - 特許庁

On its surface, a cured surface layer part is formed by thermal processing for conducting hardening, nitrocarburizing, carburizing and quenching and annealing in this order.例文帳に追加

そして、焼入れ，軟窒化処理，浸炭焼入れ，及び焼戻しを該記載順序で行う熱処理が施されることにより、その表面には硬化された表層部が形成されている。 - 特許庁

To provide a method for recovering iodine by which iodine can be recovered from a gas containing a volatile organic iodine compound with low energy and without the need for the thermal processing at a high temperature.例文帳に追加

高温での熱処理を必要とせず、揮発性有機ヨウ素化合物を含む気体中から低エネルギーでヨウ素を回収することができるヨウ素の回収方法を提供する。 - 特許庁

The CPU 11 reads out the head information stored in the EEPROM 21 appropriately and controls the thermal head 5 depending on the characteristics thereof through the head control section 15 thus performing print processing.例文帳に追加

ＣＰＵ１１は、ＥＥＰＲＯＭ２１に記憶されたヘッド情報を適宜読み出し、ヘッド制御部１５を介してサーマルヘッド５をその特性に応じて制御し、印字処理を実行する。 - 特許庁

To provide a polypropylene composition superior in any evaluation on a stability against heat oxidation, a hue, a thermal deformation temperature, a flexural modulus, the resistance to NOx, a processing stability and a surface smoothness.例文帳に追加

熱酸化に対する安定性、色相、熱変形温度、曲げ弾性率、耐ＮＯｘ性、加工安定性及び表面平滑性のいずれの評価についても優れるポリプロピレン組成物を提供する。 - 特許庁