「THERMAL PROCESSING」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an inkjet recording apparatus which improves the efficiency of drying processing after drawing, and suppresses effects on a drawing part caused by the drying processing to attain satisfactory ink hitting, and to provide a thermal insulation method.例文帳に追加

描画後の乾燥処理の効率向上を図るとともに、乾燥処理により発生する熱の描画部への影響を抑制して好ましいインク打滴を実現するインクジェット記録装置及び断熱処理方法を提供する。 - 特許庁

The thermal processing section 32 of this apparatus has a hot air supply unit 140 for supplying hot air into the processing chamber of a pre-baking unit (PRE-BAKE) 48.例文帳に追加

この熱的処理部３２は、プリベークユニット（ＰＲＥ−ＢＡＫＥ）４８の処理室内に温風を供給するための温風供給部１４０を備えている。 - 特許庁

To provide a polarizing plate produced by laminating protective sheets composed of thermoplastic resin on both sides of a polarizing thin film and applying thermal bending processing thereto, wherein deterioration such as breakage of the polarizing thin film is prevented on processing.例文帳に追加

偏光性薄膜の両面に熱可塑性樹脂からなる保護シートを貼合し、熱曲げ加工される偏光板において、加工時に偏光性薄膜に切れなどの劣化が生じない偏光板を提供すること。 - 特許庁

To provide a processing method in an air object using four sheets, where the sheets constituted of four sheets are sealed by thermal processing and an expansion state is kept longer than an air object composed of two sheets.例文帳に追加

本発明は、４枚で構成されたシートを熱加工によりシールし、２枚で構成されたエアー物より、長く膨らませた状態を維持できる４枚のシートを使ったエアー物における加工方法を提供する。 - 特許庁

The surfaces of glass fibers are preliminarily coated with a fluoroplastic resin and the coated glass fibers are woven and, thereafter, the thermal bonding processing of the fluoroplastic resin and the adhesion processing of a heat insulating material are applied to the woven one to obtain the composite film material.例文帳に追加

あらかじめガラス繊維の表面にフッ素樹脂をコーティングし、その後製織加工し、次いでフッ素樹脂の熱接着加工および断熱材の接着加工して複合膜材を得る。 - 特許庁

After a bent hole 31 is formed on a diaphragm 30, the diaphragm 30 is applied with a thermal aging processing (for one to two minutes at 260°C) so that the diameter of the bent hole 31 does not change, even after reflow processing.例文帳に追加

ダイヤフラム３０にベントホール３１を形成した後に、このダイヤフラム３０に熱エージング処理（２６０℃で１〜２分）を施し、リフロ処理した後でもベントホール３１の径が変わらないようにする。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for processing a high-frequency component at low cost without applying thermal stress because the high-frequency component is not heat-treatment and also provide a high-frequency component manufactured with the same processing method and apparatus.例文帳に追加

高周波部品を加熱しないので熱ストレスを加えることなく低コストで高周波部品を加工する加工方法、その加工装置及びその方法により製造される高周波部品を提供すること。 - 特許庁

The substrate processing device has a configuration where a base 72 supporting the heater unit 60, a manifold 55, and a processing tube 59 made to undergo reciprocating movement by a heater unit moving device 61 between a thermal treatment performing position and a maintenance operation performing position.例文帳に追加

ヒータユニット６０とマニホールド５５とプロセスチューブ５９を支持したベース７２を熱処理実施位置とメンテナンス作業実施位置との間でヒータユニット移動装置６１によって往復移動させるように構成する。 - 特許庁

Since a thermal processing time is not required to be set for each circuit board 51 having a different product pitch, the tape substrate 50 connecting the circuit boards 51 having a different product pitch can be subjected to reflow processing continuously.例文帳に追加

これにより、製品ピッチの異なるそれぞれの回路基板５１への加熱処理時間の設定が不要となるため、製品ピッチの異なる回路基板５１を連ねたテープ基板５０へのリフロー処理を連続して行うことができる。 - 特許庁

Thereby, a region of ceramic raw material ejected by means of the thermal spray gun 13 can be enlarged and the second working apparatus 2 enables the working processing (ejection processing) of a protective coated film even for the oxygen sensor having a large formation region of the protective coated film.例文帳に追加

これにより、溶射ガン１３によるセラミックス原料の噴射領域を拡大でき、第２加工装置２は、保護被膜の形成領域の大きい酸素センサに対しても保護被膜の加工処理（噴射処理）が可能となる。 - 特許庁

To provide a vacuum drier, quickly performing vacuum drying processing and heating processing, reducing the fully occupying area of the drier on the whole, and hardly exerting thermal influence on a base plate in a non-heating state.例文帳に追加

減圧乾燥処理と加熱処理とを迅速に行うとともに全体として装置の占有面積を低減させ、かつ、非加熱時の基板に対する熱的影響が少ない減圧乾燥装置を提供する。 - 特許庁

To provide a liquid processing apparatus capable of making a footprint small, eliminating the necessity of providing a special mechanism for separating an exhausted gas from and drainage, and hardly causing breakage due to thermal expansion even if a high-temperature processing liquid is used.例文帳に追加

フットプリントを小さくすることができ、排気と排液との分離機構を特別に設ける必要がなく、高温の処理液を用いた場合でも熱膨張による破損が生じ難い液処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for processing a high homogeneous small diameter glass material, in which the high homogeneous small diameter glass material free from the occurrence of chipping or crack during processing is obtained by reducing the residue of thermal distortion.例文帳に追加

熱歪みの残留を減らして、加工時に欠けやひびを発生することがない高均質な硝材を得ることができる高均質性小径硝材の加工方法を提供する。 - 特許庁

The heating part 12 is provided with a first insertion port 22, and the printing original plate 1 necessitating the thermal processing is inserted to the inside of the processing device 10 from the first port 22 after it is exposed.例文帳に追加

加熱部１２には第一挿入口２２が設けられており、加熱処理が必要な印刷原版１は露光された後、この第一挿入口２２から処理装置１０内に挿入される。 - 特許庁

To provide a device and a method for sealing, in which a seal component, capable of keeping a first portion of a semiconductor processing chamber at a first pressure while keeping a second portion of the semiconductor processing chamber at a second pressure, is applied to joining members having different thermal expansion coefficients.例文帳に追加

半導体処理チャンバにおいて、第１の部分を第１の圧力に、第２の部分を第２の圧力にするシール部材を熱膨張係数の異なる部材間に適用。 - 特許庁

To provide a device for plasma-processing and a method of plasma-processing for improving both a thermal conductivity from a gas shower head or target to a high-frequency or DC electrode and a gas distribution below the gas shower head.例文帳に追加

ガスシャワーヘッドまたはターゲットから高周波または直流電極への熱伝導性とガスシャワーヘッド下方のガス分布とを改善できるプラズマ処理装置およびプラズマ処理方法を提供する。 - 特許庁

The thermal information processing system 10 has: a portable telephone 100 for processing a game, call, or E-mail at least; and a ring 200 for transmitting information to a user by using the change of heat.例文帳に追加

熱情報処理システム１０は、ゲーム、通話又は電子メールの少なくともいずれかの処理が可能な携帯電話１００と、熱の高低によりユーザに情報を伝達する指輪２００と、を有する。 - 特許庁

To provide a thermal treatment device which does not require a loading area or a lift mechanism below a processing vessel, can be reduced in height, made simple in structure, and improved in processing.例文帳に追加

処理容器の下方にローディングエリアや昇降機構を設ける必要がなく、装置高さを低くすることができると共に、構造の単純化やプロセス性能の向上が図れる熱処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a thermal developing device which controls deterioration in picture quality due to a decrease in the temperature of a heating member caused by continuous processing and shorten the continuous processing time.例文帳に追加

連続処理によって生じる加熱部材の温度低下による画質劣化を制御でき、しかも連続処理時間の短縮につながる熱現像装置を提供する。 - 特許庁

To provide a ceramic heater for a semiconductor manufacturing apparatus in which flatness of a wafer placing surface is improved in a high temperature zone for processing a wafer in a semiconductor manufacturing step and the soaking performance on the surface of a wafer during thermal processing is improved.例文帳に追加

半導体製造工程でウエハを処理する高温域においてウエハ載置面の平面度を高め、加熱処理時におけるウエハ表面の均熱性を高めた半導体製造装置用セラミックスヒーターを提供する。 - 特許庁

The fabric (4) giving the refrigerant feeling during putting on the cap is produced by applying the chemical processing (2) and the thermal processing (3) to the fabric (1) used as the lining of the cap and the like (including the hair band).例文帳に追加

帽子等（ヘアーバンドを含む）の裏生地に使用する布地に（１）化学的な加工（２）及び熱加工をを施し（３）帽子着用時に、清涼感が得られる布地（４）製造が可能となる特徴を有する。 - 特許庁

To obtain a rewritable recorder for reversible thermal recording medium, a record erasing method and a reversible thermal recording medium, in which print/ erasure can be repeated by thermally forming a color developing state or a discoloring state reversibly in the thermal layer of the reversible thermal recording medium, and occurrence of waving or irregularities in the reversible thermal recording medium is prevented at the time of discoloring/coloring processing.例文帳に追加

本発明は加熱により可逆的感熱記録媒体の感熱層を可逆的に発色状態・消色状態を形成することにより繰り返し印字・消去が可能とした可逆的感熱記録媒体用リライタブル記録装置及び記録消去方法及び可逆的感熱記録媒体に関し、消色／発色処理時において可逆的感熱記録媒体に波打ちや凹凸が発生することを防止することを課題とする。 - 特許庁

To provide a polyester polymerization catalyst consisting essentially of a component other than an antimony compound or a germanium compound, excellent in catalyst activity and capable of providing a polyester excellent in thermal stability with effectively suppressed thermal deterioration during melt processing without deactivating or removing the catalyst.例文帳に追加

アンチモン化合物又はゲルマニウム化合物以外の成分を主成分とし、触媒活性に優れ、かつ触媒の失活もしくは除去をすることなしに、溶融加工時の熱劣化を効果的に抑制した熱安定性に優れたポリエステルを与えるポリエステル重合触媒を提供する。 - 特許庁

To provide a calender roll provided with a means for effectively preventing the long-time stagnation of a thermoplastic material in a bank to suppress the thermal deterioration of the thermoplastic material, and a method for processing the thermoplastic material suppressed in thermal deterioration.例文帳に追加

バンク内に熱可塑性材料が長時間滞留することを有効に防止し、従って熱可塑性材料の熱劣化を抑制する手段を備えたカレンダーロール並びに熱劣化が抑制された熱可塑性材料の加工方法を提供する。 - 特許庁

To provide a thermal printer capable of reducing the thermal storage to a sheet at the time of the consecutive processing for printing and erasing by cooling the sheet and its conveying path, thereby of acquiring a stable printing density.例文帳に追加

本発明は、用紙および搬送路の冷却を行うことにより、印刷処理と消去処理の連続処理時における用紙への蓄熱を低減させ、そのことにより安定した印字濃度を得ることが可能なサーマルプリント装置を提供しようとするものである。 - 特許庁

In the thermal processing apparatus, the semiconductor wafers are conveyed in the heating furnace and individual semiconductors never stay only at a specified position, so even when the temperature distribution in the heating furnace is not uniform, all the semiconductor wafer can be given the same thermal hysteresis.例文帳に追加

この熱処理装置にでは、半導体ウエハが搬入口から搬出口まで加熱炉内を搬送され、各々の半導体が特定の位置のみに留まることがないので、加熱炉内の温度分布が均一でなくとも、全ての半導体ウエハに同じ熱履歴を与えることができる。 - 特許庁

To obtain a thermoplastic resin composition which is excellent in thermal coloration resistance and thermal deterioration resistance under high temperature in a molded article obtained by processing an engineering plastic produced by adding especially a graft copolymer to a thermoplastic resin.例文帳に追加

熱可塑性樹脂、特にグラフト共重合体が添加されたエンジニアリングプラスチックを加工して得られた成形品において、高温下における耐熱着色性や耐熱劣化性に優れた熱可塑性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a thermal treatment method of a semiconductor substrate for stably manufacturing the semiconductor substrate in which the in-plane variation of the distribution of a dopant diffused in the semiconductor substrate is suppressed, when the thermal processing is performed to diffuse a diffusate in the semiconductor substrate using a horizontal diffusion furnace.例文帳に追加

横型拡散炉を用いて半導体基板に拡散物質を拡散する熱処理を行う場合に、半導体基板に拡散したドーパントの分布の面内におけるばらつきが抑えられた半導体基板を安定して製造するための半導体基板の熱処理方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

Another apparatus that is adapted to measure heat flux includes a housing 805 and a base member having known resistivity, a processing unit, and two temperature measuring devices one of which is in thermal communication with a body and the other is in thermal communication with the ambient environment.例文帳に追加

別の装置として、熱束を測定するものがあり、それはハウジング８０５、公知の抵抗率のベース部材、処理ユニット、及び１つは身体と熱的伝送関係にあり、もう一方は周囲環境と熱的伝送関係にある２つの温度測定装置を有する。 - 特許庁

To provide a wafer processing tape having a uniform expansion property suitable for a process of splitting an adhesive layer by expansion, presenting a sufficient contraction property in a thermal contraction process, and causing no failure due to slack after the thermal contraction process.例文帳に追加

エキスパンドによって接着剤層を分断する工程に適した均一拡張性を有し、且つ、加熱収縮工程において十分な収縮性を示し、加熱収縮工程の後に弛みによる不具合を引き起こすことないウエハ加工用テープを提供する。 - 特許庁

ROTARY PRINTER, THERMAL COLORING LABEL PRINTER, RECORDING MEDIUM, OPTICAL DISC RECORDING MEDIUM AND ITS PRODUCING METHOD, THERMAL COLORING LABEL SEAL, ROTARY LABEL SCANNER, COMPOSITE MEDIA DEVICE, INFORMATION PROCESSOR, DIGITAL AUDIO VIDEO SYSTEM, HOME MULTIMEDIA INFORMATION PROCESSOR, INFORMATION PROCESSING METHOD, SOFTWARE例文帳に追加

回転式プリンタ、熱発色型ラベルプリンタ、記録媒体、光円盤記録媒体及びその製造方法、熱発色型ラベルシール、回転式ラベルスキャナ、複合型メディアデバイス、情報処理装置、デジタル音響映像装置、ホームマルチメディア情報処理装置、情報処理方法、ソフトウェア - 特許庁

A cleaning section 40 is provided in an image rewriting unit comprising an erasing section 11 or a recording section 17 where a thermal recording medium 100 having a reversible recording layer 102 varying the state reversibly is subjected to erasing or recording processing by touching a heat roller 12 or a thermal head 18 thereto.例文帳に追加

可逆的に状態が変化する可逆記録層１０２を有する感熱記録媒体１００に対して、ヒートローラ１２又はサーマルヘッド１８を接触させて消去処理又は記録処理を行う消去部１１又は記録部１７を有する画像書換装置等に、クリーニング部４０が設けられている。 - 特許庁

To provide an inkjet head unit that can suppress influence of a thermal expansion coefficient increased by polarization processing to thereby suppress a thermal expansion coefficient of an entire head, and can prevent interfacial separation between an adhesive and an end portion of the head due to thermosetting.例文帳に追加

分極処理に対して増大する熱膨張係数の影響を低減して、ヘッド全体の熱膨張係数を抑えることにより、加熱硬化による接着剤とヘッド端部の界面剥離を防止できるインクジェットヘッドユニットを提供する。 - 特許庁

The data analyzing apparatus 1 comprises an image capturing part 5 for capturing thermal images of a biological surface in the form of moving images and a data processing part 7 for detecting the transition of changes in the temperature of the biological surface from the moving image of the thermal images captured by the image capturing part 5 to analyze the sweating status of a living body.例文帳に追加

データ解析装置１に、生体表面の熱画像を動画で撮影する画像撮影部５と、画像撮影部５により撮影された熱画像の動画から生体表面の温度変化の推移を検出して生体の発汗状況を解析するデータ処理部７とを設ける。 - 特許庁

An air space with a lower thermal conductivity than that of a ceramic substrate of a multi-layer wiring ceramic package 300 is provided between an imaging area PA of an image sensor chip 100 and a signal processing chip 200, which face each other, as a low thermal conduction layer 901.例文帳に追加

イメージセンサチップ１００の撮像領域ＰＡと、信号処理チップ２００とが対面する間に介在するように、多層配線セラミックパッケージ３００のセラミック基板よりも熱伝導率が低い空気層を、低熱伝導層９０１として設ける。 - 特許庁

An integrated circuit device 64 for processing a signal from the CCD image sensor 20 is attached to one end 57a of a second thermal conductor 57 through an insulating sheet 69, and the other end 57b of the second thermal conductor 57 is exposed to the inside of a battery housing chamber 55.例文帳に追加

ＣＣＤイメージセンサ２０からの信号を処理する集積回路装置６４は絶縁シート６９を介して第２熱伝導体５７の一端５７ａに取り付けられ、第２熱伝導体５７の他端５７ｂはバッテリ収容室５５内に露呈している。 - 特許庁

To manufacture a metal foil clad laminated sheet lowered in the elastic modulus of an epoxy resin by the addition of a plasticizer, suppressed in the coefficient of thermal expansion in a surface direction, low in the coefficient of thermal expansion and reduced in the falling-off of a resin powder at a time of punching processing.例文帳に追加

可とう化剤の添加によってエポキシ樹脂の弾性率を低下させ、面方向の熱膨張率を抑えた金属箔張り積層板を製造する方法において、熱膨張率が小さく、かつ打ち抜き加工時の樹脂粉等の脱落が少ない金属箔張り積層板を製造する。 - 特許庁

To obtain a thermal adhesive co-extrusion multilayered film together having an excellent anti-staining function, a plasticizer transfer preventing function and processability fitted to emboss processing or the like, and excellent in the thermal adhesiveness with a substrate material comprising a vinyl chloride polymer film, even if an adhesive containing an organic solvent or the like is not used.例文帳に追加

優れた汚れ防止機能、可塑剤移行防止機能およびエンボス加工等への加工適性を併せ持ち、かつ、有機溶剤を含む接着剤等を使用しない場合においても塩化ビニル系重合体フィルムからなる基材との熱接着性に優れた熱接着用共押出多層フィルムを得ること。 - 特許庁

The image processing apparatus mainly includes: a CPU 1 incorporating a thermal diode 2; a thermal sensor 3; a south bridge 4 incorporating a RTC 5; an I/O ASIC 6; an operation control unit 7; a memory medium 8; a north bridge 9; a DRAM 10; a VideoASIC 11; and a nonvolatile memory 12.例文帳に追加

サーマルダイオード２を内蔵したＣＰＵ１、サーマルセンサ３、ＲＴＣ５を内蔵したサウス・ブリッジ４、Ｉ／Ｏ ＡＳＩＣ６、操作部７、メモリ媒体８、ノース・ブリッジ９、ＤＲＡＭ１０、ＶｉｄｅｏＡＳＩＣ１１、不揮発メモリ１２を主な構成とする。 - 特許庁

To provide an inkjet head in which processing and forming a fine electrode wiring pattern are easily performed, which has a thermal expansion coefficient close to the thermal expansion coefficient of a head chip, and in which a driving electrode provided in a channel can be connected with the external wiring from the back end of the head chip by using a wiring substrate excellent in ink resistance.例文帳に追加

加工や微細な電極配線パターンの形成が容易であり、かつ、ヘッドチップの熱膨張係数に近く、かつ、耐インク性に優れた配線基板を用いて、ヘッドチップの後端からチャネル内に設けた駆動電極と外部配線との接続ができるインクジェットヘッドの提供。 - 特許庁

This data detecting apparatus 1 is provided with an image capturing section 6 capturing a thermal imagery near the nostrils or the nasal cavity of the living body, and a data processing section 7 detecting the body temperature of the living body by converting pixel values of the thermal imagery captured by the image capturing section 6 into temperature data.例文帳に追加

データ検出装置１に、生体の鼻の穴又は鼻腔付近の熱画像を撮影する画像撮影部６と、画像撮影部６により撮影された熱画像の画素値を温度データに変換することによって生体の体温を検出するデータ処理部７と、を設ける。 - 特許庁

Subsequently, the thermal oxidation film located in the peripheral circuit region is removed, and second time thermal oxidation processing is performed thus forming an oxide film 9a becoming a thicker gate oxide film in the peripheral circuit region and an oxide film 9b becoming a thinner gate oxide film in the memory cell region.例文帳に追加

次に、周辺回路領域に位置する熱酸化膜が除去された後、２回目の熱酸化処理を施すことにより、周辺回路領域に膜厚のより厚いゲート酸化膜となる酸化膜９ａが形成され、メモリセル領域では膜厚のより薄いゲート酸化膜となる酸化膜９ｂが形成される。 - 特許庁

To provide a regenerative exhaust gas processing unit capable of collecting thermal energy from an exhaust gas more efficiently and collecting the thermal energy corresponding to the variation of the concentration or the contents of the exhaust gas if the concentration or the contents of the exhaust gas change.例文帳に追加

排ガスからより効率的に熱エネルギーを回収することができると共に、排ガスの濃度、成分が変化した場合であっても、この変動に対応しながら熱エネルギーを回収することができる蓄熱式排ガス処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a core tube for winding a thermal transfer ribbon which can attain information protection and improvement of the operability in recycling processing by preventing information from leaking from traces of printing left on the thermal transfer ribbon R after ending of printing to a printing paper L, and by facilitating the separation work between the core tube for winding 20 and the thermal transfer ribbon R.例文帳に追加

印字用紙Ｌへの印字終了後に熱転写リボンＲに残った印字の痕跡から情報が漏洩しないようにするとともに、巻取り用芯管２０と熱転写リボンＲとの分離作業を容易にして、情報保護、およびリサイクル処理における作業性の向上を図ることができる熱転写リボンの巻取り用芯管を提供すること。 - 特許庁

This manufacturing method further includes the steps of: forming a photo-thermal conversion film on the support substrate; sticking a semiconductor substrate to the support substrate so that the photo-thermal conversion film extends to the outside from the semiconductor substrate; performing contamination prevention processing for the photo-thermal conversion film; and separating the support substrate and the semiconductor substrate.例文帳に追加

支持基板上に光熱変換膜を形成する工程と、半導体基板より外側に光熱変換膜が延在するように半導体基板を前記支持基板に張付ける工程と、光熱変換膜に汚染防止処理を行う工程と、支持基板と半導体基板とを分離させる工程と、を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 特許庁