「THERMAL PROCESSING」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a cellulose derivative which has good thermal plasticity and strength and which is suitable for molding processing.例文帳に追加

良好な熱可塑性、強度を有し、成形加工に適したセルロース誘導体を提供すること。 - 特許庁

To automatically detect a thermal stress applied to a semiconductor device without using a color image processing.例文帳に追加

カラー画像処理を用いることなく、半導体装置に印加された熱ストレスの自動検出を行う。 - 特許庁

To provide a plasma processing device that can suppress occurrence of thermal breaking of a conductor.例文帳に追加

導電体の熱断線の発生を抑制することができるプラズマ処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a robot for transferring substrates in a processing system with the thermal influence set to a minimum level.例文帳に追加

処理システム内で基板を移送する為の、熱的影響を最小限にされたロボットを提供する。 - 特許庁

The folds are formed by gathering by the sticking of an elastic member or thermal contraction processing.例文帳に追加

ひだの形成は弾性部材の貼着によるギャザー化または熱収縮加工によって行う。 - 特許庁

The pseudo firewood 14 is formed by processing of sheet metal of heat-resisting metal to reduce thermal capacity of the pseudo firewood 14.例文帳に追加

擬似薪１４を耐熱金属の板金で成形し、擬似薪１４の熱容量を小さくする。 - 特許庁

The step of winding the coated conductor is performed after the thermal processing step 34.例文帳に追加

被覆された導体を巻くステップは、熱処理ステップ３４の後に実行される。 - 特許庁

The surface processing method displays effects not only in the solar power generation module, but also in a thermal power generation module.例文帳に追加

この方法は、太陽発電モジュールのみならず、熱発電モジュールに効果が見られる。 - 特許庁

THERMAL RELEASE ADHESIVE SHEET FOR ELECTRONIC PART, METHOD FOR PROCESSING ELECTRONIC PART AND ELECTRONIC PART例文帳に追加

電子部品用加熱剥離型粘着シートおよび電子部品の加工方法並びに電子部品 - 特許庁

To provide a thermal processing apparatus for generating a correction value of a target temperature in a simple way.例文帳に追加

目標温度の補正値を簡易に生成することができる熱処理装置を提供する。 - 特許庁

To achieve a low cost and adequate processing property by taking a linear expansion coefficient and thermal conductivity into consideration.例文帳に追加

線膨張係数や熱伝導率を考慮しつつ、低コスト化および良好な加工性を得る。 - 特許庁

METHOD FOR CONVERTING ORGANIC MATERIAL INTO FUEL, THERMAL CRACKING PROCESSING METHOD AND INSTALLATIONS THEREFOR例文帳に追加

有機性物質の燃料化方法及び熱分解加工方法並びにこれらの施設 - 特許庁

Interior of a thermal processing apparatus 101 is set to oxygen atmosphere and raised to predetermined temperature.例文帳に追加

熱処理装置１０１内の雰囲気を酸素雰囲気とし、所定程度まで温度を上昇させる。 - 特許庁

To provide an apparatus for manufacturing a semiconductor device capable of achieving high processing speed while preventing thermal damage.例文帳に追加

熱的なダメージを抑えながら、加工速度が大きい半導体デバイス製造装置を提供する。 - 特許庁

MINUTE FLOW RATE OF COOLANT MEASURING DEVICE IN THIN-WIRE COOLING PROCESS AFTER THERMAL PROCESSING例文帳に追加

熱処理後の細線冷却工程における冷却液の微流量測定装置 - 特許庁

To allow a thermal fixing device to easily perform a paper jamming processing operation.例文帳に追加

本発明の熱定着装置の課題は紙ジャム処理作業を容易に行えるようにすることにある。 - 特許庁

Thus, during a consecutive sequential processing of the substrate, a thermal circulation of the carrier is decreased.例文帳に追加

よって、基板の連続シーケンス処理中、キャリアの熱循環が低減される。 - 特許庁

By executing the above processing operations, the thermal analysis of an electronic can be performed by taking into consideration the characteristic of the fan.例文帳に追加

以上の処理を実行することによりファン特性を考慮した解析が可能になる。 - 特許庁

APPARATUS FOR MEASURING REFLECTED LIGHT INTENSITY RATIO, APPARATUS FOR MEASURING LIGHT ENERGY ABSORPTION RATIO AND THERMAL PROCESSING APPARATUS例文帳に追加

反射光強度比測定装置、光エネルギー吸収比率の測定装置および熱処理装置 - 特許庁

A management control section of the thermal processing apparatus is equipped with a CPU 50 and a storage means 51.例文帳に追加

熱加工装置の管理制御部には、ＣＰＵ５０と、記憶手段５１が設けられている。 - 特許庁

IMAGE DATA GENERATING DEVICE, IMAGE DATA GENERATION PROCESSING PROGRAM, THERMAL TRANSFER RECORDING DEVICE AND THE LIKE例文帳に追加

画像データ生成装置、画像データ生成処理プログラム、及び熱転写記録装置等 - 特許庁

The substrate 1 is subjected to thermal processing in an oxide atmosphere to form an additional oxide film 16.例文帳に追加

酸化雰囲気中で半導体基板１を熱処理し、追加酸化膜１６を形成する。 - 特許庁

To provide a thermal insulator for a semiconductor processing furnace which is of high purity and small in high temperature deformation.例文帳に追加

高純度で高温での変形が少ない半導体処理炉用断熱体を提供する。 - 特許庁

After a thermal oxidation film is formed in the peripheral circuit region RA and the memory cell region by first time thermal oxidation processing , the thermal oxidation film located in the memory cell region is removed.例文帳に追加

１回目の熱酸化処理により周辺回路領域ＲＡとメモリセル領域に熱酸化膜が形成された後、メモリセル領域に位置する熱酸化膜が除去される。 - 特許庁

In the cleaning processing, the cleaning part 34 is led out below a thermal head and brought into sliding contact with the thermal head thus cleaning the thermal head.例文帳に追加

クリーニング処理では、クリーニング部３４をサーマルヘッドの下方に引き出し、これをサーマルヘッドと摺接させることにより、サーマルヘッドのクリーニングを行う。 - 特許庁

A thermal relaxation state can be managed in a write command unit, processing of the thermal relaxation is simple, and the data can be prevented from missing by accurately detecting deterioration of the recorded data due to the thermal relaxation.例文帳に追加

ライトコマンド単位の熱緩和状態管理ができ、熱緩和処理が簡単で、且つ熱緩和による記録データの劣化を、精度良く検出して、データ消失防止することができる。 - 特許庁

To provide a thermal transfer printer whereby a time period of processing a member for urging a print head (a thermal head) can be reduced in the case where the thermal transfer printer has a mechanism for urging the print head by using a rotational member, and an image forming apparatus.例文帳に追加

回動部材を用いて印字ヘッド（サーマルヘッド）を押圧する機構を有する場合に、印字ヘッドを押圧するための部材の加工時間を減少させることが可能な熱転写プリンタおよび画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide thermal treatment equipment which can suppress a heat capacity inside a reactor low, and can enhance rise and fall response performance of a temperature inside the reactor in the thermal treatment equipment for performing a predetermined thermal treatment onto a processing substrate inside the reactor.例文帳に追加

反応炉内の被処理基板に所定の熱処理を施す熱処理装置において、反応炉内の熱容量を低く抑え、且つ、炉内温度の昇降応答性能を向上することのできる熱処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a tissue paper for an original paper for a thermal stencil printing plate used for a porous substrate of the original paper for the thermal stencil printing plate made by thermal perforation printing plate processing by a flash irradiation of a Xenon lamp or the like, an infrared rays irradiation from a laser oscillation element or a thermal head.例文帳に追加

キセノンランプ等の閃光照射、レーザー発振素子からの赤外線照射、またはサーマルヘッドによって加熱穿孔製版される感熱孔版原紙の多孔性支持体として用いられる感熱孔版原紙用薄葉紙を提供する。 - 特許庁

To provide a reversible thermal recording medium which has successful color developing sensitivity, rapid decoloring properties and excellent shelf stability of an image part, and an information display storage member, a reversible thermal recording label, and an image processing method using the reversible thermal recording medium, information display storage member and reversible thermal recording label.例文帳に追加

発色感度が良好で高速消色性に優れており、かつ画像部の保存安定性に優れた可逆性感熱記録媒体、情報表示記憶部材、可逆性感熱記録ラベル、およびそれらを用いる画像処理方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a thermal decomposition reaction furnace capable of effective thermal decomposition for waste in a thermal decomposition reaction apparatus in a waste processing apparatus by detecting the states of partial decomposition and thermal decomposition along a rotation axis of the furnace and supplying a required amount of air required for partial combustion to a necessary location.例文帳に追加

廃棄物処理装置における熱分解反応器において、炉の回転軸方向に沿った部分燃焼及び熱分解の状態を検知して、部分燃焼に必要な空気を必要な場所に必要量供給し、廃棄物を効率よく熱分解できる熱分解反応炉を提供する。 - 特許庁

To provide a vacuum processing apparatus capable of performing stable plasma-processing even for a large substrate by suppressing thermal deformation of a ridge electrode and the substrate.例文帳に追加

リッジ電極および基板の熱変形を抑制し、大型の基板にも安定したプラズマ処理が行える真空処理装置を提供する。 - 特許庁

A model analysis processing part 12 executes thermal simulation by using the analytic model set by the model setting processing part 11.例文帳に追加

モデル解析処理部１２は、モデル設定処理部１１で設定された解析モデルを用い、温熱シミュレーションを実行する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus capable of suppressing a rise of a substrate temperature and thermal budget, and heating and processing the substrate uniformly.例文帳に追加

基板温度の上昇を抑えサーマルバジェットを抑制しつつ、基板を均一に加熱処理することができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a photochemical processing device capable of stably carrying out photochemical processing by suppressing shift and deviation of outer electrodes accompanying thermal expansion and contraction.例文帳に追加

熱膨張・収縮に伴う外部電極の移動、ズレを抑え、安定して光化学処理を行うことが可能な光化学処理装置を提供する。 - 特許庁

The base board 10 is constituted of a resin substrate, containing thermosetting resin and the groove part 13, is formed by thermal processing or mechanical processing.例文帳に追加

なお、前記ベース基板１０は、熱硬化性樹脂を含有する樹脂基板から構成され、前記溝部１３は、熱的加工又は機械加工で形成される。 - 特許庁

To provide a technology for improving thermal uniformity of a substrate in a substrate processing apparatus and a substrate processing method for heating the substrate while conveying the substrate.例文帳に追加

基板を搬送しつつ加熱する基板処理装置および基板処理方法において、基板の熱均一性を向上させる技術を提供する。 - 特許庁

Then, processing time is determined from the calculated result (S507), thermal processing time is controlled (S508) and thus the desired film thickness is obtained.例文帳に追加

そして、その算出結果から処理時間を決定し（Ｓ５０７）、熱処理時間を制御することにより（Ｓ５０８）、所望の膜厚を得る。 - 特許庁

To enable processing with high accuracy at an inexpensive device cost in a method for correcting a processing error caused in a workpiece by thermal deformation of a machine tool.例文帳に追加

工作機械の熱変形によってワークに生ずる加工誤差を補正する方法に関し、低廉な装置コストで精度の高い加工を可能にする。 - 特許庁

To provide a printing processing apparatus with a high efficiency in which all the processes from printing to a thermal transfer processing such as pearl and metallic are integrated.例文帳に追加

印刷からパールやメタリック等の熱転写加工までのすべての工程を一体化させた効率性の高い印刷加工装置を提供する。 - 特許庁

This invention is particularly effective in operating the ash melting furnace for melting and processing a large quantity of ash having a high melting point such as ash processing in a dust coal thermal power plant.例文帳に追加

特に、微粉炭火力発電所における灰処理など、融点の高い灰を大量に溶融処理する灰溶融炉の運用に有効である。 - 特許庁

To provide an inexpensive thermal processing device free from irregularities in processing even in the case an in-machine temperature is changed due to an environmental temperature change, etc., and capable of facilitating the maintenance.例文帳に追加

環境温度変化等により機内温度が変化しても処理ムラの生じない、メンテナンスのし易い、コスト安の熱処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a processing machine installation in a compact construction and improved to prevent changes in the thermal deformation of the processing machine with the passage of time.例文帳に追加

コンパクトな構成で、加工機械本体の熱変形の時間的変化をなくす加工機械設備を提供する。 - 特許庁

The printing original plate 2 unnecessitating the thermal processing is inserted to the inside of the processing device 10 through the second port 81.例文帳に追加

加熱処理が不要な印刷原版２は、この第二挿入口８１から処理装置１０内に挿入される。 - 特許庁

To provide a laser processing method capable of rapid processing with the smallest thermal effect to a thermophobic part in a substrate.例文帳に追加

基板における嫌熱性部分への熱影響をできるだけ小さく、かつ高速で加工できるレーザ加工方法を提供する。 - 特許庁