「chamber-cleaning」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

DRAFT CHAMBER AND CLEANING DEVICE例文帳に追加

ドラフトチャンバ及び洗浄装置 - 特許庁

METHOD FOR CLEANING CHAMBER例文帳に追加

チャンバーのクリーニング方法 - 特許庁

CHAMBER FOR TONER CLEANING AND CLEANING METHOD例文帳に追加

トナー清掃用チャンバー、及び清掃方法 - 特許庁

SUBSTRATE CLEANING CHAMBER, AND CLEANING AND CONDITIONING METHODS例文帳に追加

基板洗浄チャンバ、洗浄及びコンディショニング方法 - 特許庁

A chamber has a cleaning chamber and a drying room located above the cleaning chamber.例文帳に追加

本発明によると、チャンバは洗浄室とその上部に位置する乾燥室を有する。 - 特許庁

The cleaning device 1 for applying cleaning processes to the wafer W in the order of SPM cleaning, rinse cleaning, SCI cleaning, rinse cleaning and drying treatment is provided with an outside cleaning chamber 2, an inside cleaning chamber 4 and an elevator structure 6 for taking in and out the inside cleaning chamber 4 into and from the outside cleaning chamber 2.例文帳に追加

ＳＰＭ洗浄，リンス洗浄，ＳＣ１洗浄，リンス洗浄，乾燥処理の順番でウェハＷに対して洗浄工程を施す洗浄装置１において，外洗浄室２と，内洗浄室４と，外洗浄室２内に内洗浄室４を出し入れする昇降機構６とを備えている。 - 特許庁

LOCAL CLEANING TRANSFER CHAMBER AND LOCAL CLEANING TREATMENT EQUIPMENT例文帳に追加

局所クリーン化搬送室および局所クリーン化処理装置 - 特許庁

METHOD OF CLEANING CVD CHAMBER AND CLEANING GAS USED THEREFOR例文帳に追加

ＣＶＤチャンバーのクリーニング方法およびそれに用いるクリーニングガス - 特許庁

To provide a substrate cleaning chamber, chamber components, and a substrate cleaning method.例文帳に追加

基板洗浄チャンバ、チャンバコンポーネント及び基板洗浄方法を提供する。 - 特許庁

DEVICE FOR FORMING ISOLATION CHAMBER AND METHOD FOR CLEANING AND FUMIGATING ISOLATION CHAMBER例文帳に追加

隔離室形成装置、及び、隔離室清浄燻蒸方法 - 特許庁

To enhance the cleaning performance when cleaning the inside of a cartridge filter and an exhaust chamber with a cleaning solution.例文帳に追加

カートリッジフィルタ及び排気室の内部を洗浄液で洗浄する際の洗浄性を高める。 - 特許庁

To provide a cleaning method capable of shortening a cleaning processing time and preventing residual materials from remaining in a processing chamber after cleaning.例文帳に追加

クリーニング処理時間を短く、クリーニング後の残留物が処理室に残らないようにする。 - 特許庁

HIZIKIA FUSIFORME PROCESSING EQUIPMENT AND METHOD FOR CLEANING STEAMING CHAMBER THEREOF例文帳に追加

ヒジキの加工装置及びその蒸煮室の清掃方法 - 特許庁

MULTIPLE TANK TYPE GAS CLEANING APPARATUS COMPRISING AIRTIGHT GAS CHAMBER例文帳に追加

気密性気体室を有する多槽式気体浄化装置 - 特許庁

APPARATUS FOR CLEANING A SEMICONDUCTOR PROCESS CHAMBER例文帳に追加

半導体処理チャンバを浄化する装置 - 特許庁

METHOD OF CLEANING UV IRRADIATION CHAMBER例文帳に追加

ＵＶ照射チャンバーをクリーニングする方法 - 特許庁

REMOTE PLASMA CLEANING METHOD FOR PROCESSING CHAMBER例文帳に追加

処理チャンバのための遠隔式プラズマクリーニング方法 - 特許庁

METHOD FOR CLEANING REACTION CHAMBER IN ELECTRONIC DEVICE MANUFACTURING SYSTEM例文帳に追加

電子デバイス製造装置の反応室クリーニング方法 - 特許庁

APPARATUS AND METHOD FOR CLEANING CVD CHAMBER例文帳に追加

ＣＶＤチャンバクリーニング装置及び方法 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR CLEANING WAFER STORAGE CHAMBER例文帳に追加

ウエハ保管庫の清浄方法及び装置 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR CLEANING REACTION CHAMBER例文帳に追加

反応室のクリーニング方法及び装置 - 特許庁

FLUORINE PROCESS FOR CLEANING SEMICONDUCTOR PROCESS CHAMBER例文帳に追加

半導体プロセスチャンバの洗浄方法 - 特許庁

CHAMBER CLEANING METHOD OF DRY ETCHING DEVICE例文帳に追加

ドライエッチング装置のチャンバークリーニング方法 - 特許庁

EQUIPMENT AND METHOD FOR SLURRY CLEANING ETCHING CHAMBER例文帳に追加

エッチ室をスラリー洗浄するための装置と方法 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR ENHANCED CHAMBER CLEANING例文帳に追加

改良されたチャンバ洗浄方法及び装置 - 特許庁

METHOD OF CLEANING SURFACE OF PROCESS CHAMBER例文帳に追加

プロセスチャンバー表面のクリーニング方法 - 特許庁

ROTARY SINGLE CHAMBER TYPE FILTER AND CLEANING METHOD THEREOF例文帳に追加

回転式単室型濾過機及びその洗浄方法 - 特許庁

METHOD OF CLEANING PLASMA PROCESS CHAMBER例文帳に追加

プラズマ処理室のクリーニング方法 - 特許庁

SUBSTRATE PROCESSING DEVICE AND CLEANING METHOD IN PROCESSING CHAMBER例文帳に追加

基板処理装置および処理室内洗浄方法 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR CLEANING INTERIOR OF TREATMENT CHAMBER例文帳に追加

処理装置内のクリーニング方法及び装置 - 特許庁

CLEANING APPARATUS FOR HEAT STORAGE CHAMBER OF COKE OVEN例文帳に追加

コ−クス炉の蓄熱室清掃装置 - 特許庁

METHOD OF CLEANING CHAMBER OF ETCHING APPARATUS例文帳に追加

エッチング装置のチャンバークリーニング方法 - 特許庁

IMPROVED CHAMBER CLEANING METHOD AND APPARATUS例文帳に追加

改良されたチャンバ洗浄方法及び装置 - 特許庁

CHAMBER CLEANING METHOD IN PLASMA ETCHING例文帳に追加

プラズマエッチングにおけるチャンバークリーニング方法 - 特許庁

HIGH FREQUENCY PLASMA DEVICE FOR CLEANING CVD REACTION CHAMBER例文帳に追加

ＣＶＤ反応室を洗浄する高周波プラズマ装置 - 特許庁

CLEANING METHOD OF TREATMENT CHAMBER IN CVD DEVICE例文帳に追加

ＣＶＤ装置処理室のクリーニング方法 - 特許庁

DEVICE AND METHOD FOR DRY-CLEANING OF TREATING CHAMBER例文帳に追加

処理室をドライクリーニングするための装置及び方法 - 特許庁

CLEANING DEVICE OF CVD REACTION CHAMBER例文帳に追加

ＣＶＤ反応室のクリーニング装置 - 特許庁

EQUIPMENT AND METHOD FOR CLEANING INNER CHAMBER OF COOKING APPLIANCE例文帳に追加

加熱調理装置内室を洗浄するための装置と方法 - 特許庁

METHOD OF CLEANING CVD CHAMBER例文帳に追加

ＣＶＤチャンバのクリーニング方法 - 特許庁

A cleaning chamber 31 is installed within a cleaning apparatus body 30 and a substrate W is included within the cleaning chamber 31 through an aperture 35.例文帳に追加

洗浄装置本体３０内には洗浄室３１が設けられ、基板Ｗは、開口部３５を介して洗浄室３１内に包含される。 - 特許庁

After the treated substrate is carried out of the treatment chamber, a cleaning gas (ClF_3) is introduced into the treatment chamber for cleaning the inside of the treatment chamber.例文帳に追加

処理基板を処理室内から搬出後、処理室内にクリーニングガス（ＣｌＦ_3）を導入して処理室内をクリーニングする。 - 特許庁

To enhance cleaning effects, to shorten cleaning time, and to save cleaning liquid during cleaning in the ink chamber of a flexographic printing press.例文帳に追加

フレキソ印刷機のインキチャンバ内の洗浄時に、洗浄効果を向上させ、洗浄時間を短縮し、かつ洗浄液の消費を節減する。 - 特許庁

To provide a chamber cleaning method whose cleaning procedure is simple and which has high cleaning effect and achieves cleaning in safety.例文帳に追加

洗浄手順が簡単である上に洗浄効果も高く安全に洗浄することができるチャンバ洗浄方法を提供する。 - 特許庁

This chamber cleaning method comprises the steps of supplying the cleaning gas, which contains fluorine to a chamber (1) and cleaning the chamber (1) by generating a inductively-coupled plasma to the chamber (1) under the condition where the cleaning gas is introduced into the chamber (1).例文帳に追加

本発明によるチャンバークリーニング方法は、フッ素を含むクリーニングガスをチャンバー（１）に供給することと、そのクリーニングガスがチャンバー（１）に導入された状態で、誘導結合プラズマをチャンバー（１）に発生し、チャンバー（１）をクリーニングすることとを備えている。 - 特許庁