「correlational method」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

This estimation method for the coating film irregularity is constituted so as to perform processings for the determination of a color (S40), the acquisition of compounding data (S41), the acquisition for the bright feeling substituting numerical value and the hue value (S42), and the substitution for a correlational expression and the calculation of an irregularity value (S43).例文帳に追加

本発明は、色決定（Ｓ４０）、配合データの取得（Ｓ４１）、光輝感代用数値及び色彩値の入手（Ｓ４２）、相関式への代入とムラ値の算出（Ｓ４３）の処理を有する。 - 特許庁

The optimization method of the lithography processing includes a step of deriving hyper-sample correlational information which represents photoresist behavior of a plurality of wafer substrates processed according to predesignated target processing conditions.例文帳に追加

リソグラフィ処理の最適化方法には、予め指定されている目標処理条件で処理された複数のウェハ基板のフォトレジスト挙動を表すハイパーサンプル相関情報を誘導する段階が含む。 - 特許庁

To provide a method for automatically measuring the number of enclosures by excluding the effects of a shrinkage cavity in a conventional method to ensure high correlational properties, with respect to a measuring value by a skilled person, and to provide a casting sample collecting casting mold used therein.例文帳に追加

従来法における引け巣の影響を排除し熟練者による測定値と高い相関性を確保して介在物数を自動計測する方法およびそれに用いる鋳物試料採取用鋳型を提供する。 - 特許庁

To provide a BMD density evaluation method of a silicon wafer, in which BMD density is calculated, based on a correlational relationship between a recombination center density, other than Fe and the BMD density, thereby accurately evaluating the BMD density using a simple method.例文帳に追加

Ｆｅ以外の再結合中心密度とＢＭＤ密度との相関関係に基づきＢＭＤ密度を算出することにより、簡便な方法で正確にＢＭＤ密度を評価できるシリコンウェーハのＢＭＤ密度評価方法を提供する。 - 特許庁

According to the method, it is possible to detect the nonuniformity of a micro-exposed subsequent substrate processed next according to the processing conditions of a production level, and adjust the production level by utilizing the correlational information, thereby achieving the uniformity of the substrate as a whole.例文帳に追加

この方法によれば、次に、生産レベルの処理条件で処理されたミクロ露光済み後続基板の非均一性が検出され、且つ、相関情報を利用して生産レベルの条件が調整され、それにより基板全体の均一性が達成される。 - 特許庁