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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > diffused base transistorに関連した英語例文

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diffused base transistorの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 6



例文

Then, an N+ diffused layer 17a and a P well 12 are formed on the substrate surface, as a collector and a base, respectively, of the bipolar transistor.例文帳に追加

そして、基板表面に形成されたN^+拡散層17aがコレクタ、Pウエル12がベースとなるバイポーラトランジスタが構成される。 - 特許庁

A lateral PNP transistor is formed in such a manner that an emitter diffused layer 14 having a p-type impurity and a collector diffused layer 13 having a p-type impurity are arranged via an n^--type epitaxial layer 12 of a base region in a planar inward direction of a semiconductor substrate (p^--type substrate 10).例文帳に追加

p型不純物を有するエミッタ拡散層14と、p型不純物を有するコレクタ拡散層13とが半導体基板(p^−型基板10)の面内方向にベース領域であるn^−型エピタキシャル層12を介して配設されてなる横型PNPトランジスタを形成する。 - 特許庁

As a structure applicable to a MOSFET (field effect transistor) provided with a gate electrode G (MOS gate) of a trench electrode structure, a p-type diffused layer SP having a higher concentration than a p-type base area BS is formed around the surface of a substrate in a p-type base area BS.例文帳に追加

トレンチ電極構造のゲート電極G(MOSゲート)を備えるMOSFET(電界効果トランジスタ)に適用される構造として、p型のベース領域BSの基板表面付近に、該ベース領域BSよりも濃度の高いp型の拡散層SPを設けるようにする。 - 特許庁

At the time of forming the contact hole of an MOS transistor, a nitrided film is used as the stop film of etching so that the over-etching of an Si base can be prevented, and ion injection is carried out by using the contact hole as a mask so that a high concentration diffused area constituting a source/drain area can be formed.例文帳に追加

MOS型トランジスタのコンタクトホールを形成する際、チッ化膜をエッチングのストップ膜として使用しSi基盤のオーバーエッチをなくし、そのコンタクトホールをマスクとしイオン注入を行い、ソース・ドレイン領域を構成する高濃度拡散領域を形成すことを特徴とする。 - 特許庁

例文

In a horizontal bipolar transistor, containing thermally diffused impurities provided on the upper part of a base region, contains a semiconductor layer, and has a collector diffusion layer and an emitter diffusion layer juxtaposed, and a semiconductor device that has such a transistor, the semiconductor layer is laid down to further implant impurities, and then, subjected to heat treatment, to make a collector diffusion layer and an emitter diffusion layer.例文帳に追加

ベース領域の上部に設けた不純物を含有する半導体層の前記不純物を熱拡散させてコレクタ拡散層とエミッタ拡散層とを並設してなる横型バイポーラトランジスタ、およびそれを有する半導体装置において、半導体層を横断させて不純物をさらにイオン注入した後に熱処理することによってコレクタ拡散層とエミッタ拡散層とを設ける。 - 特許庁


例文

The method for manufacturing the optical semiconductor integrated circuit device comprises the steps of forming a p^+-type exudated region of an emitter region in a vertical pnp transistor 21 by exudating an impurity from an emitter retrieving electrode 41, and forming an n^+-type diffused region 39 of a base leading region by ion implanting.例文帳に追加

本発明における光半導体集積回路装置の製造方法では、縦型PNPトランジスタ21において、エミッタ領域であるP+型の浸み出し領域はエミッタ取り出し電極41からの不純物の浸み出しにより形成し、ベース導出領域であるN+の拡散領域39はイオン注入により形成する。 - 特許庁




  
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