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e23を含む例文一覧と使い方
該当件数 : 10件
On the complete graph, edges e12, e13, e23 and e45 have high influence and the other edges e14, e15, e24, e25, e34 and e35 have lower influence than the edges e12, e13, e23 and e45.例文帳に追加
完全グラフでは、エッジｅ12、ｅ13、ｅ23、ｅ45の影響度が高く、残余のエッジｅ14、ｅ15、ｅ24、ｅ25、ｅ34、ｅ35の影響度は、エッジｅ12、ｅ13、ｅ23、ｅ45の影響度に比べて低い値とされている。 - 特許庁
The control means 8 puts the second subpixels E11, E13, E21, E23, E31, E33, etc. into a non-light emission state, when the dimming rate has a prescribed value or more.例文帳に追加
制御手段８は、減光率が所定値以上のとき、第二のサブピクセルＥ１１，Ｅ１３，Ｅ２１，Ｅ２３，Ｅ３１，Ｅ３３・・・を非発光状態にする。 - 特許庁
A main distance S0 between the target edge and a main edge E23 in the edges which is nearest to but apart from the target edge E01 is calculated.例文帳に追加
エッジの中で着目エッジから最も近いが離れているメインエッジＥ２３と着目エッジの間のメイン距離Ｓ０を計算する。 - 特許庁
The pixel P is comprised of a piece of first subpixels E12, E22, E32, etc. and two pieces of second subpixels E11, E13, E21, E23, E31, E33, etc. arranged at both adjacent sides of the first subpixels E12, E22, E32, etc.例文帳に追加
画素Ｐは、１個の第一のサブピクセルＥ１２，Ｅ２２，Ｅ３２・・・と、第一のサブピクセルＥ１２，Ｅ２２，Ｅ３２・・・の両隣に配置された２個の第二のサブピクセルＥ１１，Ｅ１３，Ｅ２１，Ｅ２３，Ｅ３１，Ｅ３３・・・とからなる。 - 特許庁
An information processing apparatus brings a scheduled starting time of a correction object event E12 close to a scheduled starting time of a target event E23 determined from among plural events E22-E25 and E31-E35.例文帳に追加
情報処理装置は、補正対象イベントＥ１２の予定開始時刻を、複数のイベントＥ２２〜Ｅ２５，Ｅ３１〜Ｅ３５の中から決定した目標イベントＥ２３の予定開始時刻に近づける。 - 特許庁
A comparator 123 compares an output voltage from a constant voltage source E23 with the voltage MULT.例文帳に追加
タイマコントロール回路１２１はコンパレータ１２２〜１２３の比較結果に基づいて、ドライバ１１１にゲート停止信号およびオフ時間設定解除信号を出力しＭＯＳ−ＦＥＴＱ1を駆動する。 - 特許庁
This air conditioning system uses an outdoor unit in which a plurality of compressors C1-C3, a plurality of fans D1-D3, and a plurality of heat exchanging sections comprising the heat exchangers E1-E3, expansion valves e21-e23 and thermistors e11-e13 are loaded.例文帳に追加
空気調和システムは複数の圧縮機Ｃ１〜Ｃ３，複数のファンＤ１〜Ｄ３及び熱交換器Ｅ１〜Ｅ３と膨張弁ｅ２１〜ｅ２３とサーミスタｅ１１〜ｅ１３を備えた複数の熱交換部とを搭載した室外ユニットを用いている。 - 特許庁
A gap part E23 closed by the forming surface of the magnetic resistance pattern 153 is formed to the part, which is the surface A of the mold E2 with which the surface having the magnetic resistance pattern 153 formed thereto of the magnetic sensor element 15 comes into close contact and to which the magnetic sensor element 15 is opposed.例文帳に追加
磁気センサ素子１５の磁気抵抗パターン１５３形成面を密着する金型Ｅ２の面Ａであって磁気抵抗パターン１５３が対向する部分に磁気抵抗パターン１５３形成面によって塞がれる空隙部Ｅ２３を形成する。 - 特許庁
Thus, the information processing apparatus bundles an execution time of a device during which execution is performed in association with processing of the correction object event E12 and an execution time of the device during which execution is performed in association with processing of the target event E23 to reduce the total execution time of the device, thereby reducing power consumption of the device.例文帳に追加
これにより、情報処理装置は、補正対象イベントＥ１２の処理に伴って実行されるデバイスの実行時間と目標イベントＥ２３の処理に伴って実行されるデバイスの実行時間とを纏めて、デバイスの総実行時間を減少させてデバイスの消費電力を削減する。 - 特許庁
The platform unit 110A includes both current applying electrodes E21, E22 for feet and voltage measuring electrodes E23, E24 for feet which are brought into contact with soles of subject's feet, and the attachment unit 150A includes both a current applying electrode E11 for a neck and a voltage measuring electrode E12 for a neck which are brought into contact with the neck of the subject.例文帳に追加
載置ユニット１１０Ａは、被験者の足裏に接触させることが可能な足部用電流印加電極Ｅ２１，Ｅ２２および足部用電圧計測電極Ｅ２３，Ｅ２４を含み、装着ユニット１５０Ａは、被験者の頸部に接触させることが可能な頸部用電流印加電極Ｅ１１および頸部用電圧計測電極Ｅ１２を含む。 - 特許庁
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