| 例文 |
electrostatic potentialsの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 8件
A second electrostatic lens,system is provided with a post-mask electrode(NE) at one side of a mask holding device (MH), and different electrostatic potentials are impressed to the post mask electrode (NE) and the mask (MF).例文帳に追加
第二静電レンズ系は、マスク保持装置（ＭＨ）の一側にポストマスク電極（ＮＥ）を備え、異なる静電電位がポストマスク電極（ＮＥ）とマスク（ＭＦ）に印加される。 - 特許庁
The electrostatic charge potentials in a pattern to be observed and the periphery of an observation range are stabilized by pre-charging with stepwise changing the irradiation range of an electron beam.例文帳に追加
電子線の照射範囲を段階的に変更してプリチャージを行うことによって、観察するパターンと観察範囲周辺の帯電電位を安定させる。 - 特許庁
As a result, the pattern is interpolated with the electrostatic potential of the deflection electrodes constant, that is, to be linear between reference potentials at reference points (Pij) of respective subfields.例文帳に追加
従って、偏向電極の静電電位が一定、すなわち、それぞれのサブフィールドの基準点（Ｐｉｊ）における基準電位間で直線的に補間される。 - 特許庁
The electrical zone device comprises a composite electrode 110 being composed of a plurality of substantially planar partial electrodes adapted to have different electrostatic potentials applied thereto and thus influence the beamlets.例文帳に追加
前記電気ゾーン装置は、異なる静電電位を印加されかつしたがってビームレットに影響を及ぼすように適応された複数の略平面状部分電極から構成される、複合電極（１１０）を含む。 - 特許庁
When an image forming means forms a gradation pattern chart 100, respective gradation patterns 101/101 are formed so as to avoid emphasis of an electric field due to difference in electric potentials in boundary parts in electrostatic latent images of respective gradation patterns 101/101 being adjacent in the sub-scanning direction of an image forming part.例文帳に追加
画像形成手段が読取用階調パターンチャート１００を形成する場合に、画像形成部の副走査方向に隣接する各階調パターン１０１・１０１の静電潜像における境界部位での電位差の違いによる電界の強調を回避するように、各階調パターン１０１を形成する。 - 特許庁
The device comprises at least one deflection means having a plurality of apertures surrounding beamlets, each aperture being equipped with at least two deflection electrodes which can apply different electrostatic potentials, so that the beamlet paths passing through respective apertures based on desired paths passing through the device (102) are corrected.例文帳に追加
デバイスがビームレットを取り巻く複数の開口部を有する少なくとも一つの偏向手段からなり、各開口部が異なる静電電位を印加可能である少なくとも二つの偏向電極を備え、デバイス（１０２）を通る所望のパスに基づくそれぞれの開口部を通過するビームレットのパスが修正される。 - 特許庁
Further, the plasma light source comprises: a virtual electrode formation device 40 which forms virtual electrodes 41 having lower potentials than that of center electrodes 12 at an isolated position apart from a light emission position of plasma light when residual plasma 3a is discharged after the plasma light emission, so that the residual plasma is accelerated with electrostatic force of the virtual electrodes 41 to be discharged at a high speed.例文帳に追加
さらに、プラズマ光発光後の残留プラズマ３ａの排出時に、プラズマ光の発光位置から離れた離隔位置に、中心電極１２より電位の低い仮想電極４１を形成する仮想電極形成装置４０を備え、残留プラズマを仮想電極４１による静電気力により加速させて高速排気する。 - 特許庁
In a method for evaluating an electrophotographic photoreceptor, residual potentials in different exposing-developing times T1 and T2 are measured using an image forming process having a developing means to develop a latent electrostatic image formed on the photoreceptor, and whether the expression (1):|V1-V2|/(T1-T2)≤1.5 (V/ms) is satisfied or not is determined.例文帳に追加
感光体上に形成された静電潜像を現像する現像手段を有する画像形成プロセスを用いて、Ｔ１およびＴ２の異なる２種類の露光−現像時間における残留電位を測定し、｜Ｖ１−Ｖ２｜/（Ｔ１−Ｔ２）≦１.５（Ｖ/ｍｓ）・・・（１）を満足するか否かを評価する電子写真感光体の評価方法により上記の課題を解決する。 - 特許庁
| 例文 |
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
検索履歴を保存できる！
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
