「hexamethyldisiloxane」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

Disclosed is a method for forming an SiO_x film where argon plasma generated by an end hole type ion source and a part of electrons used for generating the plasma are acted on a hexamethyldisiloxane or a mixed gas of hexamethyldisiloxane and oxygen, and, simultaneously, low energy argon ions generated from the ion source are emitted to the surface of a substrate.例文帳に追加

エンドホール型イオン源で発生したアルゴンプラズマと、このプラズマを発生させるに用いる電子の一部をヘキサメチルジシロキサンガス又はヘキサメチルシロキサンと酸素の混合ガスに作用させると同時に、イオン源から発生された低エネルギーアルゴンイオンを基板上に照射することを特徴とするＳｉＯ_ｘ膜を形成する方法。 - 特許庁

An azeotrope solvent composition comprises 94 mass% of (2,2,2-trifluoroethoxy)-1,1,2,2-tetrafluoroethane and 6 mass% of hexamethyldisiloxane.例文帳に追加

（２，２，２−トリフルオロエトキシ）−１，１，２，２−テトラフルオロエタン ９４質量％と、ヘキサメチルジシロキサン ６質量％とからなる共沸溶剤組成物。 - 特許庁

As the siloxane compound, trimethoxysilane having high solubility to a nonpolar solvent, and hexamethyldisiloxane and octamethylcyclotetrasiloxane dissolving even into a polar solvent are preferably adopted.例文帳に追加

シロキサン化合物としては、無極性溶媒への溶解度の高いトリメトキシシランや、極性溶媒にも溶解するヘキサメチルジシロキサンやオクタメチルシクロテトラシロキサンを採用すればよい。 - 特許庁

A mixed solvent composition comprises 70-96 mass% of (2,2,2-trifluoroethoxy)-1,1,2,2-tetrafluroethane and 4-30 mass% of hexamethyldisiloxane.例文帳に追加

（２，２，２−トリフルオロエトキシ）−１，１，２，２−テトラフルオロエタン ７０〜９６質量％と、ヘキサメチルジシロキサン ４〜３０質量％とを含有する混合溶剤組成物。 - 特許庁

Also disclosed is a SiO_x film forming device at least comprising: an exhaust mechanism; an argon gas introduction mechanism; preferably, a hexamethyldisiloxane gas introduction mechanism; an end hole type ion source; and a substrate holder.例文帳に追加

装置としては、少なくとも排気機構と、アルゴンガス導入機構と、ヘキサメチルジシロキサンガス導入機構と、好ましくは酸素ガス導入機構と、エンドホール型イオン源と、基板のホルダーを具備する装置 - 特許庁