patternを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 50000件
FORMING METHOD OF RESIST PATTERN AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
レジストパターンの形成方法及び半導体装置の製造方法 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN FORMING BODY AND PHOTOMASK USED FOR THE SAME例文帳に追加
パターン形成体の製造方法およびそれに用いるフォトマスク - 特許庁
RESIST PATTERN FORMING METHOD AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
レジストパターン形成方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁
MANUFACTURING METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE AND RETICLE PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
半導体装置の製造方法およびレチクルパターン作成方法 - 特許庁
To improve memory access performance not based on an access pattern.例文帳に追加
アクセスパターンによらず、メモリアクセス性能を向上できるようにする。 - 特許庁
Letterpress printing plate 12 includes protrusion pattern area 201.例文帳に追加
印刷用凸版12は凸部パターン領域201を有している。 - 特許庁
To provide a method for forming a high resolution organic thin film pattern.例文帳に追加
高解像度有機薄膜パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁
The pattern is configured of a plurality of bars divided with parallel intervals.例文帳に追加
パターンは、平行な間隔で、区切られる複数のバーからなる。 - 特許庁
To provide an opportunity for easily changing a message passing pattern.例文帳に追加
メッセージの通知パターンを容易に変える機会を提供すること。 - 特許庁
RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
レジスト組成物及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁
RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
レジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁
PROGRAM AND METHOD FOR DETERMINING EXPOSURE CONDITION AND MASK PATTERN例文帳に追加
露光条件及びマスクパターンを決定するプログラム及び方法 - 特許庁
The upper surface of the base layer sheet is provided with a design pattern.例文帳に追加
基層シートの上面には、意匠模様が設けられている。 - 特許庁
A grain pattern is printed on one side of a base material film 11.例文帳に追加
基材フィルム11の一方の面に、木目柄を印刷する。 - 特許庁
A conductor pattern 10b is formed on an insulating layer 10a.例文帳に追加
絶縁層10a上に導体パターン10bを形成する。 - 特許庁
PHOTORESIST COMPOSITION FOR DRY EXPOSURE AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加
ドライ露光用フォトレジスト組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁
HARD MACRO TEST CIRCUIT, TESTING METHOD THEREFOR, AND METHOD OF GENERATING TEST PATTERN例文帳に追加
ハードマクロテスト回路、そのテスト方法およびテストパタン生成方法 - 特許庁
At first, a centroid position of the divided pattern is obtained in step S701.例文帳に追加
まず、ステップS701で、分割されたパターンの重心位置を求める。 - 特許庁
RESIST UNDERLAYER FILM MATERIAL AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
レジスト下層膜材料及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
RESIST UNDERLAYER FILM MATERIAL AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
レジスト下層膜材料およびこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
FEATURE SELECTION METHOD AND DEVICE, AND PATTERN IDENTIFICATION METHOD AND DEVICE例文帳に追加
特徴選択方法及び装置、パターン識別方法及び装置 - 特許庁
To make a digital computing element efficiently perform pattern matching operation.例文帳に追加
デジタル演算器に効率よくパターンマッチングの演算を行なわせる。 - 特許庁
POSITIVE RESIST MATERIAL AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
ポジ型レジスト材料並びにこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
RINSE LIQUID FOR LITHOGRAPHY, AND PATTERN FORMATION METHOD UTILIZING THE SAME例文帳に追加
リソグラフィー用リンス液およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
The light source (2) forms the shape of the pattern support.例文帳に追加
そして、前記光源(2)がパターン支持体の形状をなしている。 - 特許庁
To enable uniform pattern transfer with a high throughput.例文帳に追加
均一なパターン転写を高いスループットで行うことを可能にする。 - 特許庁
RESIST COVER FILM-FORMING MATERIAL AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
レジスト被覆膜形成用材料およびレジストパターン形成方法 - 特許庁
INSPECTION DEVICE, INSPECTION METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF PATTERN SUBSTRATE例文帳に追加
検査装置及び検査方法、並びにパターン基板の製造方法 - 特許庁
MASK PATTERN CORRECTION METHOD, MASK FOR EXPOSURE, AND MASK FORMING METHOD例文帳に追加
マスクパターン補正方法、露光用マスクおよびマスク製造方法 - 特許庁
MANUFACTURE OF RECYCLED FLAT SHEET WITH THREE- DIMENSIONAL PATTERN例文帳に追加
三次元パターンを有するリサイクルされたフラットシートの製造方法 - 特許庁
To form a high grade pattern without increasing a cost.例文帳に追加
コストアップを招くことなく良質なパターンを形成可能とする。 - 特許庁
To easily change the layout of a pattern variable display device.例文帳に追加
図柄可変表示装置の配置位置を容易に変更できる。 - 特許庁
METHOD OF CONTROLLING PRODUCTION OF LEATHER RELATED PRODUCT AND PATTERN PROCESSOR例文帳に追加
皮革関連製品の製造管理方法および柄加工装置 - 特許庁
WIRING PATTERN AND IDENTIFICATION OF FAULTY CONTACT THEREIN例文帳に追加
配線パターン及びそのパターンにおける不良コンタクトの特定方法 - 特許庁
The mold 1 where a pattern has been provided is pressed against the resist layer.例文帳に追加
レジスト層に、パターンの形成されたモールド1を押しつける。 - 特許庁
METHOD AND DEVICE OF PATTERN INSPECTION AND TREATMENT METHOD OF SUBSTRATE例文帳に追加
パターン検査方法及びその装置並びに基板の処理方法 - 特許庁
RESIST COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION EXPOSURE, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加
液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE FILM, PERMANENT PATTERN AND METHOD FOR FORMING THE SAME例文帳に追加
感光性フイルム、並びに、永久パターン及びその形成方法 - 特許庁
The adhesive layer is preferred to be formed by pattern coating.例文帳に追加
粘着剤層はパターン塗工して形成することが好ましい。 - 特許庁
DATA PROCESSOR AND METHOD OF SUPPLEMENTING CYCLIC UNEVENNES CORRECTION PATTERN例文帳に追加
データ処理装置及び周期的ムラ補正パターンの補完方法 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING INTERMEDIATE STAMPER AND METHOD FOR FORMING UNEVEN PATTERN例文帳に追加
中間スタンパの製造方法及び凹凸パターンの形成方法 - 特許庁
METHOD OF FORMING THICK RESIST FILM AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加
厚膜レジスト膜の形成方法およびレジストパターン形成方法 - 特許庁
COMPOUND, POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加
化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING SAME例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
INTAGLIO PRINTED MATTER WITH VARIABLE PATTERN AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
可変パターンを有する凹版印刷物およびその製造方法 - 特許庁
ALIGNMENT METHOD, EXPOSURE METHOD, PATTERN FORMING METHOD AND EXPOSURE DEVICE例文帳に追加
アライメント方法、露光方法、パターン形成方法および露光装置 - 特許庁
MASK PATTERN CORRECTION METHOD, EXPOSURE MASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING MASK例文帳に追加
マスクパターン補正方法、露光用マスクおよびマスク製造方法 - 特許庁
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