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phase shift methodの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 553件
PHASE SHIFT MASK, METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING PHASE SHIFT MASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE例文帳に追加
位相シフトマスク、位相シフトマスクを用いたパターンの形成方法および電子デバイスの製造方法 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK BLANK例文帳に追加
ハーフトーン型位相シフトマスクブランクの製造方法 - 特許庁
APPARATUS AND METHOD FOR MEASURING AMOUNT OF PHASE SHIFT AND METHOD OF MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK例文帳に追加
位相ずれ量測定装置及び位相ずれ量測定方法並びに位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁
METHOD FOR FORMING PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK例文帳に追加
パターン形成方法及び位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁
HALFTONE PHASE SHIFT MASK BLANK, HALFTONE PHASE SHIFT MASK, METHOD FOR MANUFACTURING HALFTONE PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR TRANSFERRING PATTERN例文帳に追加
ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク、ハーフトーン型位相シフトマスク、及びハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法、並びにパターン転写方法 - 特許庁
SPUTTERING TARGET, PHASE SHIFT MASK BLANK USING THIS SPUTTERING TARGET, AND METHOD OF MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK例文帳に追加
スパッタターゲット、該スパッタターゲットを用いた位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁
SPUTTERING TARGET, PHASE SHIFT MASK BLANK USING THE SPUTTERING TARGET AND METHOD OF MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK例文帳に追加
スパッタターゲット、該スパッタターゲットを用いた位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁
HALFTONE PHASE SHIFT MASK BLANK, ITS MANUFACTURING METHOD AND HALFTONE PHASE SHIFT MASK例文帳に追加
ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランクス及びその製造方法並びにハーフトーン型位相シフトマスク - 特許庁
PHASE SHIFT MASK USING CrAlON AS PHASE SHIFT MATERIAL AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
CrAlONを位相シフト物質として使用した位相シフトマスクおよびその製造方法 - 特許庁
PHASE SHIFT CONTROLLER, PHASE SHIFT METHOD, AND LIGHT-EMITTING DEVICE AND ELECTRONIC EQUIPMENT USING THOSE例文帳に追加
位相シフトコントローラ、位相シフトの方法、およびそれらを用いた発光装置、電子機器 - 特許庁
PHASE SHIFT MASK HAVING THREE DIFFERENT PHASE SHIFT REGION AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
3つの異なる位相シフト領域を有する位相シフトマスクおよびその製造方法 - 特許庁
PHASE SHIFT PHOTOMASK BLANK, PHASE SHIFT PHOTOMASK, AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
位相シフトフォトマスクブランクス及び位相シフトフォトマスク並びに半導体装置の製造方法 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT RETICLE AND METHOD FOR CORRECTING DEFECT IN PHASE SHIFTER例文帳に追加
位相シフトレチクルの製造方法および位相シフター欠陥修正方法 - 特許庁
PUSH-PUSH OSCILLATOR AND PHASE SHIFT MONITORING METHOD例文帳に追加
プッシュプッシュ発振器及び位相ずれ監視方法 - 特許庁
HALFTONE PHASE SHIFT MASK AND ITS INSPECTION METHOD例文帳に追加
ハーフトーン型位相シフトマスク及びその検査方法 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK, AND SEMICONDUCTOR APPARATUS例文帳に追加
位相シフトマスクの製造方法と半導体装置 - 特許庁
LEVENSON TYPE PHASE SHIFT MASK AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
レベンソン型位相シフトマスク及びその製造方法 - 特許庁
SHAPE MEASUREMENT METHOD AND MEASUREMENT DEVICE BY PHASE SHIFT METHOD例文帳に追加
位相シフト法による形状測定方法及び測定装置 - 特許庁
PHASE SHIFT MASK, ITS MANUFACTURING METHOD AND EXPOSURE METHOD THEREOF例文帳に追加
位相シフトマスク及びその製造方法並びに露光方法 - 特許庁
METHOD AND APPARATUS FOR PHASE-SHIFT NULL-BURST-PATTERN例文帳に追加
位相シフトヌルバーストパターンのための方法及び装置 - 特許庁
METHOD FOR FORMING PHASE SHIFT MASK IN PHOTOLITHOGRAPHIC PROCESS例文帳に追加
ホトリソグラフィー工程の位相シフトマスクの形成方法 - 特許庁
HALFTONE PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
ハーフトーン型位相シフトマスク及びその製造方法 - 特許庁
CHROMELESS PHASE SHIFT MASK AND METHOD OF FABRICATING THE SAME例文帳に追加
クロムレス位相反転マスク及びその製造方法 - 特許庁
LEVENSON TYPE PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME例文帳に追加
レベンソン型位相シフトマスク及びその製造方法 - 特許庁
THREE-DIMENSIONAL SHAPE MEASURING DEVICE BY PHASE SHIFT METHOD例文帳に追加
位相シフト法による三次元形状測定装置 - 特許庁
PHASE SHIFT ADJUSTING METHOD FOR POLARIZING BEAM SPLITTER FILM例文帳に追加
偏光ビームスプリッター膜の位相シフト調整方法 - 特許庁
PHASE CALIBRATION METHOD FOR ATTENUATING PHASE-SHIFT MASK, TEST STRUCTURE AND SYSTEM例文帳に追加
減衰位相シフト・マスクの位相較正の方法、試験構造、およびシステム - 特許庁
HALFTONE PHASE SHIFT MASK BLANK, HALFTONE PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR TRANSFERRING PATTERN例文帳に追加
ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランクス及びハーフトーン型位相シフトマスク並びにパターン転写方法。 - 特許庁
BLANK FOR HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK, HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK AND PRODUCTION METHOD THEREFOR例文帳に追加
ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク及びハーフトーン型位相シフトマスク並びにその製造方法 - 特許庁
PHASE-CONTINUOUS OPTICAL FREQUENCY SHIFT MODULATOR, AND PHASE-CONTINUOUS OPTICAL FREQUENCY SHIFT MODULATION METHOD例文帳に追加
位相連続光周波数偏移変調器、位相連続光周波数偏移変調方法 - 特許庁
SPUTTERING TARGET, PHASE SHIFT MASK BLANK OBTAINED BY USING THE SAME SPUTTERING TARGET AND METHOD OF PRODUCING PHASE SHIFT MASK例文帳に追加
スパッタターゲット、該スパッタターゲットを用いた位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁
PHASE SHIFT MASK BLANK, PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR PRODUCING THESE例文帳に追加
位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスク並びに位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁
METHOD FOR DETERMINING DEFECT SPECIFICATION IN PHASE SHIFT MASK例文帳に追加
位相シフトマスクにおける欠陥仕様の決定方法 - 特許庁
HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加
ハーフトーン型位相シフトマスク及びその製造方法 - 特許庁
COMMUNICATING METHOD BY PHASE SHIFT CONTROL, AND ITS APPARATUS例文帳に追加
移相制御による通信方法及びその装置 - 特許庁
HALFTONE PHASE SHIFT MASK BLANK AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SANE例文帳に追加
ハーフトーン位相シフトマスクブランク及びその製造方法 - 特許庁
MAGNETIC STORAGE DEVICE AND METHOD FOR MEASURING PHASE SHIFT AMOUNT例文帳に追加
磁気記憶装置及び位相ずれ量測定方法 - 特許庁
PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING LIGHT CONDENSING ELEMENT例文帳に追加
位相シフトマスクおよび集光素子の製造方法 - 特許庁
METHOD AND APPARATUS FOR SIMULTANEOUSLY ESTIMATING PHASE SHIFT AND FREQUENCY SHIFT例文帳に追加
位相偏移および周波数偏移の同時推定方法およびその装置 - 特許庁
PHASE SHIFT RETICLE, ITS MANUFACTURING METHOD, AND INSPECTION METHOD FOR DEFECT THEREIN例文帳に追加
位相シフトレチクルとその製造方法とその欠陥検査方法 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE例文帳に追加
位相シフトマスクの製造方法及び電子デバイスの製造方法 - 特許庁
SELF ALIGNMENT TYPE PHASE SHIFT MASK AND A METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
自己整合型位相シフトマスク及びその製造方法 - 特許庁
SELF ALIGNMENT TYPE PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
自己整合型位相シフトマスク及びその製造方法 - 特許庁
DEVICE AND METHOD FOR INSPECTING PHASE SHIFT MASK例文帳に追加
位相シフトマスク検査装置及び位相シフトマスク検査方法 - 特許庁
HALF-TONE TYPE PHASE SHIFT MASK AND HOLE PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
ハーフトーン型位相シフトマスク及びホールパターン形成方法 - 特許庁
SELF-ALIGNING PHASE SHIFT PHOTOMASK AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
自己整合型位相シフトフォトマスク及びその製造方法 - 特許庁
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